一种光致发光粉制备装置的制作方法

文档序号:29942900发布日期:2022-05-07 15:08阅读:62来源:国知局
一种光致发光粉制备装置的制作方法

1.本发明涉及光致发光粉制备技术领域,尤其涉及一种光致发光粉制备装置。


背景技术:

2.发光粉,又名夜光,蓄光型发光颜料是粉末状光致蓄光发光材料,通过吸收各种可见光实现发光功能,并可多次循环使用。该品不含放射性元素,可作为一种添加剂。
3.但是现有技术中,现有的发光粉制备装置一般需要先调制成发光剂,随后再将其烘干脱水,最终再将其研磨成发光粉进行使用,目前普通的研磨装置一般是直接将烘干之后的发光粉块放入研磨盘内中进行研磨,而传统的研磨方式时通过电机带动研磨盘不断地转动,利用摩擦和挤压将发光粉块研磨成粉状,在研磨过程中由于研磨盘需要不断的转动,因此会将一部分的粉块抛散到磨盘上方,此时就需要操作人员不断地将上方粉块扫落到研磨盘下方,存在一定的局限性,而且传统的容器内部会留有一些额外的空间用以容纳粉块,这些空间在后续的研磨时可能会导致一部分的粉块滞留在此空间内,容易导致研磨设备无法对粉块进行全面的处理,导致最终产品存在结块的情况。


技术实现要素:

4.本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,采用在中心转杆周围设置辅助研磨设备的方式,提升整个研磨装置与发光粉块的接触范围,并且可以对一些体积较大的发光粉块从上下两处进行压制,两处压力会最终集中在发光粉块的内部,从而加快其破碎速度达到提升研磨成粉效率的目的,而在将较大的发光粉块破碎成多个体积较小的分块之后辅助研磨设备能够进一步靠近研磨盘。
5.为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:一种光致发光粉制备装置,包括研磨装置和容纳装置,所述研磨装置的底部连接在容纳装置的内部,所述研磨装置包括安装支撑杆、驱动电机、中心转杆、辅助研磨设备和范围控制装置,所述安装支撑杆的一端连接在驱动电机的外壁上,所述中心转杆的一端与驱动电机相连接,所述中心转杆的底部设置有研磨盘,所述辅助研磨设备位于中心转杆的周围,所述范围控制装置的一端连接在辅助研磨设备的顶部,所述范围控制装置的一侧连接在容纳装置的内壁上。
6.作为一种优选的实施方式,所述辅助研磨设备包括安装承载模块,所述安装承载模块的底部设置有压制研磨锥体,所述安装承载模块的内部设置有电机,所述压制研磨锥体的外壁上开设有破碎缺口,所述安装承载模块的两侧均设置有活动转杆,所述活动转杆的另一端连接在中心转杆的外壁上,所述活动转杆与中心转杆的交接处设置有分离转环,所述分离转环的内壁与中心转杆相连接。
7.采用上述进一步方案的有益效果是:可以对一些体积较大的发光粉块从上下两处进行压制,两处压力会最终集中在发光粉块的内部,从而加快其破碎速度达到提升研磨成粉效率的目的。
8.作为一种优选的实施方式,所述活动转杆的内部开设有路线限制通孔,所述路线
限制通孔的内部设置有活动滑杆,所述活动滑杆的外壁上安装有螺旋切割刀片,所述活动滑杆的两端设置有对接模块,所述活动滑杆的接线端与安装承载模块的接线端相连接,所述活动转杆的外壁上安装有回弹架构,所述回弹架构位于活动转杆与安装承载模块的交接处。
9.采用上述进一步方案的有益效果是:研磨机构能够通过活动转杆进行高度和角度的调节,从而保证装置内部的发光分块能够保持在不断移动的状态下,可以提升此装置的研磨范围,避免一些小型的发光粉块没有得到充分的研磨。
10.作为一种优选的实施方式,所述回弹架构包括容纳壳体,所述容纳壳体的内部设置有扭力弹簧,所述扭力弹簧的另一端设置有撑顶卡块,所述撑顶卡块与对接模块位于活动转杆的同一侧。
11.采用上述进一步方案的有益效果是:推动活动滑杆顺着活动转杆内开设的路线限制通孔移动处理压制研磨锥体与中心转杆之间的发光粉块。
