一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置的制作方法

本发明属于涂胶机清洗设备，具体涉及一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置。

背景技术：

1、在半导体行业中，涂胶是一道极为常见的工序，涂胶直接影响着光刻胶的厚度、均匀性等参数，对光刻的质量有很大的影响，目前市场上的涂胶机存在一个通病，在涂胶机进行涂胶结束后，少量光刻胶会残留在喷头处，经过长时间的积累，喷头上的光刻胶越积越多且随着时间推移而凝固，若喷头上的光刻胶凝固后再进行涂胶则会出现胶柱倾斜的现象，使光刻胶无法均匀涂在晶圆表面，导致涂胶后晶圆各区域胶厚不均匀，严重影响涂胶良率，因此需在每次涂胶作业前检查喷头处光刻胶是否凝固，若发生光刻胶凝固则需进行处理，该操作需人为处理极为不便，费时费力，严重影响产线的产能。

2、在公开号为cn104941876a的中国专利中，提到了一种涂胶机胶头的清洁设备，包括壳体、清洁装置和控制模块，壳体内部形成废液容腔，且壳体上形成有与废液容腔连通以用于放置涂胶机胶头的清洗通道；清洁装置包括采用清洗液对胶头进行清洗的清洗模块和采用干燥气体对胶头进行干燥的干燥模块，清洗模块和干燥模块安装于壳体，控制模块与清洗模块以及干燥模块信号连接以控制清洁模块和干燥模块工作或停止。该涂胶机胶头清洁设备可在不与胶头直接接触的情况下对胶头进行清洁，避免了采用人工操作直接接触的清洁方式带来的胶头变形和磨损问题，保证了胶头的正常使用寿命，避免了因胶头使用寿命减少带来的液晶显示面板产品的生产成本增加和生产效率下降问题，尽管上述方案有益效果诸多，但是该方案中无法及时检测喷胶头上是否留存有光刻胶，因此在处理时，需要人工检测，然后开始清洁，其自动化程度低，需要进行改进。

3、对此发明人提出一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置，用以解决上述问题。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置，以解决现有技术中无法及时检测喷胶头上是否留存有光刻胶，因此在处理时，需要人工检测，然后开始清洁，其自动化程度低，需要进行改进的问题。

2、为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

3、一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置，包括喷胶头，所述喷胶头的一侧安装有监测器，所述喷胶头的另一侧依次安装有清洗剂喷头和氮气管路。

4、优选的，所述喷胶头远离所述清洗剂喷头的一侧安装有挡板。

5、优选的，所述监测器、所述喷胶头和所述清洗剂喷头在垂直方向投影处于非一条直线上。

6、优选的，所述清洗剂喷头的管路上安装有电磁阀一，所述氮气管路上安装有电磁阀二。

7、优选的，所述电磁阀一、所述电磁阀二与所述监测器电连接。

8、与现有技术相比，本发明的有益效果是：

9、(1)本发明通过监测器可实时检测喷胶头处是否存在残留的光刻胶，可省去人工检查的步骤，提高产线自动化，提高工作效率。

10、(2)本发明通过自动清洗装置以及自动吹干装置的配合，可快速清除喷胶头上的残胶，大大降低因涂胶异常而造成的晶圆返工率，提高产线的良率的同时，也大大降低了产线的运行成本。

技术特征：

1.一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置，包括喷胶头(1)，其特征在于，所述喷胶头(1)的一侧安装有监测器(2)，所述喷胶头(1)的另一侧依次安装有清洗剂喷头(3)和氮气管路(4)。

2.根据权利要求1所述的一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置，其特征在于：所述喷胶头(1)远离所述清洗剂喷头(3)的一侧安装有挡板(5)。

3.根据权利要求1所述的一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置，其特征在于：所述监测器(2)、所述喷胶头(1)和所述清洗剂喷头(3)在垂直方向投影处于非一条直线上。

4.根据权利要求1所述的一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置，其特征在于：所述清洗剂喷头(3)的管路上安装有电磁阀一，所述氮气管路(4)上安装有电磁阀二。

5.根据权利要求4所述的一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置，其特征在于：所述电磁阀一、所述电磁阀二与所述监测器(2)电连接。

技术总结
本发明涉及涂胶机清洗设备技术领域，具体公开了一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置，包括：喷胶头、监测器、清洗剂喷头、氮气管路和挡板；本发明的有益效果是：所述喷胶头的一侧安装有监测器，所述喷胶头的另一侧依次安装有清洗剂喷头和氮气管路，所述喷胶头远离所述清洗剂喷头的一侧安装有挡板，通过监测器可实时检测喷胶头处是否存在残留的光刻胶，可省去人工检查的步骤，提高产线自动化，提高工作效率，通过自动清洗装置以及自动吹干装置的配合，可快速清除喷胶头上的残胶，大大降低因涂胶异常而造成的晶圆返工率，提高产线的良率的同时，也大大降低了产线的运行成本。

技术研发人员：王小周,邓宇,李京波
受保护的技术使用者：浙江芯科半导体有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/14