光阻容器及涂布机光阻供应系统的制作方法

本实用新型属于半导体制造领域，具体地涉及一种光阻容器及涂布机光阻供应系统。

背景技术：

TFT-LCD及半导体行业中，光阻剂的应用十分广泛，例如，彩色滤光片的生产就需要光阻剂。但是，在彩色滤光片的生产过程中，经常会产生由于光阻剂涂布不均匀、光阻剂脱落、异物干扰等引起的光阻剂缺失不良的问题。对于这些问题，通常采用光阻剂涂覆的方法进行修理。

光阻剂涂覆需要使用涂布机光阻供应系统，现有的光阻供应系统如图1所示，由依次连接的光阻桶13、中间容器10、排泡装置6、一次过滤器11、注射泵7、压力表8、二次过滤器12以及喷嘴9组成，光阻剂在材质为PE的光阻桶13中经CDA(空气压缩)加压推动进入中间容器10，再依次经过排泡、过滤过程最终从喷嘴喷出。其中，光阻桶13的桶口处有安装压力计和泻压阀，当桶内压力过大时(超过上限值)，泻压阀打开泻压，防止光阻桶13发生爆炸。

但是现有的涂布机光阻供应系统存在以下缺点：①光阻桶13内容易残余光阻，无法实现充分利用；②采用CDA气体加压容易使光阻内混入气泡，造成产品缺陷；③气体加压容易导致光阻桶发生爆炸。

技术实现要素：

本实用新型的目的是为了克服现有技术存在的光阻残余问题，提供一种光阻容器，该容器在自身的形状结构与动力装置的推动力相配合下能够完全将光阻推出，使得容器内无光阻残留，从而有效提高光阻的利用率。

为了实现上述目的，本实用新型一方面提供一种光阻容器，该光阻容器包括：

漏斗式壳体，该漏斗式壳体用于储存光阻，所述漏斗式壳体具有设置在顶部的开口和设置在底部的出液口；

动力装置，该动力装置用于封闭所述开口并对所述储存在所述漏斗式壳体内的光阻加压以推动所述光阻从所述出液口排出；

涂布管路，该涂布管路用于输送光阻并连接于所述出液口；

流量计，该流量计用于监测光阻流量，所述流量计设置在所述涂布管路的靠近所述出液口的位置；

控制单元，该控制单元用于控制所述动力装置操作，所述控制单元与所述流量计电连接。

优选地，所述动力装置为气缸，所述气缸包括缸体和设置在所述缸体内的活塞杆，所述缸体与所述漏斗式壳体呈密封的一体设置。

优选地，所述漏斗式壳体包括圆筒部和设置在所述圆筒部下方的锥斗部，所述圆筒部的顶部完全开放以形成所述开口，所述动力装置包括与所述开口形状适配的挡板、与所述挡板相连的连杆以及驱动该连杆往复运动的驱动件。

优选地，所述圆筒部包括呈阶梯状同轴设置的上桶体和下桶体，所述上桶体的直径小于所述下桶体的直径，所述上桶体的顶部完全开放以形成所述开口，所述下桶体的底部与所述锥斗部相连。

优选地，所述漏斗式壳体为透明壳体。

本实用新型第二方面提供一种涂布机光阻供应系统，包括依次连接的光阻容器、排泡装置、注射泵以及喷嘴，所述注射泵用于将经所述排泡装置处理后的光阻泵送至所述喷嘴，所述光阻容器为上述的光阻容器。