12.作为一种优选的实施方式,所述范围控制装置包括弧形承载面板、第一转杆、第一转轴、第二转杆、第二转轴、支撑横杆、移动滑块和伸缩连接杆,所述第一转杆的一端连接在弧形承载面板的底部,所述第一转轴位于第一转杆与弧形承载面板的交接处,所述第二转杆的一端连接在第二转轴的外壁上,所述第二转轴的底部连接在第一转杆的内部,所述支撑横杆位于弧形承载面板的底部,所述第一转杆位于支撑横杆与弧形承载面板之间,所述移动滑块套接在支撑横杆上,所述伸缩连接杆的底部连接在移动滑块的外壁上,所述第二转轴的另一端连接在移动滑块的顶部。
13.采用上述进一步方案的有益效果是:能够在此装置内部的绝大部分空间中搅动发光粉块,使研磨盘上方的发光粉块可以落入到研磨盘的下方,并且可以有效地避免一些发光粉滞留在装置的内壁上。
14.作为一种优选的实施方式,所述容纳装置包括对接限制圈、容纳箱主体、支撑脚和分隔圆环,所述对接限制圈安装在容纳箱主体的顶部,所述支撑脚的一端连接在对接限制圈的外壁上,所述分隔圆环安装在对接限制圈的内壁上。
15.采用上述进一步方案的有益效果是:利用分隔圆环将范围控制装置中的弧形承载面板限制在对接限制圈上,避免其在转动过程中对容纳箱主体造成损伤,以保持器内壁的完整性。
16.作为一种优选的实施方式,所述弧形承载面板的底部连接在分隔圆环的顶部,所述弧形承载面板的一侧连接在对接限制圈的内壁上,所述伸缩连接杆的顶部连接在安装承载模块的顶部,所述中心转杆位于容纳箱主体的圆心处。
17.采用上述进一步方案的有益效果是:提升整个研磨装置与发光粉块的接触范围。
18.与现有技术相比,本发明的优点和积极效果在于,
19.1、本发明中,采用在中心转杆周围设置辅助研磨设备的方式,提升整个研磨装置与发光粉块的接触范围,并且可以对一些体积较大的发光粉块从上下两处进行压制,两处压力会最终集中在发光粉块的内部,从而加快其破碎速度达到提升研磨成粉效率的目的,而在将较大的发光粉块破碎成多个体积较小的分块之后辅助研磨设备能够进一步靠近研磨盘,从而在研磨盘的上方额外形成了多个小型的研磨机构,并且此研磨机构能够通过活动转杆进行高度和角度的调节,从而保证装置内部的发光分块能够保持在不断移动的状态
下,可以提升此装置的研磨范围,避免一些小型的发光粉块没有得到充分的研磨。
20.2、本发明中,范围控制装置通过第一转杆、第二转杆、第一转轴和第二转轴组合运作的方式,能够带动辅助研磨设备在水平方向上进行移动,同时利用伸缩连接杆带动压制研磨锥体在此装置的竖直方向上进行移动,配合使用就能够实现在此装置内部的绝大部分空间中搅动发光粉块,使研磨盘上方的发光粉块可以落入到研磨盘的下方,并且可以有效地避免一些发光粉滞留在装置的内壁上。
附图说明
21.图1为本发明提供一种光致发光粉制备装置的立体图;
22.图2为本发明提供一种光致发光粉制备装置的研磨装置结构示意图;
23.图3为本发明提供一种光致发光粉制备装置的研磨装置中辅助研磨设备结构示意图;
24.图4为本发明提供一种光致发光粉制备装置的研磨装置与研磨装置连接结构示意图;
25.图5为本发明提供一种光致发光粉制备装置的回弹架构与部分辅助研磨设备结构示意图;
26.图6为本发明图2中a部分的结构放大示意图;
27.图7为本发明提供一种光致发光粉制备装置的容纳装置结构示意图。
28.图例说明:
29.1、研磨装置;2、容纳装置;
30.11、安装支撑杆;12、驱动电机;13、中心转杆;14、辅助研磨设备;15、范围控制装置;
31.141、安装承载模块;142、压制研磨锥体;143、活动转杆;144、分离转环;145、路线限制通孔;146、活动滑杆;147、螺旋切割刀片;148、对接模块;149、回弹架构;
32.1491、容纳壳体;1492、扭力弹簧;1493、撑顶卡块;
33.151、弧形承载面板;152、第一转杆;153、第一转轴;154、第二转杆;155、第二转轴;156、支撑横杆;157、移动滑块;158、伸缩连接杆;
34.21、对接限制圈;22、容纳箱主体;23、支撑脚;24、分隔圆环。
具体实施方式
35.下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
36.实施例1
