一种自动调节水量的水浴箱的制作方法

文档序号:16715675发布日期:2019-01-22 23:13阅读:408来源:国知局
一种自动调节水量的水浴箱的制作方法

本实用新型涉及水浴箱技术领域,尤其涉及一种自动调节水量的水浴箱。



背景技术:

在生物试验中,经常需要水浴处理,水浴处理一般通过水浴箱,人们将需要进行试验的物质放置于水浴箱中,进行加热,由于需要保证生物的活性,因此需要对水浴箱进行加热,长时间的试验过程,使得水浴箱内部的水分不断地蒸发,水浴箱中的水不断减少,极端情况下,甚至会出现干烧等情况,因此,在水浴箱中进行生物试验,就必须要保证箱内的水位合适,而人工观察并及时的补充水是不太现实的,因此就需要一种装置,可以保证及时的对水浴箱进行水量调节,以保证试验的结果准确。



技术实现要素:

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种自动调节水量的水浴箱。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种自动调节水量的水浴箱,包括箱体,所述箱体的底部内壁上通过紧固螺钉安装有试验槽,箱体的内壁一侧螺纹连接有加热管,加热管的另一端向箱体的内部延伸,加热管位于试验槽的外侧,箱体的另一侧的内壁上开设有进水口,进水口的端口内侧通过紧固螺钉安装有限位板,限位板内滑动连接有闸板,箱体的顶部内壁上设有滑槽,滑槽的一端与箱体的侧壁之间存在间隙,滑槽内放置有滑块,滑块与滑槽成滑动配合,滑块通过固定杆与闸板相连接,滑槽的另一端设有导向柱,导向柱螺纹连接于箱体的顶部内壁上,导向柱竖直向下延伸,导向柱上套有浮块,浮块通过连接杆与滑块相连接。

优选的,所述限位板上开设有导向槽,导向槽内放置有闸板,闸板与导向槽成滑动配合,导向槽的槽壁底部开设有通孔,通孔贯通于限位板,且通孔与进水口连接。

优选的,所述浮块的密度小于水,浮块的材料包括木块和塑料泡沫,且浮块与导向柱滑动连接。

优选的,所述箱体的底部内壁上预设有出水口,且出水口位于试验槽的外侧。

本实用新型的有益效果是:水浴箱中水位的不断变化,将会引起浮块沿导向柱上下滑动,在浮块上下滑动的过程中,通过滑块的传动作用,可以确保带动闸板打开与关闭进水口,从而达到自动调节水量的效果,确保箱体内部的水量保持稳定,方便水浴试验的实验环境,本装置结构简单,应用于实际,方便试验中及时的对水浴箱水量进行自动调节,具有实用性。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种自动调节水量的水浴箱的主视结构示意图;

图2为本实用新型提出的一种自动调节水量的水浴箱的限位板结构示意图。

图中:1箱体、2试验槽、3加热管、4限位板、5导向槽、6闸板、7固定杆、8滑槽、9导向柱、10滑块、11连接杆、12浮块、13进水口。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。

参照图1-2,一种自动调节水量的水浴箱,包括箱体1,箱体1的底部内壁上通过紧固螺钉安装有试验槽2,箱体1的内壁一侧螺纹连接有加热管3,加热管3的另一端向箱体1的内部延伸,加热管3位于试验槽2的外侧,箱体1的另一侧的内壁上开设有进水口13,进水口13的端口内侧通过紧固螺钉安装有限位板4,限位板4内滑动连接有闸板6,箱体1的顶部内壁上设有滑槽8,滑槽8的一端与箱体1的侧壁之间存在间隙,滑槽8内放置有滑块10,滑块10与滑槽8成滑动配合,滑块10通过固定杆7与闸板6相连接,滑槽8的另一端设有导向柱9,导向柱9螺纹连接于箱体1的顶部内壁上,导向柱9竖直向下延伸,导向柱9上套有浮块12,浮块12通过连接杆11与滑块10相连接,限位板4上开设有导向槽5,导向槽5内放置有闸板6,闸板6与导向槽5成滑动配合,导向槽5的槽壁底部开设有通孔,通孔贯通于限位板4,且通孔与进水口13连接,浮块12的密度小于水,浮块12的材料包括木块和塑料泡沫,且浮块12与导向柱9滑动连接,箱体1的底部内壁上预设有出水口,且出水口位于试验槽2的外侧。

本实施例中,生物试验一般需要将实验的物质放置于试验槽2中进行水浴加热,随着试验进程的深入,水浴箱中的水不断减少,这样带来的结果是浮块12沿着导向柱9向下滑动,而浮块9与滑块10通过连接杆11相连接,这样滑块10便会沿着滑槽8向导向柱9的一侧滑动,同时由于滑块10与闸板6之间通过固定杆7连接,因此最终达到的效果是带动闸板6沿导向槽6向上滑动,使得水从进水口13进入箱体1内,此时,由于水位的不断上升,将浮块12抬起,而浮块12抬升,将滑块10向着远离导向柱9的一侧推动,并最终带动闸板6向下,使得闸板6封闭进水口,自动调节水量,确保箱体1内部的水量保持稳定,方便水浴试验的实验环境。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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