一种等离子清洗机喷嘴、喷枪及清洗机的制作方法

本技术涉及清洁设备，尤其涉及一种等离子清洗机喷嘴、喷枪及清洗机。

背景技术：

1、在工件表面处理前为得到良好的材料表面附着力，采用等离子体进行表面清洁处理是一种常见的处理方式，等离子体是由部分电子被剥夺后的原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质，等离子体是一种很好的导电体，用电磁力控制等离子体，经由处理装置的喷头喷射至工件表面以达到处理目的。

2、为了能在处理工件表面时具有更大的处理面积，公开号为cn217369580u的实用新型专利将喷头设计成可旋转式的结构，并通过在喷头内设置的特定连接通道及偏心通道，使高压气流能推动喷头自行旋转，从而增大等离子气体喷出后的覆盖面积。

3、但是，该专利所提供的等离子清洗喷头，如说明书附图中图1所示，其喷嘴主体内的连接通道形状存在拐角，使得等离子气体高压气流直接打到拐角处的通道内壁上，会对流经的等离子气体高压气流形成一定阻碍，使得高压气流在通过该连接通道时，大部分动能被转化成推动喷嘴主体旋转的动力，造成高压气流在喷出时气压降低，导致离子气体的喷射距离缩短、喷射的面积减小，影响等离子清洗喷头对工件表面的处理效果。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种等离子清洗机喷嘴、喷枪及清洗机，以增强等离子气体在喷出时的气压，提升等离子清洗喷头对工件表面的处理效果。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种等离子清洗机喷嘴，包括喷嘴主体，所述喷嘴主体上设置有进气口、进气通道、偏心通道和喷气孔；

3、所述进气口设于所述喷嘴主体的上端面，所述喷气孔设于所述喷嘴主体的下端面，所述进气口的中心位于所述喷嘴主体的中轴线上，所述喷气孔的位置偏离所述喷嘴主体的中轴线；

4、所述进气通道呈漏斗状，且其上端的开口大于下端的开口；

5、所述进气通道的上端与所述进气口连接，所述进气通道的下端与所述偏心通道的上端平滑连接，所述偏心通道的下端与所述喷气孔连接，所述偏心通道由所述进气通道的下端向所述喷嘴主体的切向偏离过渡到所述喷气孔。

6、优选地，所述进气通道的轴线与所述偏心通道的轴线夹角为90°-180°。

7、优选地，所述喷嘴主体的一侧设有缺口。

8、优选地，所述喷嘴主体的上端面设置有若干个螺纹连接孔，若干个所述螺纹连接孔围绕所述喷嘴主体的轴线均匀分布。

9、优选地，所述偏心通道的横截面的面积由上端至下端依次减小。

10、优选地，所述喷嘴主体的下端面设置有喇叭状的凹槽，所述喷气孔位于所述凹槽的外围一侧。

11、优选地，所述喷嘴主体采用一体成型工艺制成。

12、优选地，所述喷嘴主体的材质为钛合金。

13、一种喷枪，包括喷枪主体、喷枪杆、喷头和所述的等离子清洗机喷嘴，所述等离子清洗机喷嘴与所述喷头连接，所述喷头连接所述喷枪杆的一端，所述喷枪杆的另一端与所述喷枪主体连接。

14、一种清洗机，包括上述的喷枪。

15、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

16、1、通过设置内壁平滑的漏斗状进气通道，代替原先形状平直且拐角较多的连接通道，使等离子气体的高压气流在通过通道时受到通道内壁的阻力降低，增强了喷出时的气压，使等离子清洗喷头对工件表面的处理面积更广、效果更佳。

技术特征：

1.一种等离子清洗机喷嘴，包括喷嘴主体，其特征在于，所述喷嘴主体上设置有进气口(10)、进气通道(20)、偏心通道(30)和喷气孔(40)；

2.根据权利要求1所述的等离子清洗机喷嘴，其特征在于，所述进气通道(20)的轴线与所述偏心通道(30)的轴线夹角为90°-180°。

3.根据权利要求1所述的等离子清洗机喷嘴，其特征在于，所述喷嘴主体的一侧设有缺口(50)。

4.根据权利要求1所述的等离子清洗机喷嘴，其特征在于，所述喷嘴主体的上端面设置有若干个螺纹连接孔(60)，若干个所述螺纹连接孔(60)围绕所述喷嘴主体的轴线均匀分布。

5.根据权利要求1所述的等离子清洗机喷嘴，其特征在于，所述偏心通道(30)的横截面的面积由上端至下端依次减小。

6.根据权利要求1所述的等离子清洗机喷嘴，其特征在于，所述喷嘴主体的下端面设置有喇叭状的凹槽(70)，所述喷气孔(40)位于所述凹槽(70)的外围一侧。

7.根据权利要求1所述的等离子清洗机喷嘴，其特征在于，所述喷嘴主体采用一体成型工艺制成。

8.根据权利要求1所述的等离子清洗机喷嘴，其特征在于，所述喷嘴主体的材质为钛合金。

9.一种喷枪，其特征在于，包括喷枪主体、喷枪杆、喷头和权利要求1-8任一项所述的等离子清洗机喷嘴，所述等离子清洗机喷嘴与所述喷头连接，所述喷头连接所述喷枪杆的一端，所述喷枪杆的另一端与所述喷枪主体连接。

10.一种清洗机，其特征在于，包括权利要求9所述的喷枪。

技术总结
本技术涉及清洁设备技术领域，具体为一种等离子清洗机喷嘴、喷枪及清洗机，该等离子清洗机喷嘴包括喷嘴主体，喷嘴主体上设置有进气口、进气通道、偏心通道和喷气孔；进气口设于喷嘴主体的上端面，喷气孔设于喷嘴主体的下端面；进气通道呈漏斗状，且其上端的开口大于下端的开口；进气通道的上端与进气口连接，进气通道的下端与偏心通道的上端平滑连接，偏心通道的下端与喷气孔连接，偏心通道由进气通道的下端向喷嘴主体的切向偏离过渡到喷气孔。本技术实施例通过设置内壁平滑的漏斗状进气通道，使等离子气体的高压气流在通过通道时受到通道内壁的阻力降低，增强了喷出时的气压，使等离子清洗喷头对工件表面的处理面积更广、效果更佳。

技术研发人员：李名枝
受保护的技术使用者：深圳市森冠智能装备有限公司
技术研发日：20221216
技术公布日：2024/1/13