本发明涉及螺旋溜槽辅助设备技术领域，具体为一种工业生产磷酸镁盐矿物质用螺旋溜槽滑块调整装置。
背景技术
重选螺旋溜槽操作调整除矿浓度、矿品位、矿量、设备运转台数等因素外，最重要的指标调整还是依靠溜槽内滑块的摆放位置。
在中国发明专利申请公开说明书cn206366447u中公开的一种改进的重选螺旋溜槽滑块调整装置，该一种改进的重选螺旋溜槽滑块调整装置，通过标尺为l形，调节挡块套设在标尺的横杆上，并通过调节螺栓一夹紧，调节挡块的下方还连接有调节档杆，带测量刻度数值的扇形刻度盘通过销轴与标尺转动连接，调节螺栓二穿过扇形刻度盘的弧形通孔与诉述标尺连接，实现了调整角度的辅助工具，减少手工经验操作的不确定因素，结构简单且实用，安全可靠，经济实用，使用方便，效果好，适合广泛推广。
目前，现有的螺旋溜槽滑块调整装置不能调节旋转杆的高度，在一些特殊的时候不方便使用，调节滑块的滑动不太方便，容易在使用过程中造成损伤。
技术实现要素：
（一）解决的技术问题
针对现有技术的不足，本发明提供了一种工业生产磷酸镁盐矿物质用螺旋溜槽滑块调整装置，解决了现有的溜槽滑块调整装置中调节滑块容易造成损伤的问题。
（二）技术方案
为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：一种工业生产磷酸镁盐矿物质用螺旋溜槽滑块调整装置，包括调节滑块，所述调节滑块的内部开设有空腔，所述空腔的内部活动连接有刻度标尺，所述刻度标尺的两端中部均开设有连接槽，所述连接槽的两侧均开设有活动槽，所述空腔的两端内壁均固定连接固定杆的一端，所述固定杆与连接槽活动连接，所述固定杆的另一端两侧均固定连接活动杆的一端，所述活动杆与活动槽活动连接，所述活动杆的另一端两侧均开设有圆槽，所述圆槽的内部活动连接有滚珠，所述滚珠与活动槽的内壁活动连接；
所述空腔的两侧内侧壁均固定连接多个限位杆的一端，所述限位杆的另一端固定连接阻尼层的一端，所述阻尼层的另一端与刻度标尺的两侧贴合连接，所述空腔的内底壁两侧均固定连接支撑杆的一端，所述支撑杆的另一端固定连接减振棉的一端，所述减振棉的另一端与刻度标尺的底部活动连接，所述空腔的两侧内壁均开设有防振槽，所述防振槽的内侧壁固定连接减振柱的一端，所述减振柱的另一端两侧固定连接有橡胶柱的一端，所述橡胶柱的另一端与防振槽的内壁固定连接。
优选的，所述调节滑块的顶端中部固定连接有调节螺栓，所述调节滑块的底端中部固定连接有调节档杆。
优选的，所述刻度标尺的一侧固定连接有手柄，所述手柄的外侧固定连接有吸汗层。
优选的，所述刻度标尺的另一侧活动连接旋转杆的一端，所述旋转杆的另一端固定连接有固定螺栓。
优选的，所述旋转杆的底端中部开设有柱槽，所述柱槽的一侧开设有坑槽，所述柱槽内部活动连接有调节杆。
优选的，所述调节杆的上端开设有多个调节槽，所述坑槽内部活动连接有卡位块，所述卡位块的一端通过弹簧与坑槽的内侧壁固定连接，所述卡位块的另一端与调节槽活动连接，所述卡位块的一端固定连接控制杆的一端，所述控制杆的另一端贯穿坑槽的槽壁并位于旋转杆的外侧。
（三）有益效果
本发明提供了一种工业生产磷酸镁盐矿物质用螺旋溜槽滑块调整装置，具备以下有益效果：
（1）、该工业生产磷酸镁盐矿物质用螺旋溜槽滑块调整装置，一方面，通过卡位块与调节槽的活动连接来调节旋转杆的高度，方便使用，使螺旋溜槽滑块调整装置不会受到一些特殊矿物质的影响，保证了螺旋溜槽滑块调整装置的正常使用，手柄外侧的吸汗层可以减少因为手心出汗造成的失误，提高了工作的效率，增加了工作的正确率。
（2）、该工业生产磷酸镁盐矿物质用螺旋溜槽滑块调整装置，另一方面，其次，通过滚珠与活动槽的连接，方便了调节滑块的移动，降低了调节滑块在使用中造成损伤的几率，增加了调节滑块的使用寿命，减振柱可以吸收调节滑块受到的振动，防止振动造成的损伤，橡胶柱可以固定减振柱，防止减振柱脱落，橡胶柱在固定的同时也可以降低减振柱的振动。
附图说明
图1为本发明调节滑块内部结构示意图；
图2为本发明旋转杆内部结构示意图；
图3为本发明螺旋溜槽滑块调整装置结构示意图。
图中：调节滑块1、空腔2、刻度标尺3、连接槽4、活动槽5、固定杆6、活动杆7、圆槽8、滚珠9、限位杆10、阻尼层11、支撑杆12、减振棉13、减振柱14、橡胶柱15、手柄16、旋转杆17、柱槽18、坑槽19、调节槽20、卡位块21、控制杆22。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
