一种防堵塞、耐磨损结构的旋转雾化盘的制作方法

1.本实用新型涉及雾化技术领域，尤其涉及一种防堵塞、耐磨损结构的旋转雾化盘。


背景技术：

2.采用旋转雾化蒸发的方式，对液体进行蒸发干燥，是一种常见的干燥、造粒的方法。旋转雾化的主要方法为，液体被送至高速旋转的雾化盘时，由于离心力的作用，液体伸展为薄膜或被拉成细丝（取决于转速和浆液量），在雾化盘边缘破裂分散为液滴。液滴的大小取决于旋转速度和液体处理量。雾化器能够保证在液体流量不发生很大变化时，雾化雾滴的粒径分布不发生显著改变。雾化液体与高温气体充分和均匀混合，使雾滴蒸发，而液体中的盐分和悬浮物析出。该蒸发方法广泛地应用在多种行业中：如食品、医药、化工、废水处理等行业。旋转雾化的雾化效果，很大部分取决于其雾化盘的结构。同时不同介质，不同工艺对旋转雾化的雾化效果也不尽相同。
3.现有旋转雾化盘，普遍存在的缺陷在于：当雾化介质存在一定悬浮物时，在旋转雾化过程中，对传统雾化盘冲蚀性较强，极大缩短了使用寿命，同时不能稳定的控制雾化效果。当雾化介质具备含盐量较高，易析出晶体等特性时，传统雾化盘喷嘴部分极易堵塞，进而影响雾化效果。针对目前现有技术中存在的上述缺陷，实有必要进行研究，解决现有技术中存在的缺陷，开发适用高含盐、高悬浮物的旋转雾化盘。


