热处理装置以及热处理方法与流程

本发明涉及一种热处理装置以及热处理方法。

背景技术：

1、在平板显示器(flat panel display，fpd)的制造或半导体元件等的制造中，进行下述操作：使涂布有包含有机材料与溶剂的溶液的工件干燥，从而在工件上形成所期望的膜。作为用于进行干燥的装置，例如使用下述热处理装置，其包括：腔室，可维持比大气压减压的环境；以及加热器，对设在腔室内部的工件进行加热。此种热处理装置除了在工件的表面形成膜以外，还用于对工件的表面进行处理。

2、当反复进行对工件的热处理时，来源于工件表面所含的物质而在腔室内产生升华物。例如，当对工件进行加热时，工件表面所含的物质气化，因此有时会在温度比经加热的工件低的腔室的内壁成为固体而附着。当像这样附着于内壁的物质从腔室的内壁剥落时，会成为颗粒而附着于工件的表面，因此导致工件的品质下降。

3、而且，当对工件进行加热时，腔室内成为高温，因此腔室内的构件因热而膨胀。进而，在加热后进行冷却时，腔室内的构件将收缩。当构件反复膨胀与收缩时，构件彼此摩擦而产生颗粒。此种颗粒也会在热处理中附着于工件，或者附着于腔室内壁的颗粒剥落而附着于工件，由此成为工件的品质下降的原因。

4、为了应对此情况，需要定期地或者根据颗粒的附着量、品质的下降程度等来去除附着于腔室内壁等的颗粒的维护。

5、[现有技术文献]

6、[专利文献]

7、专利文献1：国际公开第2019/117250号

技术实现思路

1、[发明所要解决的问题]

2、在如上所述的维护的期间，无法进行工件的加热处理。因此，若维护的时间长或次数多，则生产性会大幅下降。

3、本发明的实施方式是为了解决如上所述的问题而完成，其目的在于提供一种热处理装置以及热处理方法，不会使生产性下降而确保腔室内的洁净度，提高工件的品质。

4、[解决问题的技术手段]

5、本发明的实施方式的热处理装置包括：腔室，能够维持比大气压减压的环境；排气部，连接于所述腔室，对所述腔室内进行排气；支撑部，支撑被收容在所述腔室内的工件；加热部，进行在所述工件被支撑于所述支撑部的状态下对所述工件进行加热的第一加热，且进行在所述工件未被支撑于所述支撑部的状态下以比所述第一加热快的升温速度对所述腔室内进行加热的第二加热；以及供气部，在所述第一加热后以及所述第二加热后，对腔室内供给气体，由此来进行冷却。

6、本发明的实施方式的热处理方法包括：第一热处理，在工件被支撑于经减压的腔室内的支撑部的状态下，加热部对所述工件进行加热后，供气部供给气体而进行冷却；工件排出处理，在所述第一热处理后，从所述腔室中排出所述工件；以及第二热处理，在所述工件未被支撑于所述支撑部的状态下，所述加热部通过比所述第一热处理快的升温速度对所述腔室内进行加热后，所述供气部供给所述气体而进行冷却，排气部对所述腔室内进行排气。

7、[发明的效果]

8、根据本发明的实施方式，能够提供一种热处理装置以及热处理方法，不会使生产性下降而确保腔室内的洁净度，提高工件的品质。

技术特征：

1.一种热处理装置，包括：

2.根据权利要求1所述的热处理装置，其中

3.根据权利要求1所述的热处理装置，其中

4.根据权利要求3所述的热处理装置，其中

5.根据权利要求4所述的热处理装置，其中

6.根据权利要求3所述的热处理装置，其中

7.根据权利要求4所述的热处理装置，其中

8.根据权利要求1所述的热处理装置，其中

9.根据权利要求1至8中任一项所述的热处理装置，其中

10.根据权利要求1所述的热处理装置，

11.根据权利要求10所述的热处理装置，其中

12.根据权利要求10所述的热处理装置，其中

13.根据权利要求10至12中任一项所述的热处理装置，其中

14.一种热处理方法，包括：

技术总结
本发明提供一种热处理装置以及热处理方法，不会使生产性下降而确保腔室内的洁净度，提高工件的品质。实施方式的热处理装置(1)具有：腔室(10)，可维持比大气压减压的环境；排气部(40)，连接于腔室(10)，对腔室(10)内进行排气；支撑部(30)，支撑被收容在腔室(10)内的工件(W)；加热部(50)，进行在工件(W)被支撑于支撑部(30)的状态下对工件(W)进行加热的第一加热，且进行在工件(W)未被支撑于支撑部(30)的状态下以比第一加热快的升温速度对腔室(10)内进行加热的第二加热；以及供气部(60)，在所述第一加热后以及所述第二加热后对腔室内供给气体，由此来进行冷却。

技术研发人员：高桥崇史,矶明典,武藤真,木村哲明
受保护的技术使用者：芝浦机械电子装置株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/1/14