一种搪瓷反应釜加工用快速成型装置的制作方法

1.本实用新型涉及搪瓷反应釜加工技术领域，尤其涉及一种搪瓷反应釜加工用快速成型装置。


背景技术：

2.在搪瓷反应釜的加工过程中，需要对其内壁进行搪烧面釉，而搪瓷反应罐的面釉层的厚度一般在2mm左右，在喷涂时可以喷搪三遍到四遍面釉，每喷一次都要进行检查，确保不会出现暗泡、针孔等，如果出现就要进行修补，修补的地方还要喷一次底釉。
3.而在面釉的单次喷涂结束后，该工艺中缺少对于面釉的处理工序，导致喷涂后面釉层的分布均匀性较差，同时面釉层上的暗泡以及针孔状况较多，不仅仅严重降低了面釉喷涂的质量，并对于后续的检查以及修补造成工作负担，从而严重影响搪瓷反应釜的质量。


技术实现要素：

4.(一)解决的技术问题
5.针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种搪瓷反应釜加工用快速成型装置，达到了提高面釉喷涂均匀性的目的，能够大幅度降低暗泡以及针孔的现象，同时提高了面釉喷涂的质量，为后续的检查以及修补减轻负担，从而提高搪瓷反应釜的质量。
6.(二)技术方案
7.为解决上述技术问题，本实用新型提供了如下技术方案：一种搪瓷反应釜加工用快速成型装置，包括底座台，底座台上设有旋转机构，底座台的顶部通过支架臂固定安装有升降气缸，升降气缸的自由端传动安装有安装板，安装板的一侧设有抹平机构，安装板的另一侧设有喷釉组件；
8.抹平机构包括固定在安装板上的调节组件，调节组件的自由端上固定安装有塑胶抹板，塑胶抹板的末端上设有与塑胶抹板一体成型的贴合部分，贴合部分以顺时针方向弯转四十五度设置，且贴合部分表面为弧形设置。
9.进一步地，调节组件包括固定在安装板上的套杆，套杆的内部插接有活动杆，活动杆顶部的右侧安装有限位螺栓，套杆的顶部开设有配合限位螺栓锁紧使用的定位槽。
10.进一步地，限位螺栓由丝杆通过轴承安装在活动杆上，且丝杆的外表面螺纹连接有锁紧螺母，锁紧螺母位于套杆顶部的上方位置。
11.进一步地，旋转机构包括通过轴承座安装在底座台上的转盘，还包括固定在底座台上用于驱动转盘匀速转动的减速电机，转盘上开设有与反应釜尺寸相适配的放置槽，转盘上设有用于反应釜限位使用的限位组件。
12.进一步地，限位组件设有四个且等距分布在转盘上，限位组件包括固定安装在转盘外表面上的电动推杆，电动推杆的自由端传动连接有定位夹板。
13.进一步地，定位夹板位于放置槽的内部，且定位夹板的形状为弧形。
14.(三)有益效果
15.本实用新型提供了一种搪瓷反应釜加工用快速成型装置，具备以下有益效果：
16.1、本实用新型达到了提高面釉喷涂均匀性的目的，能够大幅度降低暗泡以及针孔的现象，同时提高了面釉喷涂的质量，为后续的检查以及修补减轻负担，从而提高搪瓷反应釜的质量。
17.2、本实用新型由于调节组件的设置，抹平机构能够根据搪瓷反应釜的内径进行长度调节，同时在多次面釉喷涂后壳根据每次的厚度进行调节，从而保证了贴合部分对于面釉层的抹平处理效果，保证面釉层的喷涂质量。
18.3、本实用新型由于旋转机构的设置，通过减速电机的运行驱动转盘实现匀速的圆周运动，同时带动搪瓷反应釜同步转动，并保证面釉的正常喷涂，同时转盘上的限位组件能够对搪瓷反应釜进行限位固定，电动推杆带动定位夹板箱圆心位置动作，四个限位组件对搪瓷反应釜外表面的四周进行夹持固定，使搪瓷反应釜在面釉喷涂过程中保持相对的稳定性。
附图说明
19.此处所说明的附图用来提供对本技术的进一步理解，构成本技术的一部分，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：
20.图1为本实用新型的轴向结构示意图；
21.图2为本实用新型抹平机构的结构示意图；
22.图3为本实用新型调节组件的剖切示意图；
23.图4为本实用新型旋转机构的结构示意图；
24.图5为本实用新型底座台的仰视图；
25.图6为本实用新型喷釉组件的结构示意图。
26.图中：1、底座台；2、旋转机构；21、转盘；22、减速电机；23、放置槽；24、限位组件；241、电动推杆；242、定位夹板；3、升降气缸；4、安装板；5、抹平机构；51、调节组件；511、套杆；512、活动杆；513、限位螺栓；514、定位槽；52、塑胶抹板；53、贴合部分；6、喷釉组件。
具体实施方式
