光阻过滤器使用周期的监控方法、系统及光阻供给系统与流程

1.本发明涉及半导体制造领域，特别涉及一种光阻过滤器使用周期的监控方法、系统及光阻供给系统。


背景技术：

2.在半导体晶片或液晶用玻璃基板等的表面上，由光刻工序和蚀刻工序制作微细电路图案。在光刻工序中，使用光阻供给装置将光阻(也被称为光刻胶)等液体涂覆在晶片或玻璃基板的表面上，收容在供给瓶内的光阻通过泵抽吸并通过过滤器等从喷嘴涂覆到晶片等被涂覆物上。目前，光阻的供给系统中，光阻过滤器一般是根据厂商的建议定义使用周期，而不能准确获取过滤器的使用周期,这往往导致过滤器未充分发挥过滤功能即被丢弃，造成资源浪费，或者导致过度使用过滤器而致使光阻在被涂覆物上出现图形缺陷,影响到最终半导体产品的合格率和质量,也同时影响半导体制程工艺的产线、生产率情况。


技术实现要素：

3.鉴于此，本发明实施例的目的是提供一种光阻过滤器使用周期的监控方法、系统及光阻供给系统，根据本发明实施例可以有效并准确的定义出所述光阻过滤器使用周期，从而降低半导体产品的缺陷。
4.本发明的一些实施例提供了一种光阻过滤器使用周期的监控方法，包括：提供一光阻过滤器，所述光阻过滤器截留光阻内的颗粒物，以过滤所述光阻；运行所述光阻过滤器；获取所述光阻过滤器的过滤状态，并判断所述过滤状态是否达到预设定的第一阈值；如果否，返回继续运行所述光阻过滤器；如果是，获取所述光阻过滤器内所述颗粒物的状态；判断所述颗粒物的状态是否达到预设定的第二阈值；如果否，返回继续运行所述光阻过滤器；如果是，停止运行所述光阻过滤器，并抓取所述光阻过滤器当前的过滤状态为所述光阻过滤器使用周期。
5.在一些实施例中，所述方法还包括：对所述当前的过滤状态发出警报，以提示停止运行所述光阻过滤器。
6.在一些实施例中，所述获取所述光阻过滤器的过滤状态为包括：实时获取所述光阻过滤器的过滤状态；或，定时获取所述光阻过滤器的过滤状态。
7.在一些实施例中，所述过滤状态为所述光阻过滤器的过滤量或过滤时间，所述第一阈值分别为预设定过滤量值或过滤时间值。
8.在一些实施例中，所述过滤状态包括所述光阻过滤器的过滤时间和过滤量，所述第一阈值包括预设定的过滤时间值和过滤量值；其中，判断所述过滤状态是否达到预设定的第一阈值包括：以更先达到所述预设定的过滤时间值和过滤量值中的一者进行所述第一阈值的判断。
9.在一些实施例中，所述颗粒物的状态包括颗粒物的数量和/或颗粒物的粒径。
10.在一些实施例中，获取所述光阻过滤器内所述颗粒物的状态包括：
11.实时获取所述光阻过滤器内所述颗粒物的状态；或，
12.定时获取所述光阻过滤器内所述颗粒物的状态。
13.本发明的一些实施例还提供了一种光阻过滤器使用周期的监控系统，所述监控系统监控光阻过滤器，所述光阻过滤器截留光阻内的颗粒物，以过滤所述光阻，所述监控系统包括：第一数据收集单元，获取所述光阻过滤器的过滤状态值；第一比对单元，用于提取数据库中预设定的第一阈值，并和所述第一数据收集单元获取的所述过滤状态值进行比对，判断所述过滤状态是否达到预设定的第一阈值；如果否，返回继续运行所述光阻过滤器；如果是，获取所述光阻过滤器内所述颗粒物的状态值；第一输出单元，将所述第一比对单元的比对结果输出至所述光阻过滤器，驱动调整所述光阻过滤器；第二数据收集单元，获取所述光阻过滤器内所述颗粒物的状态值；第二比对单元，用于提取数据库中预设定的第二阈值，并和所述颗粒物的状态值进行比对，判断所述颗粒物的状态是否达到所述预设定的第二阈值；如果否，返回继续运行所述光阻过滤器；如果是，停止运行所述光阻过滤器，并抓取所述光阻过滤器当前的过滤状态为所述光阻过滤器使用周期；第二输出单元，将所述第二比对单元的比对结果输出至所述光阻过滤器，驱动调整所述光阻过滤器。
14.在一些实施例中，所述监控系统包括报警单元，所述报警单元对所述当前的过滤状态发出警报，以提示停止运行所述光阻过滤器。
