一种黑色光刻胶用色浆的制备方法及其制备方法与应用与流程

文档序号:35283251发布日期:2023-09-01 03:43阅读:214来源:国知局
一种黑色光刻胶用色浆的制备方法及其制备方法与应用与流程

本发明涉及高分子,具体涉及一种黑色光刻胶用色浆的制备方法及其制备方法与应用。


背景技术:

1、光刻胶主要由树脂、单体、感光引发剂、色浆等原料组成,色浆既是彩色阻光剂的主要原料,又决定显示的质量;传统光刻胶的色浆制备通常采用染料加颜料,减少对光的散射,提高对比度,但染料不环保;又或者添加黑色氧化铬,刻蚀成本高,铬金属形成的黑色矩阵较低深宽比不能满足更高的工艺要求,而且铬高反射率,影响显示质量,且铬废水,对环境不环保;而采用炭黑和碳材料或彩色颜料混合,炭黑和碳材料的遮盖力和着色力强,且具备很高的性价比,但绝缘性能差,易产生静电干扰,彩色颜料光屏蔽特性差;因此,一种具有高屏蔽效果、绝缘性能强、不易产生静电干扰的黑色光刻胶色浆,具有广阔的市场前景以及应用价值。


技术实现思路

1、基于上述技术方案,本发明具有的技术效果为:

2、本发明对黑色颜料进行预处理,用重氮盐和偶联剂对其进行偶联作用,提高了其自身的分散性,制备得到的黑色颜料具有高绝缘性,克服了料绝缘性能差,易产生静电干扰的缺点,且增加其自身分散性;

3、本发明添加的复合分散剂,具有显著的分散效果,最后对色浆进行纳米化处理,增加了色浆整体的分散性,减少了分散剂的使用量。

4、本发明提供以下技术方案:

5、本发明提供一种黑色光刻胶用色浆的制备方法,包含以下步骤:

6、步骤1:在反应釜中加入树脂和溶剂进行分散搅拌均匀,再依次加入分散剂和预处理过的黑色颜料进行分散搅拌,得到色浆;

7、步骤2:将步骤1所得进行纳米化处理得到黑色光刻胶用色浆。

8、进一步研究地,所述的色浆包含以下重量份组分:3-7份丙烯酸树脂、3-5份分散剂、溶剂7-11份、10-15份预处理过的黑色颜料。

9、进一步研究地,所述的色浆包含以下重量份组分:5份丙烯酸树脂、4份分散剂、溶剂9份、12份预处理过的黑色颜料。

10、进一步研究地,步骤2所述的黑色颜料的预处理方法为;将炭黑和亚氧化钛以质量比1-3:1加入体积倍数为4-5倍的反应混合物中超声加热分散15-25min,加热10-20min,加热温度为60-80℃,再加入终浓度为10-14%的偶联剂,降温至45-55℃下搅拌反应2-3h,再进行干燥得到预处理过的黑色颜料。

11、进一步研究地,所述的反应混合物为重氮盐和水的混合,重氮盐与水的质量比为1-3:9-11。

12、进一步研究地,所述的偶联剂包括但不限于kh550、kh560、kbm602、tmc-105、tmc101、tmc-311w中的其中一种或多种。

13、进一步研究地,所述的分散剂为磺基琥珀酸十三烷基酯钠和聚乙二醇的复配体系,磺基琥珀酸十三烷基酯钠和聚乙二醇的质量比为2:2-4。

14、进一步研究地,所述的溶剂包括但不限于乙烯乙二醇醚、二甲基乙酰胺、乙二醇单丁醚、一缩二乙二醇单丁醚的其中一种或多种。

15、进一步研究地,所述的分散搅拌的搅拌时间为60-80min,分散搅拌温度为65-75℃,分散搅拌频率为3000-4000rpm。

16、进一步研究地,所述的纳米化处理为:将色浆进行研磨,研磨后的色浆粒径为40-60nm。

17、有益效果:本发明提供一种一种黑色光刻胶用色浆,其中对黑色颜料进行预处理,提高其自身分散性和绝缘性,制备得到的色浆稳定性高具有优异性能,绝缘性能好,不易产生静电干扰,且色浆的光屏蔽性强。



技术特征:

1.一种黑色光刻胶用色浆的制备方法,其特征在于,其制备方法包

2.根据权利要求1所述的一种黑色光刻胶用色浆的制备方法,其特

3.根据权利要求1所述的一种黑色光刻胶用色浆的制备方法,其特

4.根据权利要求1所述的一种黑色光刻胶用色浆的制备方法,其特

5.根据权利要求3所述的一种黑色光刻胶用色浆的制备方法,其特

6.根据权利要求3所述的一种黑色光刻胶用色浆的制备方法,其特

7.根据权利要求1所述的一种黑色光刻胶用色浆的制备方法,其特

8.根据权利要求1所述的一种黑色光刻胶用色浆的制备方法,其特

9.根据权利要求1所述的一种黑色光刻胶用色浆的制备方法,其特

10.根据权利要求1所述的一种黑色光刻胶用色浆的制备方法,其特


技术总结
本发明提供一种黑色光刻胶用色浆的制备方法,包括以下步骤:步骤1:在反应釜中加入树脂和溶剂进行分散搅拌均匀,再依次加入分散剂和预处理过的黑色颜料进行分散搅拌,得到色浆前体;步骤2:对色浆前体进行纳米化处理得到光刻胶色浆;其中对黑色颜料进行预处理,提高其自身分散性和绝缘性,制备得到的色浆稳定性高具有优异性能,绝缘性能好,不易产生静电干扰,且色浆的光屏蔽性强。

技术研发人员:匡民明,陆子菲,陆明
受保护的技术使用者:明光科迪新材料有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/14
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