37.如图1和图2所示,本发明提供一种技术方案:一种光致发光粉制备装置,包括研磨装置1和容纳装置2,研磨装置1的底部连接在容纳装置2的内部,研磨装置1包括安装支撑杆11、驱动电机12、中心转杆13、辅助研磨设备14和范围控制装置15,安装支撑杆11的一端连接在驱动电机12的外壁上,中心转杆13的一端与驱动电机12相连接,中心转杆13的底部设
置有研磨盘,辅助研磨设备14位于中心转杆13的周围,范围控制装置15的一端连接在辅助研磨设备14的顶部,范围控制装置15的一侧连接在容纳装置2的内壁上。
38.在本实施例中,安装支撑杆11将驱动电机12固定在研磨装置1的内部,并通过中心转杆13与研磨盘相连接,利用中心转杆13来确定整个研磨装置1的转动中心,使用时驱动电机12将通过中心转杆13来带动研磨盘进行转动,从而对装置内部的发光粉块进行研磨处理,而在研磨过程中范围控制装置15将带动辅助研磨设备14在装置的内部与研磨盘的上方搅动,将发光粉块推动到研磨盘的下方。
39.实施例2
40.如图2、图3、图4和图5所示,辅助研磨设备14包括安装承载模块141,安装承载模块141的底部设置有压制研磨锥体142,安装承载模块141的内部设置有电机,压制研磨锥体142的外壁上开设有破碎缺口,安装承载模块141的两侧均设置有活动转杆143,活动转杆143的另一端连接在中心转杆13的外壁上,活动转杆143与中心转杆13的交接处设置有分离转环144,分离转环144的内壁与中心转杆13相连接,活动转杆143的内部开设有路线限制通孔145,路线限制通孔145的内部设置有活动滑杆146,活动滑杆146的外壁上安装有螺旋切割刀片147,活动滑杆146的两端设置有对接模块148,活动滑杆146的接线端与安装承载模块141的接线端相连接,活动转杆143的外壁上安装有回弹架构149,回弹架构149位于活动转杆143与安装承载模块141的交接处,回弹架构149包括容纳壳体1491,容纳壳体1491的内部设置有扭力弹簧1492,扭力弹簧1492的另一端设置有撑顶卡块1493,撑顶卡块1493与对接模块148位于活动转杆143的同一侧。
41.在本实施例中,辅助研磨设备14运作时,首先安装承载模块141会驱动压制研磨锥体142和活动滑杆146进行转动,利用破碎缺口和螺旋切割刀片147将发光粉块破碎成体积更小的粉块,在其研磨破碎时活动转杆143将围绕分离转环144进行转动,而在其进行转动的过程中活动滑杆146两端的对接模块148将顺着活动转杆143内开设的路线限制通孔145移动,以处理压制研磨锥体142与中心转杆13之间的发光粉块,当活动转杆143处于斜向上的状态时,活动滑杆146位于分离转环144附近,当活动转杆143处于斜向下的状态时,活动滑杆146将移动到安装承载模块141附近并与回弹架构149上的撑顶卡块1493相接触,此时位于容纳壳体1491内部的扭力弹簧1492会通过撑顶卡块1493不断将对接模块148向上回弹,使活动滑杆146在活动转杆143内保持在不断移动的状态下,可以有效地提升研磨破碎效果,并且在活动转杆143转变到斜向下的状态时与底部的研磨盘可以对一些体积较大的发光粉块从上下两处进行压制,两处压力会最终集中在发光粉块的内部,从而加快其破碎速度达到提升研磨成粉效率的目的,而在将较大的发光粉块破碎成多个体积较小的分块之后辅助研磨设备14能够进一步靠近研磨盘,从而在研磨盘的上方额外形成了多个小型的研磨机构,可以提升此装置的研磨范围,避免一些小型的发光粉块没有得到充分的研磨。
42.实施例3
43.如图2和图6所示,范围控制装置15包括弧形承载面板151、第一转杆152、第一转轴153、第二转杆154、第二转轴155、支撑横杆156、移动滑块157和伸缩连接杆158,第一转杆152的一端连接在弧形承载面板151的底部,第一转轴153位于第一转杆152与弧形承载面板151的交接处,第二转杆154的一端连接在第二转轴155的外壁上,第二转轴155的底部连接在第一转杆152的内部,支撑横杆156位于弧形承载面板151的底部,第一转杆152位于支撑
横杆156与弧形承载面板151之间,移动滑块157套接在支撑横杆156上,伸缩连接杆158的底部连接在移动滑块157的外壁上,第二转轴155的另一端连接在移动滑块157的顶部。