15.本发明的一些实施例还一种光阻供给系统，所述供给系统包括：光阻供给瓶，容纳有待过滤的光阻；缓冲器，连接所述光阻供给瓶，所述待过滤的光阻暂存于所述缓冲器内；泵，连接所述缓冲器，所述泵抽吸所述缓冲器内暂存的所述待过滤的光阻；光阻过滤器，连接所述泵，以将所述泵抽吸的待过滤的光阻进行过滤，得到过滤后的光阻；开关阀，连接光阻过滤器；喷嘴，连接所述开关阀，喷送所述过滤后的光阻至到被涂覆物上；上述监控系统，通讯连接于所述光阻过滤器，所述监控系统监控所述光阻过滤器的使用周期；控制系统，通讯连接于所述泵和所述开关阀，以控制所述泵和所述开关阀。
16.在一些实施例中，所述供给系统还包括：惰性气体供给部，连接于所述光阻供给瓶，以向所述待过滤的光阻内通入惰性气体。
17.在一些实施例中，所述喷嘴包括一容纳腔，以暂存所述过滤后的光阻。
18.本发明实施例提供了一种光阻过滤器使用周期的监控方法，所述监控方法通过对过滤器的过滤量和过滤时间等过滤状态进行监控之外，还包括对过滤器内的颗粒物状态进行监控，从而精准地定义出过滤器的使用周期，即，定义过滤量上限和使用时间上限，过程简单，避免了因超过使用上限而导致产品缺陷，同时减少过滤器更换费用。
附图说明
19.图1是本发明过滤器过滤光阻中的过程图；
20.图2是未过滤完全的光阻对产品产生影响的示意图
21.图3是本发明第一实施方式的监控方法的总体流程图；
22.图4是是本发明第二实施方式的监控方法的总体流程图；
23.图5是光阻供给系统的结构示意图。
24.附图标记：
25.1：光阻供给瓶；2：缓冲器；3：泵；4：光阻过滤器；41：滤材；5：开关阀；6：喷嘴；7：芯
片；8；惰性气体供给部。
具体实施方式
26.为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面结合具体实施方式并参照附图，对本发明进一步详细说明。应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本发明的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本发明的概念。
27.显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
28.此外，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
29.在本发明的描述中，需要说明的是，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
30.图1是本发明过滤器过滤光阻中的过程图。
31.参见图1，过滤器使用带孔的滤材41来对未过滤的光阻进行过滤，滤材将未过滤的光阻中的颗粒物过滤出来，留在滤材表面或滤材内，被留在滤材表面或滤材内的颗粒物，也被称为光阻内杂质。
32.过滤器的过滤功能是从未过滤的光阻中除去杂质,使未过滤的光阻达到所需的洁净度，就是我们使用的光阻。当过滤器过滤达到一定容量时,就会饱和而失效,此时光阻中的杂质就无法滤除干净,喷涂于芯片上时会造成工艺图形产生缺陷。可能产生的缺陷包括图2中显示的几种桥接形式，其中，缺陷大小约介于1～1000um,缺陷的产生对于合格率的影响是致命的,光刻工艺所使用的每一种光阻,皆需使用过滤器。在工艺上需要经过光刻涂布至少60个步骤,都可能受到过滤器的影响。
33.第一实施方式
34.图3是本发明第一实施方式的监控方法的总体流程图。
35.参见图3，本实施方式提供了一种光阻过滤器使用周期的监控方法，包括：
36.提供一光阻过滤器，所述光阻过滤器截留光阻内的颗粒物，以过滤所述光阻；
37.运行所述光阻过滤器；
38.获取所述光阻过滤器的过滤状态，并判断所述过滤状态是否达到预设定的第一阈值；
