一种米粒输送量可控的大米加工用抛光设备的制作方法

文档序号:31946097发布日期:2022-10-26 04:31阅读:34来源:国知局
一种米粒输送量可控的大米加工用抛光设备的制作方法

1.本发明涉及大米抛光技术领域,具体为一种米粒输送量可控的大米加工用抛光设备。


背景技术:

2.大米是稻谷经清理、砻谷、碾米、成品整理等工序后制成的成品,在进行大米加工时为了提高大米的质量以及外观的亮泽度,通常都会用到相应的抛光设备来对大米进行抛光处理。
3.然而现有的抛光设备存在以下问题:现有的抛光设备在对大米进行抛光时通常都是采用抛光辊的转动来对大米进行挤压打磨,然而抛光辊利用与打磨的摩擦挤压进行打磨时,容易与大米之间进行硬性接触后从而造成大量的碎米,同时在对大米抛光时,不便于控制对米粒的打磨量,进而导致一次性打磨过多的大米后容易影响到整体的打磨效果。
4.所以我们提出了一种米粒输送量可控的大米加工用抛光设备,以便于解决上述中提出的问题。


技术实现要素:

5.本发明的目的在于提供一种米粒输送量可控的大米加工用抛光设备,以解决上述背景技术提出的目前市场上现有的抛光设备在对大米进行抛光时通常都是采用抛光辊的转动来对大米进行挤压打磨,然而抛光辊利用与打磨的摩擦挤压进行打磨时,容易与大米之间进行硬性接触后从而造成大量的碎米,同时在对大米抛光时,不便于控制对米粒的打磨量,进而导致一次性打磨过多的大米后容易影响到整体的打磨效果的问题。
6.为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种米粒输送量可控的大米加工用抛光设备,包括外壳体、投料口、出料口、活动转盘、中心轴和容纳腔,所述外壳体的上端中部安装有投料口,且外壳体的下端中部安装有出料口,所述外壳体的内部安装有活动转盘,且活动转盘的中部贯穿安装有中心轴,并且活动转盘的中部边侧设置有四个填装大米的容纳腔,活动转盘的前后两侧高度低于中间部位,所述活动转盘的背面边缘设置有齿块;还包括:安装在所述活动转盘背面边侧的侧向齿轮,所述侧向齿轮的边侧固定安装有导向杆,所述投料口的边侧安装有击打杆,且击打杆的外端和导向杆的外端均镶嵌有限位磁珠,所述击打杆和投料口的边侧内部通过提供复位弹力的内置弹簧相互连接;衔接齿杆,安装在所述活动转盘前端边侧,所述活动转盘的外侧设置有固定块,且固定块镶嵌在外壳体的内部;橡胶垫,设置在所述容纳腔的左右两侧,所述容纳腔的内部固定连接有打磨凸起;齿轮杆,其上的齿轮设置在所述衔接齿杆的边侧,所述齿轮杆安装在活动转盘的中部内侧;
辅助气囊,固定安装在所述衔接齿杆的下端,所述辅助气囊和分流块通过输送管相互连接,且分流块的边侧安装有喷气头,所述喷气头位于容纳腔的底部,且容纳腔的底部开设有细孔;抵触杆,贯穿安装在所述齿轮杆的齿轮上,所述抵触杆的外端伸入至活动柱的内部,且活动柱的端部固定连接有圆齿轮,所述圆齿轮的外侧设置有定位齿圈,且定位齿圈固定安装在所述活动转盘的中部内侧,所述活动柱通过轴承安装在支撑块上,且支撑块能够在活动转盘的内部随着抵触杆旋转。
7.优选的,所述活动转盘的背面边侧和侧向齿轮为啮合连接,且侧向齿轮的边侧设置有三个等角度分布的导向杆。
8.通过采用上述技术方案,通过活动转盘的旋转从而能够使得背面边侧啮合连接的侧向齿轮进行同步旋转,利用侧向齿轮的转动进而能够使得固定连接的导向杆进行同步转动。
9.优选的,所述导向杆端部的限位磁珠和击打杆端部的限位磁珠磁性相反,且击打杆的内端和出料口边侧相互贴合,并且击打杆通过内置弹簧和出料口的边侧构成弹性伸缩结构。
