一种电解质式样料盘的制作方法

文档序号:28129720发布日期:2021-12-22 16:21阅读:95来源:国知局
一种电解质式样料盘的制作方法

1.本实用新型涉及铝电解技术领域,具体涉及一种电解质式样料盘。


背景技术:

2.在铝冶炼行业中,每周都要对每台电解槽内的电解质进行取样化验,一般用圆柱体状的模具将液态电解质固化成型并冷却。然后将模具中取出的圆柱体式样放至式样盘中,并在每个式样的格栅中进行标号,标号与电解槽号一致。把装有电解质式样的式样盘送至化验室,分析人员将式样盘格栅中的式样逐一取出,碾碎后加热进行分析。化验室要求每个式样准确无误才能正确反映电解槽当前实际的状况,所以每个式样独立放置在式样盘的格栅中。为了保证式样间相互不接触,式样盘格栅的高度一般比式样的高度高1

5mm,式样盘方形格栅的宽度要比圆柱体式样的直径一般大20mm左右。但是每个圆柱体式样不可能刚好就准确放置在格栅的正中间,如果式样在靠近格栅中四个角的位置,化验人员用戴手套的手或者用镊子取式样时,由于隔板的阻碍,导致有的式样不容易从式样盘中取出来。如果式样盘格栅的宽度设计得更大一些,从一定程度上更加易于取出式样,不过,格栅过大会导致式样在格栅中容易倾斜,甚至于翻倒,更不容易从中取出。所以,根据化验人员现场反映,现有的式样盘会严重影响检测效率,所以需要设计一种既能够保证两个相邻的式样互相不接触,又易于取出式样的装样盘,以便能缩短式样的取出时间、提高工作效率。


技术实现要素:

3.本实用新型要解决的技术问题是针对现有技术的缺点,提供一种结构简单、使用方便、清除效果好、不会损坏过滤板的电解质式样料盘。
4.为解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:一种电解质式样料盘,包括有盘体,盘体内部通过纵横交错的纵隔板和横隔板分隔成若干个用于放置式样的格栅,各格栅相互隔开,其特征在于:在每一个格栅的四周侧壁上均开设有避位缺口,各避位缺口均为从格栅的四周侧壁顶部朝下凹陷,这样便于从避位缺口处伸进手指或镊子取出式样。
5.进一步地,位于盘体里面的各避位缺口均以横隔板与纵隔板的相交处为中心开设,盘体盘壁上的避位缺口则以盘壁与横隔板的相交处及盘壁与纵隔板的相交处为中心开设,以使每一格栅的四角位置均形成两处避位缺口,每一格栅的侧壁中间位置朝上伸出以形成格栅侧壁的最高部位。
6.优选地,所述避位缺口为弧形结构。
7.进一步地,每一格栅的每个上角位置的避位缺口均为四分之一的圆弧结构,避位缺口的深度均相同,且不超过格栅深度的一半。避位缺口可采用球体掏空。
8.优选地,每一格栅均为正方形结构,其边长比式样圆柱体的直径大15

25mm,格栅的深度比式样圆柱体的高度大1

5mm,避位缺口的深度为15

20mm。
9.进一步地,整个盘体连同其盘壁及横隔板、纵隔板均采用铝合金制成,以避免磁场的影响;相邻格栅之间采用铝合金通焊,不能点焊,盘壁、横隔板及纵隔板的底部与盘体之
间均为密闭连接结构。
10.进一步地,还包括有提手,提手沿盘体的横向安装在两边的盘壁上,提手亦采用铝合金制成,通过提手便于提起整个料盘。
11.本实用新型通过将料盘中每个格栅的四个上角位置制作成弧形开口的结构,在取式样时,通过开口形成避位可避免手或镊子在死角处受到阻挡而取不出式样的问题,因而相对于传统的式样盘,能够明显提高取样操作的方便性、缩短取式样的时间、提高工作效率。
附图说明
12.图1为本实用新型立体结构示意图;
13.图2为本实用新型正面结构示意图;
14.图3为本实用新型侧面结构示意图;
15.图4为本实用新型俯视示意图。
16.图中,1为盘体,2为盘壁,3为横隔板,4为纵隔板,5为格栅,6为避位缺口,7为提手。
具体实施方式
17.本实施例中,参照图1

