一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置的制作方法

本技术涉及硅钢板生产，尤其是一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置。

背景技术：

1、现有技术中，硅钢板在生产过程中，需要在表面喷涂氧化镁溶液。涂液辊为了能从溶液槽内带起较多的氧化镁溶液，所以会在涂液辊的表面沿周向间隔开设有细小的凹槽，氧化镁溶液会停留在内部，当其与硅钢板接触时，氧化镁溶液会涂抹、停留在硅钢板上。但是这就会造成硅钢板表面的氧化镁会成细条状，其在硅钢板表面的覆盖不均匀，会影响硅钢板的加工质量。

技术实现思路

1、本实用新型为了解决上述技术不足而提供一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置，能在冲击力的作用下使得硅钢板产生振动，从而使其表面的细条状的氧化镁溶液会均匀分布在硅钢板表面，以提升硅钢板的加工质量。

2、本实用新型公开了一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置，包括机架，所述硅钢板在机架上水平输送，在硅钢板下方的机架上设置有两组撞击机构，所述撞击机构分别位于硅钢板宽度方向的两端，其作用于硅钢板的下表面；

3、所述撞击机构包括第一立柱和第二立柱，在第一立柱的顶部通过销轴转动连接有摆锤，所述第二立柱位于摆锤中间部位的下方，所述摆锤的中间部位架设在第二立柱的上端，在第二立柱上设置有竖直向上的气缸，所述气缸的伸缩端与摆锤的端部对应，气缸的伸缩端伸长时将摆锤向上推送，在惯性作用下摆锤端部撞击硅钢板。

4、在摆锤端部的上端面设置有橡胶块，所述橡胶块的上表面呈向上凸起的弧面结构。

5、所述第二立柱的顶端的水平位置低于第一立柱的顶端的水平位置，在第二立柱的顶端设置有缓冲弹簧，所述缓冲弹簧位于摆锤中间部位的正下方，缓冲弹簧的下端与第二立柱的顶端固定连接。

6、在摆锤的外侧端部设置有柱状结构的内凹孔，所述内凹孔沿摆锤的长度方向设置，在内凹孔范围内的摆锤上间隔设置有若干个定位孔，在内凹孔内设置调节块，调节块上也设置有定位孔，调节块上的定位孔与摆锤上的其中一个定位孔对应后采用定位销固定。

7、在气缸的伸缩端的端部设置有耐磨块。

8、本实用新型所得到的一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置，在硅钢板涂布氧化镁溶液后，利用气缸推动摆锤快速撞击硅钢板，促使硅钢板产生振动，从而将氧化镁溶液振开，均匀覆盖于硅钢板表面，以提升氧化镁溶液在硅钢板表面的滚涂均匀性，提升硅钢板的加工质量。

技术特征：

1.一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置，包括机架，所述硅钢板在机架上水平输送，其特征是：在硅钢板下方的机架上设置有两组撞击机构，所述撞击机构分别位于硅钢板宽度方向的两端，其作用于硅钢板的下表面；

2.根据权利要求1所述的一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置，其特征是：在摆锤端部的上端面设置有橡胶块，所述橡胶块的上表面呈向上凸起的弧面结构。

3.根据权利要求1或2所述的一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置，其特征是：所述第二立柱的顶端的水平位置低于第一立柱的顶端的水平位置，在第二立柱的顶端设置有缓冲弹簧，所述缓冲弹簧位于摆锤中间部位的正下方，缓冲弹簧的下端与第二立柱的顶端固定连接。

4.根据权利要求3所述的一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置，其特征是：在摆锤的外侧端部设置有柱状结构的内凹孔，所述内凹孔沿摆锤的长度方向设置，在内凹孔范围内的摆锤上间隔设置有若干个定位孔，在内凹孔内设置调节块，调节块上也设置有定位孔，调节块上的定位孔与摆锤上的其中一个定位孔对应后采用定位销固定。

5.根据权利要求1所述的一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置，其特征是：在气缸的伸缩端的端部设置有耐磨块。

技术总结
本技术涉及硅钢板生产技术领域，尤其是一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置，包括机架，所述硅钢板在机架上水平输送，在硅钢板下方的机架上设置有两组撞击机构，所述撞击机构分别位于硅钢板宽度方向的两端，其作用于硅钢板的下表面。本技术所得到的一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置，在硅钢板涂布氧化镁溶液后，利用气缸推动摆锤快速撞击硅钢板，促使硅钢板产生振动，从而将氧化镁溶液振开，均匀覆盖于硅钢板表面，以提升氧化镁溶液在硅钢板表面的滚涂均匀性，提升硅钢板的加工质量。

技术研发人员：吕伟龙,吕遥超,沈志惠,杨新淼,黄晓春,李宏,韩晓乾
受保护的技术使用者：浙江华赢新材科技股份有限公司
技术研发日：20230731
技术公布日：2024/2/25