本技术属于硅烷反应器,具体涉及一种硅烷反应器的四氟化硅插管。
背景技术:
1、硅烷是半导体微电子工艺中使用的最主要的特种气体,用于各种微电子薄膜制备、硅器件、硅集成电路。硅烷作为含硅薄膜和涂层,在钢铁、机械、化工和光学等各个领域也有广泛的应用。
2、授权公告号为cn102070144b的中国发明专利公开了一种利用四氟化硅与四氢化铝钠生产硅烷的方法,该方法中,四氟化硅与四氢化铝钠在在50℃~150℃、二甲氧基乙烷与甲苯的混合溶剂中反应,生成硅烷与四氟化铝钠。四氟化铝钠与二甲氧基乙烷溶和甲苯混合溶剂混合后黏度显著增加,容易附着在四氟化硅插管的出口上,造成插管出口处四氟化硅流速逐渐降低,反应速率逐渐降低,附着物累积到一定量后甚至会导致插管淤塞,反应无法继续进行。另外,四氟化硅原料气呈酸性,传统的四氟化硅插管为碳素钢材质,长时间使用后因腐蚀而造成表面光滑度降低。
技术实现思路
1、为了解决上述问题,本实用新型提供了一种硅烷反应器的四氟化硅插管。
2、本实用新型的一种硅烷反应器的四氟化硅插管的技术方案是:
3、一种硅烷反应器的四氟化硅插管,包括管体以及管接头,所述管体密封固定连接在反应器上,所述管接头的进气端孔径大于出气端孔径,所述管接头的进气端可拆卸连接在所述管体位于反应器内部的一端,所述管体包括本体以及设置在所述本体内壁上的聚四氟乙烯衬管,所述管接头的材质为聚四氟乙烯。
4、进一步的,所述管接头包括一体成型的柱形段以及位于柱形段一端的锥形段,所述柱形段与锥形段同轴布置,所述锥形段靠近柱形段的一端孔径大于另一端孔径。
5、进一步的,所述本体位于反应器内部的一端设有连接环,所述连接环的内壁与所述管体的内壁共面,所述柱形段的内孔为台阶孔,所述台阶孔的大径段内壁上设有内螺纹,所述连接环外壁上设有与所述内螺纹相匹配的外螺纹,所述柱形段的外壁与所述管体的外壁共面,所述台阶孔的小径段内壁与所述聚四氟乙烯衬管的内壁共面。
6、进一步的,所述台阶孔的台阶上设有密封圈。
7、进一步的,所述锥形段远离柱形段的一侧设有与所述锥形段同轴、罩在锥形段出气端的锥形返流罩,所述锥形返流罩靠近所述锥形段的一端外径大于另一端外径,所述锥形返流罩的小径端设有出气孔,所述出气孔的孔径小于所述锥形段的出气端孔径。
8、进一步的,所述锥形返流罩通过固定杆固定连接在所述锥形段外壁上。
9、本实用新型提供了一种硅烷反应器的四氟化硅插管,其有益效果是:
10、本实用新型硅烷反应器的四氟化硅插管中,通过在管体内壁设置聚四氟乙烯衬管,到抗酸、不溶于有机溶剂且抗有机溶剂腐蚀的效果。管体与管接头采用螺纹连接方式,管接头与管体连接位置无变径管接头内径逐步减小达到压缩气体的效果,提高四氟化硅出料流速,不断冲击出口处使四氟化铝钠难以累积,达到出料顺畅的目的。相比于现有技术,本实用新型的硅烷反应器的四氟化硅插管解决了反应器内长时间反应后四氟化硅插管易淤塞的问题。
1.一种硅烷反应器的四氟化硅插管,其特征在于,包括管体以及管接头,所述管体密封固定连接在反应器上,所述管接头的进气端孔径大于出气端孔径,所述管接头的进气端可拆卸连接在所述管体位于反应器内部的一端,所述管体包括本体以及设置在所述本体内壁上的聚四氟乙烯衬管,所述管接头的材质为聚四氟乙烯。
2.根据权利要求1所述的硅烷反应器的四氟化硅插管,其特征在于,所述管接头包括一体成型的柱形段以及位于柱形段一端的锥形段,所述柱形段与锥形段同轴布置,所述锥形段靠近柱形段的一端孔径大于另一端孔径。
3.根据权利要求2所述的硅烷反应器的四氟化硅插管,其特征在于,所述本体位于反应器内部的一端设有连接环,所述连接环的内壁与所述管体的内壁共面,所述柱形段的内孔为台阶孔,所述台阶孔的大径段内壁上设有内螺纹,所述连接环外壁上设有与所述内螺纹相匹配的外螺纹,所述柱形段的外壁与所述管体的外壁共面,所述台阶孔的小径段内壁与所述聚四氟乙烯衬管的内壁共面。
4.根据权利要求3所述的硅烷反应器的四氟化硅插管,其特征在于,所述台阶孔的台阶上设有密封圈。
5.根据权利要求2所述的硅烷反应器的四氟化硅插管,其特征在于,所述锥形段远离柱形段的一侧设有与所述锥形段同轴、罩在锥形段出气端的锥形返流罩,所述锥形返流罩靠近所述锥形段的一端外径大于另一端外径,所述锥形返流罩的小径端设有出气孔,所述出气孔的孔径小于所述锥形段的出气端孔径。
6.根据权利要求5所述的硅烷反应器的四氟化硅插管,其特征在于,所述锥形返流罩通过固定杆固定连接在所述锥形段外壁上。