技术实现要素：

4.为克服现有技术中存在的问题，本实用新型提供了一种防堵塞、耐磨损结构的旋转雾化盘，解决以上技术问题。
5.本实用新型所解决的技术问题可以采用以下技术方案来实现：
6.一种防堵塞、耐磨损结构的旋转雾化盘，所述旋转雾化盘由底座、导流块、顶盖和沉头螺栓组成，所述底座上方设置有顶盖，所述顶盖与底座之间使用沉头螺栓固定安装有导流块，所述导流块的内侧和背侧设置为渐开线型，所述导流块的侧壁设置为凹弧型结构，所述顶盖与底座上设置有限位槽，所述限位槽的位置以及大小与导流块的位置以及大小一致。
7.进一步的，所述导流块与旋转雾化盘径向法线间的设计夹角为10
°‑
30
°
。
8.进一步的，所述沉头螺栓设置为内六角沉头螺栓。
9.进一步的，所述导流块设置为陶瓷导流块、衬陶瓷金属材质导流块、衬碳化硅金属材质导流块、衬碳化钨金属材质导流块中的一种或两种或两种以上的组合。
10.进一步的，相邻是导流块之间的间距设置为8-20mm。
11.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
12.1、本实用新型内侧的渐开线半径其系数为0.1~0.15*雾化盘直径，较大的曲率有了利于规整雾化盘内介质流向，且近似渐开线型的设计将均匀分摊流体介质对导流块内侧的压力，避免局部的冲蚀磨损；
13.2、本实用新型背侧的渐开线半径其系数为0.2~0.3*雾化盘直径，背部采用较小的曲率以更好的导流雾化盘内部流体，同时提高雾化盘的雾化效果，且近似渐开线型的设计将均匀分摊流体介质对导流块背侧的压力，避免局部的冲蚀磨损；
14.3、本实用新型导流块与雾化盘径向法线间的设计夹角为10
°‑
30
°
平衡介质雾化飞离雾化盘的径向速度，以缩小旋转雾化盘的雾化半径，减少所需的干燥雾化场地面积；
15.4、本实用新型相邻旋转雾化盘导流块之间设计间距为8~20mm，当导流块间距低于8mm时，旋转雾化盘内部流体阻力明显增大，限制雾化盘最大处理能力；当导流块间距高于20mm，旋转雾化盘雾化效果明显减弱，雾化粒径偏大。
附图说明
16.图1是本实用新型的结构示意图；
17.图2是本实用新型的爆炸结构示意图；
18.图3是本实用新型的导流块的结构示意图。
具体实施方式
19.下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。
20.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
21.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
22.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
23.如图1-3所示，一种防堵塞、耐磨损结构的旋转雾化盘，所述旋转雾化盘整体采用可可拆式半开放结构，所述旋转雾化盘为直径为120mm-250mm的圆盘形，所述旋转雾化盘的转速设置为10000rpm-16000rpm，雾化粒径为30-90um。
24.所述旋转雾化盘由底座、导流块、顶盖和沉头螺栓组成，所述底座上方设置有顶盖，所述底座以及顶盖的中心设置有轴毂，所述顶盖上设置有凹槽，所述轴毂与凹槽形成的间隙设置为介质入口。
25.所述轴毂设置为中空结构，轴毂内部用于穿过主轴，所述底座的底部设置有固定结构，所述固定结构用于与锁紧螺母相配合将旋转雾化盘固定与主轴固定连接。
26.所述底座与顶盖之间设置有导流块，所述顶盖的底部与底座上方上设置有限位槽，所述限位槽的位置以及大小与导流块的外形相匹配，用于放置导流块，保证导流块不会移位。
27.所述顶盖与底座上还设置有螺栓孔，所述导流块也设置有与所述螺栓孔位置大小一致的螺栓孔，所述螺栓孔用于与沉头螺栓配合使用，将顶盖、导流块、底座通过沉头螺栓相固定。
28.所述导流块的内侧1和背侧2设置为渐开线型，即所述内侧和背侧设置有渐开线半径。所述内侧的渐开线半径其系数为0.1~0.15*雾化盘直径，较大的曲率有了利于规整雾化盘内介质流向，且近似渐开线型的设计将均匀分摊流体介质对导流块内侧的压力，避免局部的冲蚀磨损。所述背侧的渐开线半径其系数为0.2~0.3*雾化盘直径，背部采用较小的曲率以更好的导流雾化盘内部流体，同时提高雾化盘的雾化效果，且近似渐开线型的设计将均匀分摊流体介质对导流块背侧的压力，避免局部的冲蚀磨损。
29.所述导流块的侧壁3上设置有流通槽，所述流通槽为凹弧型结构，使得在同一截面处，导流块受到的冲蚀压力尽量相等，极大的延长导流块的使用寿命，同时凹弧形结构有助于流体内部流场的整形，减少内部的回流死角，降低流场阻力。
30.所述导流块与旋转雾化盘径向法线间的设计夹角为10
°‑
30
°
，10-30
°
的夹角有助于平衡介质雾化飞离雾化盘的径向速度，以缩小旋转雾化盘的雾化半径，减少所需的干燥雾化场地面积。
31.所述沉头螺栓设置为内六角沉头螺栓。
32.所述导流块设置为陶瓷导流块、衬陶瓷金属材质导流块、衬碳化硅金属材质导流块、衬碳化钨金属材质导流块中的一种或两种或两种以上的组合。
33.相邻是导流块之间的间距设置为8-20mm，当导流块103间距低于8mm时，旋转雾化盘内部流体阻力明显增大，限制雾化盘最大处理能力；当导流块间距高于20mm，旋转雾化盘103雾化效果明显减弱，雾化粒径偏大。
34.所述底座和顶盖经过碳化钨衬里、碳化硅衬里、酸洗钝化中的一种或两种或两种以上的表面处理。
35.上述说明示出并描述了本实用新型的优选实施例，如前所述，应当理解本实用新型并非局限于本文所披露的形式，不应看作是对其他实施例的排除，而可用于各种其他组合、修改和环境，并能够在本文所述实用新型构想范围内，通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本实用新型的精神和范围，则都应在本实用新型所附权利要求的保护范围内。