优选地，所述涂布机光阻供应系统包括多个所述光阻容器，每个所述光阻容器分别与所述排泡装置相连。

优选地，所述光阻容器和排泡装置之间设有用于缓存光阻的中间容器。

优选地，所述涂布机光阻供应系统包括用于监测所述注射泵的压力的压力表。

优选地，所述涂布机光阻供应系统包括一次过滤器和二次过滤器，所述一次过滤器设置在所述排泡装置和所述注射泵之间，所述二次过滤器设置在所述注射泵和所述喷嘴之间。

通过上述技术方案，本实用新型光阻容器在动力装置能够封闭漏斗式壳体的开口并且能够对漏斗式壳体内的光阻加压，配合漏斗式壳体的形状，从而基本上能够毫无残留的将光阻推动送出，有效提高光阻的利用率，而且本实用新型光阻容器通过动力装置推动加压替代了传统气体加压方式，能够减少CDA供应费用，避免容器爆炸风险。同时由于无气体加压，也不容易使容器内混入气泡，在重力作用下，即使有气泡混入光阻内也会由于其密度较轻而浮在光阻表面，因此气泡不容易进入涂布管路，进而有助于提高光阻质量。此外，本实用新型在涂布管路的靠近所述出液口的位置设置有为动力装置提供反馈信号的流量计，根据流量数据反馈，使得动力装置实现自动调整以保持稳定的推动力。

附图说明

图1是现有技术中涂布机光阻供应系统的结构示意图；

图2是本实用新型的光阻容器的一种实施方式的结构示意图；

图3是本实用新型的光阻容器的另一种实施方式的结构示意图；

图4是本实用新型的涂布机光阻供应系统的一种实施方式的结构示意图。

附图标记说明

1—漏斗式壳体，2—流量计，3—缸桶，4—活塞杆，5—挡板，6—排泡装置，7—注射泵，8—压力表，9—喷嘴，10—中间容器，11—一次过滤器，12—二次过滤器，13—光阻桶，14—连杆。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。

结合图2、图3，根据本实用新型的一个方面，提供一种光阻容器，该光阻容器包括：

漏斗式壳体1，该漏斗式壳体1用于储存光阻，所述漏斗式壳体1具有设置在顶部的开口和设置在底部的出液口；

动力装置，该动力装置用于封闭所述开口并对所述储存在所述漏斗式壳体1内的光阻加压以推动所述光阻从所述出液口排出；

涂布管路，该涂布管路用于输送光阻并连接于所述出液口；

流量计2，该流量计2用于监测光阻流量，所述流量计2设置在所述涂布管路的靠近所述出液口的位置；

控制单元，该控制单元用于控制所述动力装置操作，所述控制单元与所述流量计2电连接。

本实用新型将光阻储存在漏斗式壳体1中，利用光阻自身重力，在动力装置的推动力与漏斗式壳体1的形状结构相配合条件下能够毫无残留的将光阻从漏斗式壳体1底部的出液口排出，有效提高光阻的利用率，实现光阻的充分利用。本实用新型的光阻容器通过动力装置推动加压替代了传统气体加压方式，能够减少CDA供应费用，避免容器爆炸风险，同时无气体加压，也不容易使容器内混入气泡，且在重力作用下，即使有气泡混入光阻内也会由于其密度较轻而浮在光阻表面，因此气泡不容易进入涂布管路，进而能够提高光阻质量。

此外，本实用新型在涂布管路的靠近所述出液口的位置设置有为动力装置提供反馈信号的流量计，根据流量数据反馈，使得动力装置实现自动调整以保持稳定的推动力。使用时，先根据需要设定漏斗式壳体1出液口光阻流量范围，通过流量计2实时监控光阻流量，并将信号反馈给控制单元控制动力装置的操作；当流量计2监测到光阻流量低于设定流量范围的最低值时，控制单元将控制动力装置增加推动力以加大推动流量，当流量计2监测到光阻流量超出设定流量范围的最高值时，控制单元将控制动力装置降低推动力以减小推动流量；由此，根据流量计的信号反馈，可以实现动力装置的自动调整以保持稳定的推动力，从而使得漏斗式壳体1出液口所排出的光阻始终维持在合适的流量范围之内。

动力装置可以有多种选择，其目的在于封闭所述漏斗式壳体1的开口并对储存在所述漏斗式壳体1内是光阻加压以推动光阻从所述出液口排出。作为一种优选，结合图2，所述动力装置为气缸，所述气缸包括缸体3和设置在所述缸体3内的活塞杆4，所述缸体3与所述漏斗式壳体1呈密封的一体设置(例如一体成型或密封地固定为一体)，通过缸体3驱动活塞杆4往复运动对漏斗式壳体1内部进行加压，所述控制单元可以控制活塞杆4进行下压或上提的运动。作为另一种优选，结合图3，所述动力装置包括与所述开口形状适配的挡板5、与所述挡板5相连的连杆14以及驱动该连杆14往复运动的驱动件，通过驱动件驱动连杆14往复运动进而带动挡板5往复运动对漏斗式壳体1内部光阻进行加压，驱动件可以为电机等，所述控制单元用于控制驱动件的工作，具体的，可控制电机正转反转带动连杆14进行下压或上提的运动。

