一种PVDC乳液供给装置的控制箱体的制作方法

一种pvdc乳液供给装置的控制箱体
技术领域
1.本实用新型涉及复合包装材料生产装置领域，具体为一种pvdc乳液供给装置的控制箱体。


背景技术：

2.pvdc，学名“聚偏二氯乙烯”，是一种软化温度在160
‑
200℃的热塑性聚合物，具有头尾相连的线性聚合链结构。分子结构对称，结晶度高。对于pvdc，由于其分子间凝集力强，结晶度高，pvdc分子中的氯原子有疏水性，不会形成氢键，氧分子和水分子很难在pvdc分子中移动，从而使其具有优良的阻氧性和阻湿性，且其阻氧性不受周围环境湿度的影响。也就是说，在任何温度或湿度条件下，兼具卓越的阻隔水汽、氧气、气味和香味的能力，是目前公认的在阻隔性方面综合性能最好的塑料包装材料。
3.目前，pvdc乳液的涂布一般采用网纹辊凹板涂布， 涂布辊转动带动pvdc乳液，通过调整刮刀间隙来调节pvdc转移量。为保证涂布的均匀性，必须保证涂布辊在pvdc乳液的浸润程度始终保持一致，但在涂布过程中，pvdc料槽内的物料会逐渐减少，涂布辊在pvdc乳液的浸润程度会有一定的变化，导致涂布不均匀，影响产品质量。因pvdc涂布产品是药品内包材，对质量要求极其严格，涂布量不均匀会严重影响药品保质期，加上药品的使用者为病患者，存在严重隐患。传统的解决方法是，料槽内的pvdc乳液人工观察液位，当液位明显下降时，在料槽内补给pvdc乳液，但pvdc乳液直接进入料槽后，pvdc乳液成分的均衡性不够均匀，料槽内不同区域乳液浓度不同，导致薄膜基材涂布后局部效果不均匀，影响涂布质量。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种pvdc乳液供给装置的控制箱体，保证涂布槽体内乳液成分的均衡性均匀一致，提高薄膜基材涂布质量。
5.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种pvdc乳液供给装置的控制箱体，用以均匀pvdc乳液成分，包括涂布槽体，所述涂布槽体四周的侧壁内设置有环形空腔，涂布槽体的侧壁内侧开设有若干个与环形空腔连通的进液孔，所述涂布槽体的侧壁上开设有与环形空腔相连通进液口，外部补给的乳液通过所述进液口进入环形空腔中，并通过分布于四周侧壁上的多个进液孔分散地同步流入涂布槽体的容纳腔内，以提高pvdc乳液成分的均衡性。
6.优选的，若干所述进液孔在涂布槽体的四周侧壁内侧上均匀分布。
7.优选的，若干所述进液孔呈上下两排设计，每排中的若干进液孔左右等间距设计。
8.优选的，所述涂布槽体的侧壁上开设有排液口，排液口的水平高度高于进液口的水平高度。
9.优选的，所述排液口位于进液孔的上方，且所述进液孔的高度不大于涂布槽体槽深高度的三分之二，以使得乳液的补给与排出分别位于不同高度的流层，且涂布槽体内的乳液内部形成循环对流状态。
10.优选的，所述排液口处插接有排液管，排液管与排液口的边缘连接处通过密封胶密封连接。
11.优选的，所述涂布槽体包括底壁以及形成在底壁外周部上的所述侧壁，底壁与侧壁之间形成有盛放pvdc乳液的所述的容纳腔。
12.优选的，所述涂布槽体置于一阶梯支架上，所述阶梯支架包括顶端承载面，涂布槽体的底壁外端面置于阶梯支架的顶端承载面上。
13.与现有技术相比较，本实用新型的有益效果如下：本实用新型pvdc乳液供给装置的控制箱体通过外部补给的乳液沿进液口进入环形空腔中，并通过侧壁内侧的多个进液孔分散地同步流入涂布槽体的容纳腔内，如此依靠喷泉乱流的方式保证pvdc乳液成分的均衡性，使涂布槽体的容纳腔内的乳液浓度均匀，保证薄膜基材涂布均匀，提高涂布质量。
附图说明
14.图1为本实用新型的pvdc乳液供给装置的立体结构示意图；
15.图2为本实用新型的主视结构示意图；
16.图3为本实用新型的涂布槽体的立体结构示意图；
17.图4为本实用新型的涂布槽体的剖视结构示意图。
18.图中：1阶梯支架、11顶端承载面、12次顶端承载面、13连接板、111前段支撑脚、121后段支撑脚、2涂布槽体、21环形空腔、22进液孔、23进液口、24排液口、201底壁、202侧壁、3缓冲箱体、4隔膜泵、5排液管、6缓冲槽体、7储液箱、8浮力阀、9支撑架。
具体实施方式
19.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
20.参阅图1至图4所示，一种基于pvdc涂布过程的pvdc乳液供给装置，用于pvdc乳液的循环流动，包括阶梯支架1、固定于阶梯支架1顶部的涂布槽体2，涂布槽体2位于pvdc涂布装置的涂布位置，其内盛放有用于涂布的pvdc乳液。