图4,所述电解质式样料盘,包括有盘体1,盘体1的内部通过纵横交错的纵隔板4和横隔板2分隔成若干个用于放置式样的格栅5,各格栅5相互隔开;在每一个格栅5的四周侧壁上均开设有避位缺口6,各避位缺口6均为从格栅5的四周侧壁顶部朝下凹陷。
18.位于盘体1里面的各避位缺口6均以横隔板3与纵隔板4的相交处为中心开设,盘体1的盘壁2上的避位缺口6则以盘壁2与横隔板3的相交处及盘壁2与纵隔板4的相交处为中心开设,以使每一格栅5的四角位置均形成两处避位缺口6,每一格栅5的侧壁中间位置朝上伸出以形成格栅5侧壁的最高部位,用于挡住式样。
19.每一格栅5的每个上角位置的避位缺口6均为四分之一的圆弧结构,避位缺口6的深度均相同,且不超过格栅5深度的一半,避位缺口6可采用球体掏空格栅侧壁形成。
20.每一格栅5均为正方形结构,其边长比式样圆柱体的直径大15

25mm,如20mm,格栅5的深度比式样圆柱体的高度大1

5mm,避位缺口6的深度为15

20mm。比如,盘体1的尺寸为300*400*50mm,具体数值可根据电解车间每个工区的电解槽数量决定;格栅5的长宽为50mm、深度为50mm,圆柱形式样的直径为30mm,避位缺口6的半径为18mm。
21.整个盘体1连同其盘壁2及横隔板3、纵隔板4均采用铝合金制成,以避免磁场的影响;相邻格栅5之间采用铝合金通焊,不能点焊,盘壁2、横隔板3及纵隔板4的底部与盘体1之间均为密闭连接结构。
22.还包括有提手7,提手7沿盘体1的横向安装在两边的盘壁2上,提手7亦采用铝合金制成,通过提手7便于提起整个料盘。
23.以上已将本实用新型做一详细说明,以上所述,仅为本实用新型之较佳实施例而已,当不能限定本实用新型实施范围,即凡依本申请范围所作均等变化与修饰,皆应仍属本实用新型涵盖范围内。


技术特征:
1.一种电解质式样料盘,包括有盘体,盘体内部通过纵横交错的纵隔板和横隔板分隔成若干个用于放置式样的格栅,各格栅相互隔开,其特征在于:在每一个格栅的四周侧壁上均开设有避位缺口,各避位缺口均为从格栅的四周侧壁顶部朝下凹陷。2.根据权利要求1所述的电解质式样料盘,其特征在于:位于盘体里面的各避位缺口均以横隔板与纵隔板的相交处为中心开设,盘体盘壁上的避位缺口则以盘壁与横隔板的相交处及盘壁与纵隔板的相交处为中心开设,以使每一格栅的四角位置均形成两处避位缺口,每一格栅的侧壁中间位置朝上伸出以形成格栅侧壁的最高部位。3.根据权利要求2所述的电解质式样料盘,其特征在于:所述避位缺口为弧形结构。4.根据权利要求3所述的电解质式样料盘,其特征在于:每一格栅的每个上角位置的避位缺口均为四分之一的圆弧结构,避位缺口的深度均相同,且不超过格栅深度的一半。5.根据权利要求4所述的电解质式样料盘,其特征在于:每一格栅均为正方形结构,其边长比式样圆柱体的直径大15

25mm,格栅的深度比式样圆柱体的高度大1

5mm,避位缺口的深度为15

20mm。6.根据权利要求1所述的电解质式样料盘,其特征在于:整个盘体连同其盘壁及横隔板、纵隔板均采用铝合金制成,相邻格栅之间采用铝合金通焊,盘壁、横隔板及纵隔板的底部与盘体之间均为密闭连接结构。7.根据权利要求1所述的电解质式样料盘,其特征在于:还包括有提手,提手沿盘体的横向安装在两边的盘壁上,提手亦采用铝合金制成。

技术总结
本实用新型公开了一种电解质式样料盘,包括有盘体,盘体内部通过纵横交错的纵隔板和横隔板分隔成若干个用于放置式样的格栅,各格栅相互隔开;在每一个格栅的四周侧壁上均开设有避位缺口,各避位缺口均为从格栅的四周侧壁顶部朝下凹陷,这样便于从避位缺口处伸进手指或镊子取出式样。本实用新型通过将料盘中每个格栅的四个上角位置制作成弧形开口的结构,在取式样时,通过开口形成避位可避免手或镊子在死角处受到阻挡而取不出式样的问题,因而相对于传统的式样盘,能够明显提高取样操作的方便性、缩短取式样的时间、提高工作效率。提高工作效率。提高工作效率。


技术研发人员:陈强正 高峰 张斌 杨宏斌 张榕德 贾乃寿 程安军 聂春林 王登成 顾永强 王伟宇 温生良 刘世杰 成建航 陶铧 李树栋
受保护的技术使用者:青海百河铝业有限责任公司
技术研发日:2021.05.18
技术公布日:2021/12/21
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