一种填料塔气体分布器的制作方法

本技术属于化工设备内构件领域，尤其是涉及一种填料塔气体分布器。

背景技术：

1、填料塔是化工生产过程中发挥着巨大作用，广泛应用在精馏，吸收，萃取等多种工序中。填料塔由填料和塔内件组成，填料塔传质效率的发挥需要高效填料和塔内件配合使用。其中塔内件主要包括液体收集器、液体分布器和气体分布器等。

2、填料塔内的气体上升时会出现截面中心处气速较快，塔壁附近气速较慢，气体分布不均匀的情况使气液传质效率降低，因此在塔内一般会采用气体分布器对塔内气体进行分布。专利202122243299.1提出在侧壁设置带有凸槽和凹槽的气体分布器增加通气效果防止堵塞，但凸槽和凹槽在侧壁开设，无法解决中间和边缘气速不均的情况。专利201720458087.6提出在气体分布板上开设帽罩和气体分布孔优化气体分布，但该结构操作弹性小，同时水平气体分布板容易在表面积液，导致塔内压降增大，容易出现液泛。

技术实现思路

1、有鉴于此，本实用新型旨在提出一种填料塔气体分布器，以解决填料填料塔截面中心气速快边缘气速慢，气体分布不均的技术问题。

2、为达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：

3、一种填料塔气体分布器，包括塔内设置的若干第一气体分布板和若干第二气体分布板，第一气体分布板和第二气体分布板相互平行设置，且第一气体分布板和第二气体分布板交替分布，第一气体分布板上设有第一气体上升区和第一气体导流区，第二气体分布板上设有第二气体上升区和第二气体导流区，相邻的第一气体分布板和第二气体分布板的第一气体上升区对应第二气体导流区，第一气体导流区对应第二气体上升区。

4、进一步的，所述第一气体分布板和第二气体分布板均通过支撑板固定连接至塔内。

5、进一步的，所述第一气体上升区、第二气体上升区分别为第一气体分布板或若干第二气体分布板的贯通孔。

6、进一步的，所述第一气体上升区、第二气体上升区的面积占塔内横截面积的5-50％。

7、进一步的，所述第一气体导流区和第二气体导流区由导流板构成，且导流板的横截面为倒v形结构。

8、进一步的，所述倒v形结构的夹角为45-135度。

9、相对于现有技术，本实用新型所述的一种填料塔气体分布器具有以下有益效果：

10、(1)本实用新型所述的一种填料塔气体分布器，相邻的第一气体分布板和第二气体分布板的第一气体上升区对应第二气体导流区，第一气体导流区对应第二气体上升区，使填料塔内气体流形得到优化，气体在设定通道内均匀流动，有效改善当前填料塔内中间气速快，边缘气速慢的情况。

11、(2)本实用新型所述的一种填料塔气体分布器，使气体流程增加，强化了气液传质。

技术特征：

1.一种填料塔气体分布器，其特征在于：包括塔(4)内设置的若干第一气体分布板(1)和若干第二气体分布板(2)，第一气体分布板(1)和第二气体分布板(2)相互平行设置，且第一气体分布板(1)和第二气体分布板(2)交替分布，第一气体分布板(1)上设有第一气体上升区(11)和第一气体导流区(12)，第二气体分布板(2)上设有第二气体上升区(21)和第二气体导流区(22)，相邻的第一气体分布板(1)和第二气体分布板(2)的第一气体上升区(11)对应第二气体导流区(22)，第一气体导流区(12)对应第二气体上升区(21)。

2.根据权利要求1所述的一种填料塔气体分布器，其特征在于：第一气体分布板(1)和第二气体分布板(2)均通过支撑板(3)固定连接至塔(4)内。

3.根据权利要求1所述的一种填料塔气体分布器，其特征在于：第一气体上升区(11)、第二气体上升区(21)分别为第一气体分布板(1)或若干第二气体分布板(2)的贯通孔。

4.根据权利要求1所述的一种填料塔气体分布器，其特征在于：第一气体上升区(11)、第二气体上升区(21)的面积占塔(4)内横截面积的5-50％。

5.根据权利要求1所述的一种填料塔气体分布器，其特征在于：第一气体导流区(12)和第二气体导流区(22)由导流板构成，且导流板的横截面为倒v形结构。

6.根据权利要求5所述的一种填料塔气体分布器，其特征在于：所述倒v形结构的夹角为45-135度。

技术总结
本技术提供了一种填料塔气体分布器，第一气体分布板和第二气体分布板相互平行设置，且第一气体分布板和第二气体分布板交替分布，第一气体分布板上设有第一气体上升区和第一气体导流区，第二气体分布板上设有第二气体上升区和第二气体导流区，相邻的第一气体分布板和第二气体分布板的第一气体上升区对应第二气体导流区，第一气体导流区对应第二气体上升区。本技术所述的一种填料塔气体分布器，相邻的第一气体分布板和第二气体分布板的第一气体上升区对应第二气体导流区，第一气体导流区对应第二气体上升区，使填料塔内气体流形得到优化，气体在设定通道内均匀流动，有效改善当前填料塔内中间气速快，边缘气速慢的情况。

技术研发人员：张学岗,刘通,范文岩
受保护的技术使用者：天津科林泰克科技有限公司
技术研发日：20230830
技术公布日：2024/4/7