21.阶梯支架1包括顶端承载面11以及与顶端承载面11平行设置的次顶端承载面12，顶端承载面11与次顶端承载面12通过一连接板13过渡连接，以形成阶梯状结构，顶端承载面11与次顶端承载面12下部对应地设置有前段支撑脚111与后段支撑脚121。
22.涂布槽体2包括底壁201以及形成在底壁201外周部上的侧壁202，底壁201与侧壁202之间形成一容纳腔，以供盛放pvdc乳液并对薄膜基材涂布加工。
23.涂布槽体2的底壁201外端面置于阶梯支架1的顶端承载面11上，如图3和4所示，涂布槽体2四周的侧壁202内设置有环形空腔21，涂布槽体2的侧壁202内侧上开设有若干个与环形空腔21连通的进液孔22，涂布槽体2的侧壁202开设有与环形空腔21相连通的进液口23，外部补给的乳液通过进液口23进入环形空腔21中，并通过分布于四周侧壁202内侧的多个进液孔22分散地同步流入涂布槽体2的容纳腔内，如此依靠喷泉乱流的方式保证pvdc乳液成分的均衡性，使涂布槽体2的容纳腔内的乳液浓度均匀，保证薄膜基材涂布均匀，提高
涂布质量，同时保证涂布槽体2内pvdc乳液液面的平稳性，保证pvdc涂布量均匀一致。
24.优选的，进液孔22在涂布槽体2的四周侧壁202内侧上均匀分布，具体地，若干进液孔22呈上下两排设计，每排中的若干进液孔22左右等间距设计，如此可使得涂布槽体2中从四个方向同时汇入的乳液在彼此流体动力作用下，各个方向的动力相互抵消，进一步提高pvdc乳液成分的均衡性，并形成相对稳定的液体补给过程。
25.涂布槽体2的一侧下方设置有缓冲箱体3，缓冲箱体3的顶部固定安装有隔膜泵4，隔膜泵4的输入端通过管体与缓冲箱体3的内部连通、输出端通过固定连接于涂布槽体2的侧壁202外侧的进液口23上的管体与环形空腔21连通。通过隔膜泵4可将缓冲箱体3内存储的乳液连续地送入环形空腔21中，并通过四周侧壁202内侧的多个进液孔22分散地同步流入涂布槽体2的容纳腔内，如此依靠喷泉乱流的方式保证pvdc乳液成分的均衡性，同时保证涂布槽体2的容纳腔内pvdc乳液液面的平稳性，保证pvdc涂布量均匀一致从而实现涂布槽体2中pvdc乳液的连续补给。
26.涂布槽体2的侧壁内插接有贯穿环形空腔21的排液管5，具体地，涂布槽体2的侧壁202内侧和外侧上对应地开设有与环形空腔21相连通的排液口24，排液口24的水平高度高于进液口23的水平高度。排液管5位于排液口24内，且排液管5的外壁与排液口24的边缘通过密封胶密封连接。当涂布槽体2内的pvdc乳液液面高度超过排液管5的最低端时，乳液会自然地通过排液管5溢出至涂布槽体2的外部，通过隔膜泵4的连续补给和排液管5的连续溢出，可保持涂布槽体2内乳液液面高度的动态稳定。
27.优选的，排液口24位于进液孔22的上方，且进液孔22的高度不大于涂布槽体2槽深高度的三分之二，使得乳液的补给与排出分别位于不同高度的流层，使涂布槽体2内的乳液内部形成循环对流，保证pvdc乳液成分的均衡性。
28.排液管5的一端与涂布槽体2的内部连通、另一端位于涂布槽体2的外壁外侧。涂布槽体2的下部设置有位于排液管5下方的缓冲槽体6，缓冲槽体6固定安装在阶梯支架1的次顶端承载面12上。缓冲槽体6的内部通过管体与缓冲箱体3的内部连通，则由排液管5溢出的乳液流入缓冲槽体6中，进而通过管体再流回缓冲箱体3中，防止pvdc乳液飞溅，如此形成了pvdc乳液的动态循环，能够最大限度的减少pvdc乳液的浪费。
29.缓冲箱体3远离涂布槽体2的一侧上方设置有固定于一支撑架9上储液箱7，储液箱7的内部底侧通过管体与缓冲箱体3的内部连通。储液箱7内存储有一定量的pvdc乳液，当涂布过程消耗掉一部分乳液后，缓冲箱体3内回流的乳液流量会小于隔膜泵4同步补给的流量，储液箱7中的乳液可对缓冲箱体3中的乳液进行适当的补充，以保证动态循环的可持续性。
30.缓冲箱体3的顶部开设有补液口，缓冲箱体3的内部设置有位于补液口正下方的浮力阀8。浮力阀8用于监控缓冲箱体3内的液面，当液面下降时，浮力阀8打开，储液箱7中的乳液流入缓冲箱体3中，使得缓冲箱体3中的乳液液面逐渐提升，同时浮力阀8跟随液面的提升而逐渐关闭补液口，中止补液过程，如此实现缓冲箱体3内液面的动态平衡调节。
31.综上所述，该pvdc涂布过程的pvdc乳液供给装置简单耐用、易清洗、易拆卸，通过设置缓冲箱体及隔膜泵，依靠隔膜泵连续地想涂布槽体给料，使得涂布槽体内乳液液位保持稳定，从而保证pvdc涂布量均匀一致；同时，通过最使pvdc乳液在涂布槽体内形成动态地循环， 能够最大限度的减少pvdc乳液的浪费，在持续可靠的环路中，依靠喷泉乱流的方式
保证pvdc乳液成分的均衡性，进一步提高生产效率和涂布质量。
32.对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。