39.如果否，返回继续运行所述光阻过滤器；
40.如果是，获取所述光阻过滤器内所述颗粒物的状态；
41.判断所述颗粒物的状态是否达到预设定的第二阈值；
42.如果否，返回继续运行所述光阻过滤器；
43.如果是，停止运行所述光阻过滤器，并抓取所述光阻过滤器当前的过滤状态为所述光阻过滤器使用周期。
44.其中，过滤状态达到预设定的第一阈值可以是过滤器理论过滤量，或者理论过滤量的60％、80％，还可以是过滤器生产厂商在出厂时设定的标准上限，由于这个生产厂商设
定的标准上限并不是针对特定的光阻或是流动速率来设定的，只是通用的标准值，故而在已过滤量和已使用时间的标准上限时，往往其中的过滤器还未达到极限，还能对光阻进行过滤，并过滤干净，如果在已过滤量和已使用时间的标准上限时就对或过滤器进行更换，往往会因资源未充分利用而对过滤器造成浪费，并且会因频繁拆卸设备和更换设备而造成生产成本和人力成本上的增加。
45.颗粒物的状态是否达到预设定的第二阈值的时候，为过滤器过滤后的光阻无法满足使用标准需要的时候，即过滤后的光阻会使芯片产生缺陷，使得芯片合格率不达标的时候。
46.本实施方式的光阻过滤器使用周期的监控方法，通过先对过滤状态达进行检测，在过滤状态达到预设定的第一阈值时再进行颗粒物的状态检测，根据颗粒物的状态是否达到预设定的第二阈值来确定光阻过滤器使用周期，过程简单，且经过多层级的卡控能够准确的检测出过滤器的使用上限，避免了因超过使用上限而导致产品缺陷，可以充分利用过滤器，减少浪费，同时减少设备更换费用。
47.本实施方式的光阻过滤器使用周期的监控方法，可以根据未过滤的光阻的数据(例如，光阻种类、杂质类型、杂质浓度、流动速度或制程等数据)，以及针对不同未过滤的光阻所得到的过滤量上限和使用时间上限(即使用周期)，建立未过滤的光阻的数据和光阻的过滤量上限及使用时间上限之间的关系，以对未进行测量的光阻的过滤量上限和使用时间上限进行预测，基于预测的基准过滤量和基准使用时间，对过滤器使用期限进行系统控制,以便提前安排更换过滤器,防止缺陷产生,同时可预先安排结合机台保养时间或其他机台排程,有效降低对生产产能的影响,避免产线紧急断线的风险以及对合格率的影响。此外，本实施方式的光阻过滤器使用周期的监控方法，可以根据未过滤的光阻的数据(例如，光阻种类、杂质类型、杂质浓度、流动速度或制程等数据)和过滤器类型，以及不同过滤器针对不同未过滤的光阻所得到的基准过滤量和基准使用时间，建立未过滤的光阻的数据和过滤器类型，以及光阻的基准过滤量和基准使用时间之间的关系(可以是函数关系)，以对过滤器的过滤量上限以及使用时间上限进行预测，基于过滤量上限以及使用时间上限，对过滤器使用期限进行系统控制,以便提前安排更换过滤器,防止缺陷产生,同时可预先安排结合机台保养时间或其他机台排程,有效降低对生产产能的影响,避免产线紧急断线的风险以及对合格率的影响。
48.在一些实施例中，光阻过滤器使用周期的监控方法还包括：对所述当前的过滤状态发出警报，以提示停止运行所述光阻过滤器。以防止光阻过滤器超过使用上限时还进行使用。
49.在一些实施例中，上述获取所述光阻过滤器的过滤状态包括：实时获取所述光阻过滤器的过滤状态，或是定时获取所述光阻过滤器的过滤状态。具体可根据生产和检测需求来确定。
50.在一些实施例中，所述过滤状态为所述光阻过滤器的过滤量，所述第一阈值分别为预设定过滤量值。该第一阈值可以是通过生产厂商在出厂时设定过滤量的标准上限来进行判定，还可以是过滤器理论过滤量等。
51.在一些实施例中，所述过滤状态为所述光阻过滤器的过滤时间，所述第一阈值分别为预设定过滤时间值。该第一阈值可以是通过生产厂商在出厂时设定过滤时间的标准上
限来进行判定，还可以是过滤器理论过滤时间等。
