一种低汞触媒生产用活性炭去离子水水洗装置的制作方法

文档序号:16844913发布日期:2019-02-12 22:01阅读:468来源:国知局
一种低汞触媒生产用活性炭去离子水水洗装置的制作方法

本实用新型涉及一种低汞触媒生产用活性炭去离子水水洗装置,具体地说 ,涉及一种清洗干净的低汞触媒生产用活性炭去离子水水洗装置,属于低汞触媒生产技术领域。



背景技术:

负压式浸泡式低汞触媒的制备方法,包括以下步骤:负压吸附、均匀吸附、催化剂的获得,在生产过程需要将活性炭浸渍在一定浓度的氯化物溶液中,并将活性炭吸附均匀的氯化物,活性炭在氯化物溶液中浸泡至氯化物溶液的浓度低于0.4%时,将氯化物溶液排出至废液槽,所得氯化物溶液为氯化物循环残液,所得活性炭为吸附有氯化物的活性炭,将吸附有氯化物的活性炭转移至温度低于20℃且避光干燥通风的地方静置8~15天,得到半干燥的催化剂,将半干燥的催化剂转移至干燥设备中,利用热空气对流加热的方式将半干燥的催化剂的含水量降至小于或者等于0.3%,所得即为成品低汞触媒。

活性炭吸附中所述干燥活性炭是由以下步骤获得:

去离子水洗涤:将一定大小的活性炭首先放置于去离子水中冲洗一次,期间清水保持流动;盐酸洗涤:从清水中取出活性炭,将活性炭放置于浓度为3.5~5%的盐酸溶液中冲洗,期间盐酸溶液保持流动,重复使用浓度为3.5~5%的盐酸溶液冲洗活性炭,至冲洗前和冲洗 后的盐酸溶液的浓度差小于或者等于5%时停止冲洗,然后从盐酸溶液中取出活性炭,将活性炭脱水干燥处理至活性炭含水量小于0.3%,所得为干燥活性炭。

在去离子水洗涤步骤中,通常是将一定大小的活性炭放置在水洗槽内,用流动的去离子水冲洗活性炭,冲洗完毕后将活性炭从水洗槽内捞出,由于活性炭内掺杂细小的杂质,在活性炭从水洗槽内捞出时,容易附着在活性炭上,造成活性炭清洗不干净,同时,水洗槽的清洗方式效率较低,出料时费事费力。



技术实现要素:

本实用新型要解决的技术问题是针对以上不足,提供一种低汞触媒生产用活性炭去离子水水洗装置,该去离子水水洗装置可以彻底的清洗活性炭,采用滚动清洗的方式水洗效率较高,同时,立式的去离子水水洗装置使得水洗赶紧的活性炭出料方便。

为解决以上技术问题,本实用新型采用以下技术方案:一种低汞触媒生产用活性炭去离子水水洗装置,其特征在于:包括立式的水洗本体,水洗本体的上部设置有入料斗;

所述水洗本体的上部还设置有去离子水进管,去离子水进管用于向水洗本体的内部添加去离子水;

所述水洗本体的下部设置有去离子水出管,去离子水出管用于将水洗活性炭后的去离子水从水洗本体排出;

所述水洗本体的下部还设置有出料口,出料口上设置有可开合的密封盖,出料口上设置有密封圈;

所述水洗本体的内部设置有旋转筒,旋转筒的周壁上设置有过滤孔,旋转筒的内部设置有吸附网,吸附网为‘S’形,吸附网的夹层内固定设置有吸附滤棉,吸附滤棉为‘S’形。

一种优化的方案,所述水洗本体的内部还设置有引导构件,引导构件为筒状,引导构件上开口的宽度大于下开口的宽度,引导构件的筒壁倾斜设置,引导构件的周壁上设置有滤水孔。

进一步地,所述去离子水进管延伸至水洗本体的内部并弯折向下,去离子水进管上设置有管道球阀,管道球阀可控制进入水洗本体内部去离子水的水量,去离子水进管具有一个进水端和一个出水端,去离子水进管的出水端设置有过滤网,过滤网可防止水洗活性炭进入去离子水进管的内部。