27.以下将配合附图及实施例来详细说明本技术的实施方式，借此对本技术如何应用技术手段来解决技术问题并达成技术功效的实现过程能充分理解并据以实施。
28.图1-6为本实用新型的一个实施例：一种搪瓷反应釜加工用快速成型装置，包括底座台1，底座台1上设有旋转机构2，底座台1的顶部通过支架臂固定安装有升降气缸3，升降气缸3的自由端传动安装有安装板4，安装板4的一侧设有抹平机构5，安装板4的另一侧设有喷釉组件6，本实用新型达到了提高面釉喷涂均匀性的目的，能够大幅度降低暗泡以及针孔的现象，同时提高了面釉喷涂的质量，为后续的检查以及修补减轻负担，从而提高搪瓷反应釜的质量；
29.抹平机构5包括固定在安装板4上的调节组件51，调节组件51的自由端上固定安装有塑胶抹板52，塑胶抹板52的末端上设有与塑胶抹板52一体成型的贴合部分53，贴合部分53以顺时针方向弯转四十五度设置，且贴合部分53表面为弧形设置，通过将待加工的反应釜放置在旋转机构2上，同时升降气缸3动作带动抹平机构5和喷釉组件6下降至反应釜的内
部，旋转机构2带动反应釜缓慢匀速转动，同时喷釉组件6上喷头均匀对其内壁进行喷面釉，在反应釜的转动的同时升降气缸3带动喷釉组件6步进式上升，以此对其表面由下至上均匀实现面釉喷涂，同时配合塑胶抹板52对喷涂的面釉层进行同步抹平处理，贴合部分53以顺时针方向弯转四十五度，且贴合部分的表面为弧形，能够对面釉层进行均匀贴合，且抹平时保证釉面分布的均匀性，并对厚度超出的面釉进行处理保证平整性。
30.调节组件51包括固定在安装板4上的套杆511，套杆511的内部插接有活动杆512，活动杆512顶部的右侧安装有限位螺栓513，套杆511的顶部开设有配合限位螺栓513锁紧使用的定位槽514，限位螺栓513由丝杆通过轴承安装在活动杆512上，且丝杆的外表面螺纹连接有锁紧螺母，锁紧螺母位于套杆511顶部的上方位置，由于调节组件51的设置，通过采用可定长调整的调节组件51与塑胶抹板52进行连接，松动以及旋紧限位螺栓513可使活动杆512处于活动以及固定状态，因此使活动杆512与套杆511的总长度根据使用需求进行调整，使抹平机构5能够根据搪瓷反应釜的内径进行长度调节，同时在多次面釉喷涂后壳根据每次的厚度进行调节，从而保证了贴合部分53对于面釉层的抹平处理效果，保证面釉层的喷涂质量。
31.旋转机构2包括通过轴承座安装在底座台1上的转盘21，还包括固定在底座台1上用于驱动转盘21匀速转动的减速电机22，转盘21上开设有与反应釜尺寸相适配的放置槽23，转盘21上设有用于反应釜限位使用的限位组件24，限位组件24设有四个且等距分布在转盘21上，限位组件24包括固定安装在转盘21外表面上的电动推杆241，电动推杆241的自由端传动连接有定位夹板242，定位夹板242位于放置槽23的内部，且定位夹板242的形状为弧形，由于旋转机构2的设置，通过减速电机22的运行驱动转盘21实现匀速的圆周运动，同时带动搪瓷反应釜同步转动，并保证面釉的正常喷涂，同时转盘21上的限位组件24能够对搪瓷反应釜进行限位固定，电动推杆241带动定位夹板242箱圆心位置动作，四个限位组件24对搪瓷反应釜外表面的四周进行夹持固定，使搪瓷反应釜在面釉喷涂过程中保持相对的稳定性。
32.本实施例工作时，通过将待加工的反应釜放置在旋转机构2上，同时升降气缸3动作带动抹平机构5和喷釉组件6下降至反应釜的内部，旋转机构2带动反应釜缓慢匀速转动，同时喷釉组件6上喷头均匀对其内壁进行喷面釉，在反应釜的转动的同时升降气缸3带动喷釉组件6步进式上升，以此对其表面由下至上均匀实现面釉喷涂，同时配合塑胶抹板52对喷涂的面釉层进行同步抹平处理，贴合部分53以顺时针方向弯转四十五度，且贴合部分的表面为弧形，能够对面釉层进行均匀贴合，且抹平时保证釉面分布的均匀性，并对厚度超出的面釉进行处理保证平整性。
33.本实用新型的控制方式是通过控制器来自动控制，控制器的控制电路通过本领域的技术人员简单编程即可实现，电源的提供也属于本领域的公知常识，并且本实用新型主要用来保护机械装置，所以本实用新型不再详细解释控制方式和电路连接。
34.需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备
所固有的要素。
35.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。