52.在一些实施例中，所述过滤状态包括所述光阻过滤器的过滤时间和过滤量，所述第一阈值包括预设定的过滤时间值和过滤量值；其中，判断所述过滤状态是否达到预设定的第一阈值包括：以更先达到所述预设定的过滤时间值和过滤量值中的一者进行所述第一阈值的判断。例如可以是通过生产厂商在出厂时设定过滤量和过滤时间的标准上限共同来进行判定，以使结果准确。
53.在一些实施例中，所述颗粒物的状态包括颗粒物的数量和/或颗粒物的粒径。即通过颗粒物的数量和颗粒物的粒径共同来进行判断，或是使用其中之一来进行判断。例如通过例行性测机对颗粒物的状态进行检测，预设定的第二阈值以例行性测机的基本水平值为基准，当然，第二阈值也可以是单位时间内颗粒物状态的变化程度，单位时间内颗粒物的数量或者粒径不再改变，判定所述过滤器进入失效状态，提高光阻过滤器监控的准确性。
54.在一些实施例中，获取所述光阻过滤器内所述颗粒物的状态包括：实时获取所述光阻过滤器内所述颗粒物的状态；或，定时获取所述光阻过滤器内所述颗粒物的状态。具体可根据生产和检测需求来确定。
55.第二实施方式
56.图4是本发明第二实施方式的侦测方法的总体流程图。
57.参见图4，本实施方式提供了一种光阻过滤器使用周期的监控方法，包括：
58.提供一光阻过滤器，所述光阻过滤器截留光阻内的颗粒物，以过滤所述光阻；
59.运行所述光阻过滤器；
60.获取所述光阻过滤器的过滤状态，并判断所述过滤状态是否达到预设定的安全阈值；
61.如果否，返回继续运行所述光阻过滤器；
62.如果是，停止运行所述光阻过滤器；其中，所述安全阈值为所述颗粒物的状态达到预设状态时，所述过滤器的过滤状态值。
63.本实施方式的光阻过滤器使用周期的监控方法，可以是在过滤器的安全阈值是已知的情况下进行过滤器使用周期的判断，能够准确判断出过滤器的使用周期，且减少了多次判断，并且能根据使用周期提前安排更换过滤器,防止缺陷产生,同时可预先安排结合机台保养时间或其他机台排程,有效降低对生产产能的影响,避免产线紧急断线的风险以及对合格率的影响。
64.在一些实施例中，所述过滤状态包括过滤量和/或过滤时间，即通过过滤量和过滤时间一起进行过滤状态的判断，或通过其中之一进行过滤状态的进行过滤状态的判断。
65.第三实施方式
66.本实施方式提供了一种光阻过滤器使用周期的监控系统，所述监控系统监控光阻过滤器，所述光阻过滤器截留光阻内的颗粒物，以过滤所述光阻，所述监控系统包括：
67.第一数据收集单元，获取所述光阻过滤器的过滤状态值；
68.第一比对单元，用于提取数据库中预设定的第一阈值，并和所述第一数据收集单元获取的所述过滤状态值进行比对，判断所述过滤状态是否达到预设定的第一阈值；
69.如果否，返回继续运行所述光阻过滤器；
70.如果是，获取所述光阻过滤器内所述颗粒物的状态值；
71.第一输出单元，将所述第一比对单元的比对结果输出至所述光阻过滤器，驱动调整所述光阻过滤器；
72.第二数据收集单元，获取所述光阻过滤器内所述颗粒物的状态值；
73.第二比对单元，用于提取数据库中预设定的第二阈值，并和所述颗粒物的状态值进行比对，判断所述颗粒物的状态是否达到所述预设定的第二阈值；
74.如果否，返回继续运行所述光阻过滤器；
75.如果是，停止运行所述光阻过滤器，并抓取所述光阻过滤器当前的过滤状态为所述光阻过滤器使用周期；
76.第二输出单元，将所述第二比对单元的比对结果输出至所述光阻过滤器，驱动调整所述光阻过滤器。
77.本实施方式的光阻过滤器使用周期的监控系统，通过先对过滤状态达进行检测，在过滤状态达到预设定的第一阈值时再进行颗粒物的状态检测，根据颗粒物的状态是否达到预设定的第二阈值来确定光阻过滤器使用周期，过程简单，且能够准确的检测出过滤器的使用上限，避免了因超过使用上限而导致产品缺陷，可以充分利用过滤器，减少浪费，同时减少设备更换费用。