44.在本实施例中,第一转杆152围绕第一转轴153从弧形承载面板151下转出,并在转出的过程中会推动第二转杆154围绕第二转轴155进行转动,从而将位于支撑横杆156上的移动滑块157向前推动,而此移动滑块157通过伸缩连接杆158与安装承载模块141连接在一起,因此就可以带动辅助研磨设备14在水平方向上进行移动,在移动的过程中伸缩连接杆158的长度就会发生改变,从而将辅助研磨设备14向下推动,以改变活动转杆143的状态,而第一转杆152不断的转动就可以不断的带动活动转杆143和伸缩连接杆158改变状态,能够在此装置内部的绝大部分空间中搅动发光粉块,使研磨盘上方的发光粉块可以落入到研磨盘的下方,并且可以有效地避免一些发光粉滞留在装置的内壁上。
45.实施例4
46.如图1和图7所示,容纳装置2包括对接限制圈21、容纳箱主体22、支撑脚23和分隔圆环24,对接限制圈21安装在容纳箱主体22的顶部,支撑脚23的一端连接在对接限制圈21的外壁上,分隔圆环24安装在对接限制圈21的内壁上,弧形承载面板151的底部连接在分隔圆环24的顶部,弧形承载面板151的一侧连接在对接限制圈21的内壁上,伸缩连接杆158的顶部连接在安装承载模块141的顶部,中心转杆13位于容纳箱主体22的圆心处。
47.在本实施例中,对接限制圈21用于对接研磨装置1,并利用其内壁上的分隔圆环24将范围控制装置15中的弧形承载面板151限制在对接限制圈21上,避免其在转动过程中对容纳箱主体22造成损伤,以保持器内壁的完整性。
48.工作原理:
49.如图1、图2、图3、图4、图5、图6和图7所示,对接限制圈21用于对接研磨装置1,并利用其内壁上的分隔圆环24将范围控制装置15中的弧形承载面板151限制在对接限制圈21上,避免其在转动过程中对容纳箱主体22造成损伤,以保持器内壁的完整性,第一转杆152围绕第一转轴153从弧形承载面板151下转出,并在转出的过程中会推动第二转杆154围绕第二转轴155进行转动,从而将位于支撑横杆156上的移动滑块157向前推动,而此移动滑块157通过伸缩连接杆158与安装承载模块141连接在一起,因此就可以带动辅助研磨设备14在水平方向上进行移动,在移动的过程中伸缩连接杆158的长度就会发生改变,从而将辅助研磨设备14向下推动,以改变活动转杆143的状态,而第一转杆152不断的转动就可以不断的带动活动转杆143和伸缩连接杆158改变状态,辅助研磨设备14运作时,首先安装承载模块141会驱动压制研磨锥体142和活动滑杆146进行转动,利用破碎缺口和螺旋切割刀片147将发光粉块破碎成体积更小的粉块,在其研磨破碎时活动转杆143将围绕分离转环144进行转动,而在其进行转动的过程中活动滑杆146两端的对接模块148将顺着活动转杆143内开设的路线限制通孔145移动,以处理压制研磨锥体142与中心转杆13之间的发光粉块,当活动转杆143处于斜向上的状态时,活动滑杆146位于分离转环144附近,当活动转杆143处于斜向下的状态时,活动滑杆146将移动到安装承载模块141附近并与回弹架构149上的撑顶卡块1493相接触,此时位于容纳壳体1491内部的扭力弹簧1492会通过撑顶卡块1493不断将对接模块148向上回弹,使活动滑杆146在活动转杆143内保持在不断移动的状态下,可以有效地提升研磨破碎效果,并且在活动转杆143转变到斜向下的状态时与底部的研磨盘可以对一些体积较大的发光粉块从上下两处进行压制,两处压力会最终集中在发光粉块的内
部。
50.以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非是对本发明作其它形式的限制,任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或改型为等同变化的等效实施例应用于其它领域,但是凡是未脱离本发明技术方案内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与改型,仍属于本发明技术方案的保护范围。
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