一种氯化反应设备的制作方法

文档序号:17560693发布日期:2019-04-30 19:01阅读:627来源:国知局
一种氯化反应设备的制作方法

本实用新型属于化工设备领域,尤其涉及一种氯化反应设备。



背景技术:

现有氯化反应设备中,通氯设备为插底管通入氯气或加入氯酸钠溶液,由于氯化试剂氯气或氯酸钠溶液集中进入反应体系,导致副反应比较明显或氯气溢出;同时由于氯化反应釜多为搪瓷反应釜,釜内壁不能进行加工,导致引入气体分布器困难,现有的搅拌桨式分布器,由于搅拌桨处于釜低且表面积有限,不能充分分布气体。



技术实现要素:

为了解决气体分布器分布不充分,以及搪瓷釜固定气体分布设备困难的问题,本实用新型提出一种氯化反应设备,该设备实现搪瓷釜气体分布器的引入,气体分布器充分分布,避免反应局部氯气浓度过大而导致的副反应或氯气溢出而造成的尾气污染问题,提高氯化反应的收率、效率及降低尾气氯气含量。

技术方案如下:

一种氯化反应设备,包括:氯化反应釜、视镜、固定杆、氯化试剂入口、螺旋盘管式气体分布器、微孔、搅拌设备、反应釜入孔,所述氯化反应釜上设有反应釜入孔,所述反应釜入孔上设置有所述视镜,所述固定杆固定安装在所述氯化反应釜内,所述氯化反应釜上设置有所述氯化试剂入口,所述螺旋盘管式气体分布器呈螺旋状内置于所述氯化反应釜内、与所述氯化试剂入口连接,所述螺旋盘管式气体分布器固定在所述固定杆上,所述螺旋盘管式气体分布器上设置有若干微孔,所述搅拌设备内置于所述氯化反应釜中。

进一步的,所述螺旋盘管式气体分布器上的微孔自上而下密度逐渐增大。

进一步的,所述搅拌设备安装在所述氯化反应釜顶部中心位置,所述氯化试剂入口和所述反应釜入孔设于所述氯化反应釜顶部,二者分别设于所述搅拌设备的两端。

进一步的,所述螺旋盘管式气体分布器盘旋环绕在所述搅拌设备周围。

进一步的,所述氯化反应釜采用搪瓷釜。

本实用新型的有益效果是:

本实用新型所述的氯化反应设备将气体分布器通过固定杆固定在釜内,固定杆固定在反应釜人孔处,实现搪瓷釜气体分布器的引入,同时采用螺旋盘管式气体分布器进行通氯,避免反应局部氯气浓度过大而导致的副反应或氯气溢出而造成的尾气污染问题,提高氯化反应的收率、效率及降低尾气氯气含量。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图;

图中附图标记如下:1、氯化反应釜;2、视镜;3、固定杆;4、氯化试剂入口;5、螺旋盘管式气体分布器;6、微孔;7、搅拌设备;8、反应釜入孔。

具体实施方式

下面结合附图1对氯化反应设备做进一步说明。

实施例1

一种氯化反应设备,包括:氯化反应釜1、视镜2、固定杆3、氯化试剂入口4、螺旋盘管式气体分布器5、微孔6,搅拌设备7,反应釜入孔8,所述氯化反应釜1上设有反应釜入孔8,所述反应釜入孔8上设置有所述视镜2,所述固定杆3固定安装在所述氯化反应釜1内,所述氯化反应釜1上设置有所述氯化试剂入口4,所述螺旋盘管式气体分布器5呈螺旋状内置于所述氯化反应釜1内、与所述氯化试剂入口4连接,所述螺旋盘管式气体分布器5固定在所述固定杆3上,所述螺旋盘管式气体分布器5上设置有若干微孔6,所述搅拌设备7内置于所述氯化反应釜1中。

所述螺旋盘管式气体分布器5上的微孔6自上而下密度逐渐增大。将螺旋盘管式气体分布器5通过固定杆3固定在氯化反应釜1内,固定杆3固定在反应釜人孔处,实现气体分布器的引入。

实施例2

一种氯化反应设备,包括:氯化反应釜1、视镜2、固定杆3、氯化试剂入口4、螺旋盘管式气体分布器5、微孔6,搅拌设备7,反应釜入孔8,所述氯化反应釜1上设有反应釜入孔8,所述反应釜入孔8上设置有所述视镜2,所述固定杆3固定安装在所述氯化反应釜1内,所述氯化反应釜1上设置有所述氯化试剂入口4,所述螺旋盘管式气体分布器5呈螺旋状内置于所述氯化反应釜1内、与所述氯化试剂入口4连接,所述螺旋盘管式气体分布器5固定在所述固定杆3上,所述螺旋盘管式气体分布器5上设置有若干微孔6,所述搅拌设备7内置于所述氯化反应釜1中;所述氯化反应釜1采用搪瓷釜。所述固定杆3采用钛合金材质,钛合金具有耐腐蚀的特点。

所述螺旋盘管式气体分布器5上的微孔6自上而下密度逐渐增大。所述搅拌设备7安装在所述氯化反应釜1顶部中心位置,所述氯化试剂入口4和所述反应釜入孔8设于所述氯化反应釜1顶部,二者分别设于所述搅拌设备的两端。所述螺旋盘管式气体分布器5盘旋环绕在所述搅拌设备7周围。采用螺旋盘管式气体分布器5进行通氯,在螺旋盘管式气体分布器5设有微孔6,并且微孔6的密度之上而下逐渐增大,避免反应局部氯气浓度过大而导致的副反应或氯气溢出而造成的尾气污染问题,提高氯化反应的收率、效率及降低尾气氯气含量。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型披露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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