一种半导体生产用排气装置的制作方法

本技术涉及半导体生产用排气设备，具体地涉及一种半导体生产用排气装置。

背景技术：

1、半导体制作工艺完成后会产生工艺废气，该工艺废气为混合气体包括例如四氢化硅气体、氟化氢气体等有害气体，因此需要在排放前进行无害化处理。

2、现有技术大多通过废气处理液对半导体生产废气进行处理，但由于废气与处理液的反应时间短，接触面积小，导致废气处理的效果较差，因此，有必要研发一种处理效果好的半导体生产用排气装置。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种半导体生产用排气装置，解决了传统的半导体生产用排气装置废气处理效果差的问题。

2、本实用新型解决其技术问题所采取的技术方案是：

3、本实用新型提供了一种半导体生产用排气装置，包括净化罐，所述净化罐的下部设有进气口，所述净化罐的内部设有与进气口连接的气泡石，所述气泡石的上方设有若干层拦网，若干层拦网的下部均设有震动器，净化罐的侧面设有进液口。

4、进一步，所述净化罐的上部连通设置有吸附罐，所述吸附罐的内部设有活性炭，吸附罐的上部开设有出气口。

5、进一步，所述进气口与气泡石之间通过输气管连接。

6、进一步，所述净化罐的底部设有排液口。

7、进一步，所述净化罐的下部设有支腿。

8、本实用新型的技术效果：

9、与现有技术相比，本实用新型涉及的半导体生产用排气装置，通过设置气泡石，增大了废气与废气处理液的接触面积，通过设置拦网，有效的延缓了废气泡在废气处理液中的上升时间，两者结合，有效的提高了废气的净化效果；通过吸附罐配合净化罐，进一步提高了废气的净化效果。

技术特征：

1.一种半导体生产用排气装置，包括净化罐，所述净化罐的下部设有进气口，其特征在于：所述净化罐的内部设有与进气口连接的气泡石，所述气泡石的上方设有若干层拦网，若干层拦网的下部均设有震动器，净化罐的侧面设有进液口。

2.根据权利要求1所述的一种半导体生产用排气装置，其特征在于：所述净化罐的上部连通设置有吸附罐，所述吸附罐的内部设有活性炭，吸附罐的上部开设有出气口。

3.根据权利要求2所述的一种半导体生产用排气装置，其特征在于：所述进气口与气泡石之间通过输气管连接。

4.根据权利要求1-3任一项所述的一种半导体生产用排气装置，其特征在于：所述净化罐的底部设有排液口。

5.根据权利要求4所述的一种半导体生产用排气装置，其特征在于：所述净化罐的下部设有支腿。

技术总结
本技术涉及半导体生产用排气设备技术领域，具体地涉及一种半导体生产用排气装置，包括净化罐，所述净化罐的下部设有进气口，所述净化罐的内部设有与进气口连接的气泡石，所述气泡石的上方设有若干层拦网，若干层拦网的下部均设有震动器，净化罐的侧面设有进液口；本装置解决了传统的半导体生产用排气装置废气处理效果差的问题。

技术研发人员：任景超
受保护的技术使用者：山东龙晶半导体新材料有限公司
技术研发日：20221011
技术公布日：2024/1/11