10.通过采用上述技术方案,通过导向杆转动后利用限位磁珠之间的距离变化,从而能够使得击打杆在出料口的边侧进行左右往复移动,由此即可对出料口进行敲击。
11.优选的,所述衔接齿杆和活动转盘的边侧为滑动连接,且衔接齿杆的外端和固定块的表面均设置为弧形结构。
12.通过采用上述技术方案,通过活动转盘的旋转从而能够使得衔接齿杆进行同步转动,利用衔接齿杆外端和固定块的接触,从而能够衔接齿杆在活动转盘上进行移动。
13.优选的,所述橡胶垫分布在容纳腔的两侧,且容纳腔的内部均匀分布有打磨凸起。
14.通过采用上述技术方案,通过橡胶垫受力后发生的形变从而能够使其内部的大米相互之间发生摩擦挤压,由此来对大米进行抛光打磨。
15.优选的,所述齿轮杆上的齿轮和衔接齿杆的边侧为啮合连接,且衔接齿杆和辅助气囊位于同一竖向直线上。
16.通过采用上述技术方案,当衔接齿杆进行移动后从而能够使其边侧啮合连接的齿轮杆进行旋转,同时利用衔接齿杆的移动能够对辅助气囊进行挤压。
17.优选的,所述分流块的内部设置为空心结构,且分流块上均匀分布有喷气头,并且分流块上的喷气头和容纳腔上的细孔位于同一直线上。
18.通过采用上述技术方案,当分流块的内部进入气流后从而能够使其内部的气体通过喷气头向外喷出,气流通过细孔进入至容纳腔的内部。
19.优选的,所述抵触杆的外壁和齿轮杆上的齿轮边侧内壁相互贴合,且抵触杆和齿轮杆上的齿轮构成滑动连接结构,并且抵触杆的内端和橡胶垫相互贴合。
20.通过采用上述技术方案,通过抵触杆在齿轮杆上的滑动,从而能够在旋转的过程中改变对橡胶垫的挤压力度。
21.优选的,所述活动柱和抵触杆为螺纹连接,且活动柱上固定连接的圆齿轮和定位齿圈为啮合连接。
22.通过采用上述技术方案,当活动柱进行转动后从而能够使得螺纹连接的抵触杆进
行移动。
23.与现有技术相比,本发明的有益效果是:该米粒输送量可控的大米加工用抛光设备,能够在对大米抛光时方便控制大米的抛光量,同时能够避免采用抛光辊旋转的方式对大米进行直接抛光;1、设置有容纳腔,通过容纳腔在活动转盘中部上的均匀分布,从而能够在进行活动转盘旋转时,方便利用容纳腔对大米进行定量输送,由此避免一次性打磨过多的大米影响到整体的打磨效果,同时当活动转盘旋转后从而能够使得啮合连接的侧向齿轮进行同步转动,当侧向齿轮转动后能够通过其上导向杆端部的限位磁珠和击打杆端部限位磁珠的距离变化,使得击打杆进行左右往复移动,利用击打杆左右往复移动从而能够对投料口进行敲击,通过击打杆对投料口敲击时产生的震动,从而能够避免投料口内部的大米出现堵塞的现象;2、设置有衔接齿杆,通过衔接齿杆转动后与固定块的脱离和接触,从而能够使得衔接齿杆进行上下往复移动,由此利用衔接齿杆的往复移动进而能够使得啮合连接的齿轮杆进行同步旋转,通过齿轮杆的转动进而能够使其抵触杆和活动柱进行转动,而当活动柱在转动后通过圆齿轮和定位齿圈的啮合,进而能够使得活动柱发生自转,由此当活动柱自转后即可使得螺纹连接的抵触杆进行移动,利用抵触杆旋转过程中的移动进而能够对橡胶垫进行挤压发生形变,通过橡胶垫的形变从而能够使其内部的大米和大米之间以及大米和打磨凸起之间摩擦,由此来进行大米打磨,避免采用抛光辊的方式打磨;3、设置有分流块,当衔接齿杆进行往复移动后从而能够对辅助气囊进行挤压,通过对辅助气囊的挤压从而能够使其内部的气体通过输送管进入至分流块的内部,当分流块的内部进入至气体后从而能够通过喷气头和细孔将气流吹入至容纳腔的内部,通过吹入的气流也能够使得大米在容纳腔的内部进行运动,以此来进一步的实现大米的抛光打磨。
附图说明
