一种热熔胶反应釜中均质搅拌组件的制作方法

文档序号:17527327发布日期:2019-04-29 13:08阅读:395来源:国知局
一种热熔胶反应釜中均质搅拌组件的制作方法

本实用新型属于反应釜中均质搅拌组件技术领域,具体涉及一种热熔胶反应釜中均质搅拌组件。



背景技术:

热熔胶是一种可塑性的粘合剂,在一定温度范围内其物理状态随温度改变而改变,而化学特性不变,其无毒无味,属环保型化学产品,因其产品本身系固体,便于包装、运输和存储,以及生产工艺简单,高附加值,黏合强度大、速度快等优点而备受青睐。热熔胶反应釜中均质搅拌组件中的均质头通过转子高速平稳的旋转,形成高频、强烈的圆周切线速度、角向速度等综合动能。热熔胶反应釜中均质搅拌组件采用不锈钢系统,可有效地分离护体样品表面和被包含在内的微生物均一样品。现有技术的热熔胶反应釜中均质搅拌组件在涡轮底盘顶面或者底面缺乏必要折流或者均质结构,遇到粘性较大的液体时均质效果较差,而且由于涡轮底盘为全封闭结构,形成的涡流形态较差。



技术实现要素:

(1)技术方案

为了克服现有技术的不足,本实用新型提供一种热熔胶反应釜中均质搅拌组件,包括中心搅拌轴、涡轮底盘和涡轮叶片,所述中心搅拌轴的下端固定在所述涡轮底盘顶面的中心位置,所述涡轮底盘的环形侧面设有所述涡轮叶片,所述涡轮底盘的圆周顶面边缘处设有向上延伸的凸环,所述凸环上设有所述涡轮叶片,所述涡轮叶片的最外端侧面为弧面结构,并且在所述涡轮叶片上设有溢流长方孔,所述涡轮底盘的中心位置设有法兰盘,所述中心搅拌轴的下端固定在所述法兰盘上,所述中心搅拌轴的上端还设置可拆卸的螺纹套,所述涡轮底盘上设有呈环形阵列排布的溢流孔,所述溢流孔的外围设有呈环形阵列排布的均质杆,所述涡轮底盘的底面设有扁平状四棱柱折流叶片。

进一步地,所述涡轮底盘的外直径为35cm,所述凸环向上延伸的高度不超过8cm。

进一步地,所述涡轮底盘上设有12个呈环形阵列排布的溢流孔,并且每个所述溢流孔以相等弧度排列设置,每个所述溢流孔的孔内径在1~2cm之间。

进一步地,所述凸环上设有9个所述涡轮叶片,并且每个所述涡轮叶片以相等弧度排列设置。

进一步地,所述溢流孔的外围设有6个呈环形阵列排布的均质杆,每个所述均质杆以相等弧度排列设置,并且所述均质杆的高度在8~10cm之间。

本实用新型的工作原理:本热熔胶反应釜中均质搅拌组件在实际工作中,涡轮叶片的最外端侧面为弧面结构,在涡轮叶片上设有溢流长方孔,并且涡轮底盘上设有呈环形阵列排布的溢流孔,能够有效地流通尚未均质且残留在涡轮底盘顶面的热熔胶,而且由于涡轮底盘的底面设有扁平状四棱柱折流叶片,溢流孔的外围设有呈环形阵列排布的均质杆,折流效果较好,能够进一步提高热熔胶的混合度。

有益效果

本实用新型的有益效果:相比于现有技术,本实用新型在涡轮底盘上设有呈环形阵列排布的溢流孔,能够有效地流通尚未均质且残留在涡轮底盘顶面的热熔胶,而且由于涡轮底盘的底面设有扁平状四棱柱折流叶片,溢流孔的外围设有呈环形阵列排布的均质杆,折流效果较好,能够进一步提高热熔胶的混合度,解决了现有技术的热熔胶反应釜中均质搅拌组件在涡轮底盘顶面或者底面缺乏必要折流或者均质结构,遇到粘性较大的液体时均质效果较差,而且由于涡轮底盘为全封闭结构,形成的涡流形态较差的技术问题。

附图说明

图1是热熔胶反应釜中均质搅拌组件的立体结构示意图;

图2是热熔胶反应釜中均质搅拌组件的俯视结构示意图;

图3是热熔胶反应釜中均质搅拌组件的仰视结构示意图;

图4是热熔胶反应釜中均质搅拌组件的局部放大结构示意图。

具体实施方式

下面结合实施例对本实用新型作进一步的说明。

实施例一

如图1~4所示,本实施案例提供一种热熔胶反应釜中均质搅拌组件,包括中心搅拌轴1、涡轮底盘2和涡轮叶片3,所述中心搅拌轴1的下端固定在所述涡轮底盘2顶面的中心位置,所述涡轮底盘2的环形侧面设有所述涡轮叶片3,所述涡轮底盘2的圆周顶面边缘处设有向上延伸的凸环21,所述凸环21上设有所述涡轮叶片3,所述涡轮叶片3的最外端侧面为弧面结构,并且在所述涡轮叶片 3上设有溢流长方孔31,所述涡轮底盘2的中心位置设有法兰盘24,所述中心搅拌轴1的下端固定在所述法兰盘24上,所述中心搅拌轴1的上端还设置可拆卸的螺纹套22,所述涡轮底盘2上设有呈环形阵列排布的溢流孔23,所述溢流孔23的外围设有呈环形阵列排布的均质杆4,所述涡轮底盘2的底面设有扁平状四棱柱折流叶片5。

在本实施例中,所述涡轮底盘2的外直径为35cm,所述凸环21向上延伸的高度不超过8cm,所述涡轮底盘2上设有12个呈环形阵列排布的溢流孔23,并且每个所述溢流孔23以相等弧度排列设置,每个所述溢流孔23的孔内径在 1~2cm之间,所述凸环21上设有9个所述涡轮叶片3,并且每个所述涡轮叶片3 以相等弧度排列设置,所述溢流孔23的外围设有6个呈环形阵列排布的均质杆4,每个所述均质杆4以相等弧度排列设置,并且所述均质杆4的高度在8~10cm之间。本热熔胶反应釜中均质搅拌组件在实际工作中,涡轮叶片3的最外端侧面为弧面结构,在涡轮叶片3上设有溢流长方孔31,并且涡轮底盘2上设有呈环形阵列排布的溢流孔23,能够有效地流通尚未均质且残留在涡轮底盘顶面的热熔胶,而且由于涡轮底盘2的底面设有扁平状四棱柱折流叶片5,溢流孔23的外围设有呈环形阵列排布的均质杆4,折流效果较好,能够进一步提高热熔胶的混合度。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的优选实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形、改进及替代,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

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