进一步地,所述去离子水出管延伸至水洗本体的内部并弯折向下,去离子水出管上设置有管道球阀,管道球阀可控制从水洗本体内部流出的去离子水的水量,去离子水出管具有一个进水端和一个出水端,去离子水出管的进水端设置有过滤网,过滤网可防止水洗活性炭进入去离子水出管的内部。

进一步地,所述旋转筒的两端设置有上旋转轴承和下旋转轴承,上旋转轴承与驱动电机直连,驱动电机带动旋转筒旋转。

进一步地,所述水洗本体的底部设置有支撑座,支撑座用于支撑水洗本体,水洗本体的底部还设置有固定座,支撑座为四个,四个支撑座均匀设置在水洗本体的底部,固定座设置在水洗本体的底部中心处。

进一步地,所述密封盖的下部设置有连接臂,连接臂弯折设置,连接臂的一端与密封盖固定连接,连接臂的另一端与气缸的伸缩端固定连接,卸料时,气缸带动连接臂下移,连接臂带动密封盖下移,出料口进行水洗活性炭的卸料。

本实用新型采用以上技术方案后,与现有技术相比,具有以下优点:一种低汞触媒生产用活性炭去离子水水洗装置,包括立式的水洗本体,水洗本体的上部设置有入料斗,水洗本体的上部还设置有去离子水进管,水洗本体的下部设置有去离子水出管, 水洗本体的下部还设置有出料口,出料口上设置有可开合的密封盖水洗本体的内部设置有旋转筒,旋转筒的周壁上设置有过滤孔,旋转筒的内部设置有吸附网,吸附网的夹层内固定设置有吸附滤棉;该去离子水水洗装置可以彻底的清洗活性炭,采用滚动清洗的方式水洗效率较高,同时,立式的去离子水水洗装置使得水洗赶紧的活性炭出料方便。

下面结合附图和实施例对本实用新型进行详细说明。

附图说明

附图1是本实用新型实施例中活性炭去离子水水洗装置的结构示意图;

附图2是本实用新型实施例中活性炭去离子水水洗装置的结构剖视图;

图中,

1-水洗本体,2-入料斗,3-去离子水进管,4-去离子水出管,5-出料口,6-密封盖,7-旋转筒,8-过滤孔,9-吸附网,91-吸附滤棉,10-管道球阀,11-过滤网,12-上旋转轴承,13-下旋转轴承,14-驱动电机,15-引导构件,16-滤水孔,17-支撑座,18-固定座,19-连接臂,20-气缸。

具体实施方式

为了对本实用新型的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解,现对照附图说明本实用新型的具体实施方式。

实施例,如图1、图2所示,一种低汞触媒生产用活性炭去离子水水洗装置,包括立式的水洗本体1,水洗本体1的上部设置有入料斗2,入料斗2通过入料口与水洗本体1相连通,水洗本体1的上部还设置有去离子水进管3,去离子水进管3用于向水洗本体1的内部添加去离子水;

水洗本体1的下部设置有去离子水出管4,去离子水出管4用于将水洗活性炭后的去离子水从水洗本体1排出,水洗本体1的下部还设置有出料口5,出料口5上设置有可开合的密封盖6,出料口5上设置有密封圈;

水洗本体1的内部设置有旋转筒7,旋转筒7的周壁上设置有过滤孔8,水洗活性炭不能通过过滤孔8进入旋转筒7的内部,水洗活性炭内的细小的杂质可通过过滤孔8进入旋转筒7的内部,过滤孔8的宽度小于活性炭的直径。