请参阅图1-3，本发明提供一种技术方案：一种工业生产磷酸镁盐矿物质用螺旋溜槽滑块调整装置，包括调节滑块1，调节滑块1的内部开设有空腔2，空腔2的内部活动连接有刻度标尺3，刻度标尺3的两端中部均开设有连接槽4，连接槽4的两侧均开设有活动槽5，空腔2的两端内壁均固定连接固定杆6的一端，固定杆6与连接槽4活动连接，固定杆6的另一端两侧均固定连接活动杆7的一端，活动杆7与活动槽5活动连接，活动杆7的另一端两侧均开设有圆槽8，圆槽8的内部活动连接有滚珠9，滚珠9与活动槽5的内壁活动连接，通过滚珠9与活动槽5的连接，方便了调节滑块1的移动，降低了调节滑块1在使用中造成损伤的几率，增加了调节滑块1的使用寿命；
空腔2的两侧内侧壁均固定连接多个限位杆10的一端，限位杆10的另一端固定连接阻尼层11的一端，阻尼层11的另一端与刻度标尺3的两侧贴合连接，空腔2的内底壁两侧均固定连接支撑杆12的一端，支撑杆12的另一端固定连接减振棉13的一端，减振棉13的另一端与刻度标尺3的底部活动连接，空腔2的两侧内壁均开设有防振槽，防振槽的内侧壁固定连接减振柱14的一端，减振柱14可以吸收调节滑块1受到的振动，防止振动造成的损伤，减振柱14的另一端两侧固定连接有橡胶柱15的一端，橡胶柱15的另一端与防振槽的内壁固定连接，橡胶柱15可以固定减振柱14，防止减振柱14脱落，橡胶柱15在固定的同时也可以降低减振柱14的振动。
作为本发明的一种优选技术方案：调节滑块1的顶端中部固定连接有调节螺栓，当调节滑块1调节到精准的位置时，可以固定调节滑块1，调节滑块1的底端中部固定连接有调节档杆，可以方便调节滑块1的使用。
作为本发明的一种优选技术方案：刻度标尺3的一侧固定连接有手柄16，手柄16的外侧固定连接有吸汗层，手柄16外侧的吸汗层可以减少因为手心出汗造成的失误，提高了工作的效率，增加了工作的正确率。
作为本发明的一种优选技术方案：刻度标尺3的另一侧活动连接旋转杆17的一端，可以调节刻度标尺3的方位，旋转杆17的另一端固定连接有固定螺栓，固定螺栓可以固定调节刻度标尺3与旋转杆17的连接，防止旋转杆17的转动。
作为本发明的一种优选技术方案：旋转杆17的底端中部开设有柱槽18，柱槽18的一侧开设有坑槽19，柱槽18内部活动连接有调节杆，通过卡位块21与调节槽20的活动连接来调节旋转杆17的高度，方便使用，使螺旋溜槽滑块调整装置不会受到一些特殊矿物质的影响，保证了螺旋溜槽滑块调整装置的正常使用。
作为本发明的一种优选技术方案：调节杆的上端开设有多个调节槽20，坑槽19内部活动连接有卡位块21，卡位块21的一端通过弹簧与坑槽19的内侧壁固定连接，卡位块21的另一端与调节槽20活动连接，卡位块21的一端固定连接控制杆22的一端，控制杆22的另一端贯穿坑槽19的槽壁并位于旋转杆17的外侧，通过拉动控制杆22，控制杆22就会带动卡位块21移动，然后就可有调整旋转杆17的高度，当松开控制杆22，控制杆22就会通过弹簧进入调节槽20，限制旋转杆17的调节。
综上所述，该工业生产磷酸镁盐矿物质用螺旋溜槽滑块调整装置，当滑动调节滑块1时圆槽8内部的滚珠9可以方便调节滑块1的滑动，减少在滑动中造成的碰撞，增加了调节滑块1的安全性，同时也方便了调节滑块1的使用，阻尼层11可以增加与刻度标尺3的摩擦力，防止调节滑块1的来回滑动，增加调节滑块1的准确性，在增加与刻度标尺3摩擦力的同时不会产生振动，并且阻尼层11具有减振的效果。可以在增大摩擦力的同时减少振动的产生，支撑杆12可以支撑刻度标尺3的高度，防止支撑杆12与调节滑块1产生碰撞，造成调节滑块1和刻度标尺3的不良和损伤，支撑杆12的顶部固定连接有减振柱14，可以减少刻度标尺3产生的振动，防止刻度标尺3因为振动产生的损伤，保证了刻度标尺3的安全性，增加了刻度标尺3的使用寿命，减少了刻度标尺3在使用中产生的不良，防振槽内部的减振柱14可以吸收振动，减低振动产生的效果，保护溜槽滑块调整装置不会受到振动的影响，橡胶柱15具有伸缩性，可以跟随减振柱14的振动变形，通过变形化解减振柱14吸收的振动，橡胶柱15在变形后还可以恢复原状，不会对使用造成影响。
需要说明的是，在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。