24.图1为本发明正面剖视结构示意图;图2为本发明背面剖视结构示意图;图3为本发明图1中a处放大结构示意图;图4为本发明外壳体和活动转盘侧剖结构示意图;图5为本发明活动转盘和分流块剖视结构示意图;图6为本发明图5中b处放大结构示意图;图7为本发明圆齿轮和定位齿圈侧视结构示意图;图8为本发明抵触杆和活动柱剖视结构示意图。
25.图中:1、外壳体;2、投料口;3、出料口;4、活动转盘;5、中心轴;6、容纳腔;7、侧向齿轮;8、导向杆;9、击打杆;10、限位磁珠;11、内置弹簧;12、衔接齿杆;13、固定块;14、橡胶垫;15、打磨凸起;16、齿轮杆;17、辅助气囊;18、分流块;19、喷气头;20、输送管;21、抵触杆;22、活动柱;23、圆齿轮;24、定位齿圈;25、支撑块。
具体实施方式
26.下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完
整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
27.实施例一:现有的抛光设备在使用的过程中不便于控制对米粒的打磨量,从而导致一次性打磨过多的大米后容易影响到整体的打磨效果,同时在进行米粒输送时,不便于对进料口进行及时疏通,进而使其米粒容易在进料口的内部发生堵塞,影响到后续的米粒抛光,为了解决这一技术问题,本发明提供如下实施例:一种米粒输送量可控的大米加工用抛光设备,包括外壳体1、投料口2、出料口3、活动转盘4、中心轴5和容纳腔6,外壳体1的上端中部安装有投料口2,且外壳体1的下端中部安装有出料口3,外壳体1的内部安装有活动转盘4,且活动转盘4的中部贯穿安装有中心轴5,并且活动转盘4的中部边侧设置有四个填装大米的容纳腔6,活动转盘4的前后两侧高度低于中间部位,活动转盘4的背面边缘设置有齿块;还包括:安装在活动转盘4背面边侧的侧向齿轮7,侧向齿轮7的边侧固定安装有导向杆8,投料口2的边侧安装有击打杆9,且击打杆9的外端和导向杆8的外端均镶嵌有限位磁珠10,击打杆9和投料口2的边侧内部通过提供复位弹力的内置弹簧11相互连接;活动转盘4的背面边侧和侧向齿轮7为啮合连接,且侧向齿轮7的边侧设置有三个等角度分布的导向杆8。导向杆8端部的限位磁珠10和击打杆9端部的限位磁珠10磁性相反,且击打杆9的内端和出料口3边侧相互贴合,并且击打杆9通过内置弹簧11和出料口3的边侧构成弹性伸缩结构。
28.本实施例的工作原理是:如图1-4所示,当需要对大米打磨时,将活动转盘4中部的中心轴5和外界的驱动设备相互连接,驱动设备是伺服电机,通过伺服电机的开启能够使得活动转盘4进行转动,当活动转盘4转动后其上的容纳腔6与投料口2相互对应后,投料口2内部投放的大米从而能够对应的进入至活动转盘4上的容纳腔6内部,进而以此来对大米的输送量进行控制,避免一次性打磨抛光过多的大米影响到整体的打磨效果,同时当活动转盘4转动后能够使得啮合连接的侧向齿轮7进行同步旋转,当侧向齿轮7旋转后能够带动其边侧固定连接的导向杆8进行同步转动,当导向杆8转动后其上的限位磁珠10和击打杆9端部的限位磁珠10相互靠近时,从而能够利用限位磁珠10之间的磁吸力使得击打杆9向投料口2的外侧进行移动,当导向杆8转动后其上的限位磁珠10和击打杆9端部的限位磁珠10相互远离时,击打杆9在内置弹簧11的作用下进行复位,以此即实现了击打杆9的左右往复移动,利用击打杆9的左右往复移动进而能够对投料口2的边侧进行敲击,通过对投料口2边侧敲击时产生的震动即可避免大米在投料口2的内部出现堵塞的现象。