78.本实施方式的光阻过滤器使用周期的监控系统，可以根据未过滤的光阻的数据(例如，光阻种类、杂质类型、杂质浓度、流动速度或制程等数据)，以及针对不同未过滤的光阻所得到的过滤量上限和使用时间上限(即使用周期)，建立未过滤的光阻的数据和光阻的过滤量上限及使用时间上限之间的关系，以对未进行测量的光阻的过滤量上限和使用时间上限进行预测，基于预测的基准过滤量和基准使用时间，对过滤器使用期限进行系统控制,以便提前安排更换过滤器,防止缺陷产生,同时可预先安排结合机台保养时间或其他机台排程,有效降低对生产产能的影响,避免产线紧急断线的风险以及对合格率的影响。此外，本实施方式的光阻过滤器使用周期的监控方法，可以根据未过滤的光阻的数据(例如，光阻种类、杂质类型、杂质浓度、流动速度或制程等数据)和过滤器类型，以及不同过滤器针对不同未过滤的光阻所得到的基准过滤量和基准使用时间，建立未过滤的光阻的数据和过滤器类型，以及光阻的基准过滤量和基准使用时间之间的关系(可以是函数关系)，以对过滤器的过滤量上限以及使用时间上限进行预测，基于过滤量上限以及使用时间上限，对过滤器使用期限进行系统控制,以便提前安排更换过滤器,防止缺陷产生,同时可预先安排结合机台保养时间或其他机台排程,有效降低对生产产能的影响,避免产线紧急断线的风险以及对合格率的影响。
79.在一些实施例中，光阻过滤器使用周期的监控系统还包括：所述监控系统包括报警单元，所述报警单元对所述当前的过滤状态发出警报，以提示停止运行所述光阻过滤器。以防止光阻过滤器超过使用上限时还进行使用。
80.在一些实施例中，第一比对单元包括：实时第一比对单元，用于实时获取所述光阻过滤器的过滤状态。
81.在一些实施例中，第一比对单元包括：定时第一比对单元，用于定时获取所述光阻过滤器的过滤状态。
82.在一些实施例中，所述过滤状态为所述光阻过滤器的过滤量，所述第一阈值分别为预设定过滤量值。即通过生产厂商在出厂时设定过滤量的标准上限来进行判定。
83.在一些实施例中，所述过滤状态为所述光阻过滤器的过滤时间，所述第一阈值分别为预设定过滤时间值。即通过生产厂商在出厂时设定过滤时间的标准上限来进行判定。
84.在一些实施例中，所述过滤状态包括所述光阻过滤器的过滤时间和过滤量，所述第一阈值包括预设定的过滤时间值和过滤量值；其中，判断所述过滤状态是否达到预设定的第一阈值包括：以更先达到所述预设定的过滤时间值和过滤量值中的一者进行所述第一阈值的判断。即通过生产厂商在出厂时设定过滤量和过滤时间的标准上限共同来进行判定，以使结果准确。
85.在一些实施例中，所述颗粒物的状态包括颗粒物的数量和/或颗粒物的粒径。即通过颗粒物的数量和颗粒物的粒径共同来进行判断，或是使用其中之一来进行判断。具体来说，生产线上会有例行性测机,通过例行性测机对颗粒物的状态进行检测，预设定的第二阈值以例行性测机的基本水平值为基准。
86.在一些实施例中，第二比对单元，包括：实时第二比对单元，用于实时获取所述光阻过滤器内所述颗粒物的状态。
87.在一些实施例中，第二比对单元，包括：定时第二比对单元，用于定时获取所述光阻过滤器内所述颗粒物的状态。
88.本实施方式与第一实施方式或第二实施方式相同之处，在此不多做赘述。
89.第四实施方式
90.图5是光阻供给系统的结构示意图。
91.参见图5，通过图中的供给系统对光阻进行过滤、供给，该光阻供给系统例如可以适用于涂布显影机，其中，光阻供给系统包括：光阻供给瓶1、缓冲器2、泵3、光阻过滤器4、开关阀5、喷嘴6、第三实施方式的监控系统和控制系统。其中，光阻供给瓶1，容纳有待过滤的光阻；缓冲器2，连接所述光阻供给瓶1，所述待过滤的光阻暂存于所述缓冲器2内；泵3，连接所述缓冲器2，所述泵3抽吸所述缓冲器2内暂存的所述待过滤的光阻；光阻过滤器4，连接所述泵3，以将所述泵3抽吸的待过滤的光阻进行过滤，得到过滤后的光阻；开关阀5，连接光阻过滤器4；喷嘴6，连接所述开关阀5，喷送所述过滤后的光阻至到被涂覆物上；监控系统，通讯连接于所述光阻过滤器，所述监控系统监控所述光阻过滤器的使用周期；控制系统，通讯连接于所述泵3和所述开关阀5，以控制所述泵3和所述开关阀5。若是需要使用光阻，则控制开关阀5和泵3，将光阻通过喷嘴6，喷涂于芯片7上。
