电子级氢氟酸提纯用降膜蒸发器的制作方法

本技术涉及氢氟酸生产，尤其涉及电子级氢氟酸提纯用降膜蒸发器。

背景技术：

1、氢氟酸是重要的化工原料，随着化工行业的发展尤其是半导体行业的兴起，对于氢氟酸纯度的要求日益提高，在氢氟酸的提纯工艺中，精馏是重要的工序，降膜蒸发器由于需要物料流量小，传热效率高，在氢氟酸精馏过程中的应用日益广泛。

2、目前常规的降膜蒸发器顶部采用溢流方式进入换热管，管内成膜效果较差，所需单位换热长度液体流量大，要满足换热要求，换热管管长会较长，正压条件下由于气体流向与液体流量相反，容易造成液体阻塞，影响设备正常运行。

技术实现思路

1、为了克服上述技术的不足，本实用新型的目的是提供电子级氢氟酸提纯用降膜蒸发器。

2、本实用新型所采用的技术方案是：电子级氢氟酸提纯用降膜蒸发器，包括上管箱、上管板、壳体、下管板和下封头，壳体的上部与上管板的下部连接，上管板的上部与上管箱连接，壳体的下部与下管板的上部连接，下管板的下部与下封头连接，壳体内设置有碳化硅换热管和多个折流板，所述多个折流板沿壳体长度方向依次间隔交叉设置，所述碳化硅换热管的上端穿设通过上管板后连接有降膜头，碳化硅换热管的下端依次穿设通过多个折流板后穿设在下管板中，所述上管箱内设置有挡圈，上管箱与挡圈之间形成进料空间，所述上管箱的一侧设置有进料口，所述挡圈下部设置有进料缺口，所述降膜头设置在挡圈内，所述降膜头上设置有多个下液孔，下液孔倾斜向下设置，下液孔的出液口端沿降膜头内壁圆周的切向方向设置。

3、进一步的，所述多个下液孔沿降膜头圆周方向依次间隔设置。

4、进一步的，所述下液孔设置在降膜头的中部。

5、所述上管箱呈圆柱状，上管箱与挡圈同轴设置。

6、所述挡圈四周装有固定螺栓，挡圈通过所述固定螺栓与上管箱连接。

7、与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：本实用新型成膜所需液体流量小，成膜效果好，适用于正压操作条件的降膜蒸发器，实现了低流量下良好的换热效果，不容易造成液体阻塞，降膜头的下液孔采用切向方向进入碳化硅换热管，可以在小流量下实现良好的成膜效果，同时下液孔沿液体流动方向向下倾斜，可以加快液膜的形成，避免液膜初始形成阶段液膜过厚，造成气体流通截面变小，影响降膜蒸发器运行的稳定。

技术特征：

1.电子级氢氟酸提纯用降膜蒸发器，包括上管箱(1)、上管板(2)、壳体(3)、下管板(4)和下封头(5)，壳体(3)的上部与上管板(2)的下部连接，上管板(2)的上部与上管箱(1)连接，壳体(3)的下部与下管板(4)的上部连接，下管板(4)的下部与下封头(5)连接，壳体(3)内设置有碳化硅换热管(6)和多个折流板(7)，所述多个折流板(7)沿壳体(3)长度方向依次间隔交叉设置，所述碳化硅换热管(6)的上端穿设通过上管板(2)后连接有降膜头(8)，碳化硅换热管(6)的下端依次穿设通过多个折流板(7)后穿设在下管板(4)中，其特征在于：所述上管箱(1)内设置有挡圈(9)，上管箱(1)与挡圈(9)之间形成进料空间，所述上管箱(1)的一侧设置有进料口(11)，所述挡圈(9)下部设置有进料缺口(91)，所述降膜头(8)设置在挡圈(9)内，所述降膜头(8)上设置有多个下液孔(81)，下液孔(81)倾斜向下设置，下液孔(81)的出液口端沿降膜头(8)内壁圆周的切向方向设置。

2.如权利要求1所述的电子级氢氟酸提纯用降膜蒸发器，其特征在于：所述多个下液孔(81)沿降膜头(8)圆周方向依次间隔设置。

3.如权利要求1所述的电子级氢氟酸提纯用降膜蒸发器，其特征在于：所述上管箱(1)呈圆柱状，上管箱(1)与挡圈(9)同轴设置。

4.如权利要求1所述的电子级氢氟酸提纯用降膜蒸发器，其特征在于：所述挡圈(9)四周装有固定螺栓，挡圈(9)通过所述固定螺栓与上管箱(1)连接。

技术总结
电子级氢氟酸提纯用降膜蒸发器，包括上管箱、上管板、壳体、下管板和下封头，壳体内设置有碳化硅换热管和多个折流板，所述碳化硅换热管的上端穿设通过上管板后连接有降膜头，碳化硅换热管的下端依次穿设通过多个折流板后穿设在下管板中，所述上管箱内设置有挡圈，上管箱与挡圈之间形成进料空间，所述上管箱的一侧设置有进料口，所述挡圈下部设置有进料缺口，所述降膜头设置在挡圈内，所述降膜头上设置有多个下液孔，下液孔倾斜向下设置，下液孔的出液口端沿降膜头内壁圆周的切向方向设置。本技术成膜所需液体流量小，成膜效果好，适用于正压操作条件的降膜蒸发器，实现了低流量下良好的换热效果，不容易造成液体阻塞。

技术研发人员：钊文科,罗斯格,欧宝雷
受保护的技术使用者：无锡英罗唯森科技有限公司
技术研发日：20230620
技术公布日：2024/2/25