进一步的，所述漏斗式壳体1包括圆筒部和设置在所述圆筒部下方的锥斗部，所述圆筒部的顶部完全开放以形成所述开口，该种结构下，动力装置设置要与之相配合，具体的，所述气缸的缸体3与所述圆筒部呈密封的一体设置，所述挡板5与所述圆筒部顶部开口形状相适配。

值得注意的是，漏斗式壳体1上部的圆筒部结构可根据需要自行设置，只要保证下方为锥斗部便于加压推动光阻流出即可。作为其中一种实施方式，所述圆筒部可以包括呈阶梯状同轴设置的上桶体和下桶体，所述上桶体的直径小于所述下桶体的直径，所述上桶体的顶部完全开放以形成所述开口，所述下桶体的底部与所述锥斗部相连，所述动力装置用于封闭所述上桶体的顶部开口。具体的，所述气缸的缸体3与所述上桶体呈密封的一体设置，所述挡板5与所述上桶体顶部开口形状相适配。

进一步的，现有技术中通常采用非透明的光阻桶13，无法直观观察桶内光阻剩余量，需依靠重量计算使用量。本实用新型中，优选地，所述漏斗式壳体1为透明壳体，便于直观观察所述漏斗式壳体1内光阻剩余量，无需使用重量计。

本实用新型第二方面提供的一种涂布机光阻供应系统，如图4所示，包括依次连接的光阻容器、排泡装置6、注射泵7以及喷嘴9，所述注射泵7用于将经所述排泡装置6处理后的光阻泵送至所述喷嘴9，所述光阻容器为上述的光阻容器，因此能够实现上述光阻容器的全部功能并能够产生同样的效果。

本系统在使用时，光阻从光阻容器中漏斗式壳体1的底部出液口流出，进入排泡装置6进行排泡，随后在注射泵7推动下从喷嘴9喷出，开始进行涂布。

进一步的，为加大光阻供应，所述涂布机光阻供应系统包括多个所述光阻容器，每个所述光阻容器分别与所述排泡装置6相连。

进一步的，所述光阻容器和排泡装置6之间设有中间容器10，所述中间容器能够起到将多个光阻容器中的光阻均匀混合、进一步缓存的作用。

为了监测注射泵压力，保证注射过程稳定，所述涂布机光阻供应系统还包括压力表8，本实施例中，所述压力表8设置在注射泵7和喷嘴9之间。

此外，为了过滤光阻内的杂质，提升光阻质量，所述涂布机光阻供应系统包括一次过滤器11和二次过滤器12，所述一次过滤器11设置在所述排泡装置6和所述注射泵7之间，所述二次过滤器12设置在所述注射泵7和所述喷嘴9之间。通过二次过滤杂质，能够有效提高光阻质量。

实际应用中，取漏斗式壳体1容量为35L的光阻容器，实际可用容量为20L，使用过程中设定流量计2流量为100～200cc/min，经试验能够涂布片数为517片，如使用现有技术的涂布机光阻供应系统，同样量的光阻所能够涂布片数仅为475片。由此可见，通过在系统中设置本实用新型的光阻容器，实现光阻的充分利用，进而增加了系统所能涂布片数。

以上结合附图详细描述了本实用新型的优选实施方式，但是，本实用新型并不限于此。在本实用新型的技术构思范围内，可以对本实用新型的技术方案进行多种简单变型，包括各个具体技术特征以任何合适的方式进行组合，为了避免不必要的重复，本实用新型对各种可能的组合方式不再另行说明。但这些简单变型和组合同样应当视为本实用新型所公开的内容，均属于本实用新型的保护范围。