92.在一些实施例中，所述供给系统还包括：惰性气体供给部8，连接于所述光阻供给瓶1，向所述待过滤的光阻内通入惰性气体，以将瓶内空气推出,形成一个真空状态，其中惰性气体可以是n2。
93.本实施方式还提供了一种存储介质，存储介质上存储有计算机程序，程序被处理器执行时实现如本发明的第一实施方式或第二实施方式提供的光阻过滤器使用周期的监控方法。
94.本实施方式还提供了一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，处理器执行程序时实现如本发明的第一实施方式或第二实施方式提供的光阻过滤器使用周期的监控方法。
95.应当理解的是，本发明的上述具体实施方式仅仅用于示例性说明或解释本发明的原理，而不构成对本发明的限制。因此，在不偏离本发明的精神和范围的情况下所做的任何
修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。此外，本发明所附权利要求旨在涵盖落入所附权利要求范围和边界、或者这种范围和边界的等同形式内的全部变化和修改例。
96.本领域内的技术人员应明白，本发明的实施例可提供为方法、系统、或计算机程序产品。因此，本发明可采用完全硬件实施例、完全软件实施例、或结合软件和硬件方面的实施例的形式。而且，本发明可采用在一个或多个其中包含有计算机可用程序代码的计算机可用存储介质(包括但不限于磁盘存储器、cd-rom、光学存储器等)上实施的计算机程序产品的形式。
97.本发明是参照根据本发明实施例的方法、设备(系统)、和计算机程序产品的流程图和/或方框图来描述的。应理解可由计算机程序指令实现流程图和/或方框图中的每一流程和/或方框、以及流程图和/或方框图中的流程和/或方框的结合。可提供这些计算机程序指令到通用计算机、专用计算机、嵌入式处理机或其他可编程数据处理设备的处理器以产生一个机器，使得通过计算机或其他可编程数据处理设备的处理器执行的指令产生用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的装置。
98.这些计算机程序指令也可存储在能引导计算机或其他可编程数据处理设备以特定方式工作的计算机可读存储器中，使得存储在该计算机可读存储器中的指令产生包括指令装置的制造品，该指令装置实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能。
99.这些计算机程序指令也可装载到计算机或其他可编程数据处理设备上，使得在计算机或其他可编程设备上执行一系列操作步骤以产生计算机实现的处理，从而在计算机或其他可编程设备上执行的指令提供用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的步骤。
100.本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例方法中的全部或部分步骤是可以通过程序来指令相关硬件来完成，所述的程序可以存储于一计算机可读取存储介质中，该程序在执行时，包括如下如上述各方法的实施例的流程。其中，所述的存储介质可为磁碟、光盘、只读存储记忆体(read-onlymemory，简称rom)或随机存取存储器(randomaccessmemory，简称ram)等。
101.本发明实施例方法中的步骤可以根据实际需要进行顺序调整、合并和删减。本发明实施例系统中的模块可以根据实际需要进行合并、划分和删减。