旋转筒7的内部设置有吸附网9,吸附网9为‘S’形,吸附网9的夹层内固定设置有吸附滤棉91,吸附滤棉91为‘S’形,‘S’形的吸附滤棉91可增加吸附面积,吸附滤棉91竖直设置,细小的杂质可通过过滤孔8进入旋转筒7的内部,并将细小的杂质吸附在吸附滤棉91,防止细小的杂质再次过滤至旋转筒7的外部,可以有效的避免细小的杂质附着在水洗活性炭上,旋转的旋转筒7带动水洗本体1内的水洗活性炭运动,可以将水洗活性炭彻底的清洗,采用滚动清洗的方式水洗效率较高,同时,立式的去离子水水洗装置使得水洗赶紧的活性炭出料方便。

去离子水进管3延伸至水洗本体1的内部并弯折向下,去离子水进管3上设置有管道球阀10,管道球阀10可控制进入水洗本体1内部去离子水的水量,去离子水进管3具有一个进水端和一个出水端,去离子水进管3的出水端设置有过滤网11,过滤网11可防止水洗活性炭进入去离子水进管3的内部;

去离子水出管4延伸至水洗本体1的内部并弯折向下,去离子水出管4上设置有管道球阀10,管道球阀10可控制从水洗本体1内部流出的去离子水的水量,去离子水出管4具有一个进水端和一个出水端,去离子水出管4的进水端设置有过滤网11,过滤网11可防止水洗活性炭进入去离子水出管4的内部。

旋转筒7的两端设置有上旋转轴承12和下旋转轴承13,上旋转轴承12与驱动电机14直连,驱动电机14带动旋转筒7旋转。

水洗本体1的内部还设置有引导构件15,引导构件15为筒状,引导构件15上开口的宽度大于下开口的宽度,引导构件15的筒壁倾斜设置,引导构件15的周壁上设置有滤水孔16,滤水孔16的宽度小于活性炭的直径。

水洗本体1的底部设置有支撑座17,支撑座17用于支撑水洗本体1,水洗本体1的底部还设置有固定座18,支撑座17为四个,四个支撑座17均匀设置在水洗本体1的底部,固定座18设置在水洗本体1的底部中心处。

密封盖6的下部设置有连接臂19,连接臂19弯折设置,连接臂19的一端与密封盖6固定连接,连接臂19的另一端与气缸20的伸缩端固定连接,卸料时,气缸20带动连接臂19下移,连接臂19带动密封盖6下移,出料口5进行水洗活性炭的卸料。

使用时:活性炭从入料斗2通过入料口进入水洗本体1的内部,此时,密封盖6将出料口5进行密封,打开管道球阀10,通过去离子水进管3向水洗本体1的内部加去离子水,将水洗本体1的内部加满去离子水,启动驱动电机14,驱动电机14带动旋转筒7旋转,打开管道球阀10,通过去离子水出管4经水洗的去离子水流动起来,细小的杂质通过过滤孔8进入旋转筒7的内部,进行细小的杂质的过滤,清洗完毕后,关闭去离子水进管3上的管道球阀,去离子水出管4处没有去离子水流出时,打开密封盖6,从出料口5将水洗干净的活性炭卸料。

该去离子水水洗装置可以彻底的清洗活性炭,采用滚动清洗的方式水洗效率较高,同时,立式的去离子水水洗装置使得水洗赶紧的活性炭出料方便。

本实用新型实施例的附图中相同或相似的标号对应相同或相似的部件;在本实用新型的描述中,需要理解的是,若有术语“上”、“下”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此附图中描述位置关系的用语仅用于示例性说明,不能理解为对本专利的限制。

此外,若有“第一”、“第二”等术语仅用于描述目的,主要是用于区分不同的装置、元件或组成部分(具体的种类和构造可能相同也可能不同),并非用于表明或暗示所指示装置、元件或组成部分的相对重要性和数量,而不能理解为指示或者暗示相对重要性。

上述的具体实施方式只是示例性的,是为了使本领域技术人员能够更好的理解本实用新型内容,不应理解为是对本实用新型保护范围的限制,只要是根据本实用新型技术方案所作的改进,均落入本实用新型的保护范围。

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