29.实施例二:现有的抛光设备在对大米进行抛光时通常都是采用抛光辊的转动来对大米进行挤压打磨,然而抛光辊利用与打磨的摩擦挤压进行打磨时,容易与大米之间进行硬性接触后从而造成大量的碎米,为了解决这一技术问题,本发明在上述实施例一的基础上提供如下技术方案,衔接齿杆12,安装在活动转盘4前端边侧,活动转盘4的外侧设置有固定块13,且固定块13镶嵌在外壳体1的内部;橡胶垫14,设置在容纳腔6的左右两侧,容纳腔6的内部固定连接有打磨凸起15;齿轮杆16,其上的齿轮设置在衔接齿杆12的边侧,齿轮杆16安装在活动转盘4的中部内侧;辅助气囊17,固定安装在衔接齿杆12的下端,辅助气囊17和分流块18通过输送管20相互连接,且分流块18的边侧安装有喷气头19,喷气头19位于容纳腔6的底
部,且容纳腔6的底部开设有细孔;抵触杆21,贯穿安装在齿轮杆16的齿轮上,抵触杆21的外端伸入至活动柱22的内部,且活动柱22的端部固定连接有圆齿轮23,圆齿轮23的外侧设置有定位齿圈24,且定位齿圈24固定安装在活动转盘4的中部内侧,活动柱22通过轴承安装在支撑块25上,且支撑块25能够在活动转盘4的内部随着抵触杆21旋转。衔接齿杆12和活动转盘4的边侧为滑动连接,且衔接齿杆12的外端和固定块13的表面均设置为弧形结构。橡胶垫14分布在容纳腔6的两侧,且容纳腔6的内部均匀分布有打磨凸起15。齿轮杆16上的齿轮和衔接齿杆12的边侧为啮合连接,且衔接齿杆12和辅助气囊17位于同一竖向直线上。分流块18的内部设置为空心结构,且分流块18上均匀分布有喷气头19,并且分流块18上的喷气头19和容纳腔6上的细孔位于同一直线上。抵触杆21的外壁和齿轮杆16上的齿轮边侧内壁相互贴合,且抵触杆21和齿轮杆16上的齿轮构成滑动连接结构,并且抵触杆21的内端和橡胶垫14相互贴合。活动柱22和抵触杆21为螺纹连接,且活动柱22上固定连接的圆齿轮23和定位齿圈24为啮合连接。
30.本实施例的工作原理是:如图1和图5-8所示,当大米进入至容纳腔6的内部后,活动转盘4进行顺时针旋转时,活动转盘4的转动能够带动衔接齿杆12进行同步旋转,当衔接齿杆12转动后其外端和固定块13相互接触后,从而能够利用固定块13的挤压,使其衔接齿杆12向活动转盘4的内侧进行移动,衔接齿杆12移动后能够对辅助气囊17进行挤压,此时辅助气囊17内部的气体通过输送管20进入至分流块18的内部,此时分流块18内部的气体能够通过喷气头19和容纳腔6底部的细孔吹入至容纳腔6的内部,通过向容纳腔6吹入的气流从而能够使其容纳腔6内部的大米进行运动,通过大米的运动进而能够使得大米和大米之间以及大米和打磨凸起15之间产生摩擦,以此利用气流使其大米进行初步打磨,当衔接齿杆12转动后其端部与固定块13相互脱离后,衔接齿杆12即可在辅助气囊17的弹力作用下进行复位,而当衔接齿杆12在移动的过程中能够使得啮合连接的齿轮杆16进行往复转动,通过齿轮杆16的转动能够使得抵触杆21、活动柱22、定位齿圈24和支撑块25进行同步转动,当活动柱22转动后通过圆齿轮23和定位齿圈24的啮合,进而能够使得活动柱22发生自转,当活动柱22自转后即可使得螺纹连接的抵触杆21朝向容纳腔6的内侧进行逐渐移动,通过抵触杆21随着齿轮杆16转动过程中的移动,进而能够对橡胶垫14进行挤压,当橡胶垫14受到挤压后使其容纳腔6内部的容积减小,进而再一次使得大米和大米之间以及大米和打磨凸起15之间发生摩擦,以此来进一步的提高对大米的打磨效果。
31.本说明书中未作详细描述的内容属于本领域专业技术人员公知的现有技术。
32.尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
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