本发明涉及润滑油领域，具体涉及一种齿轮箱清洗油组合物、其用途区别于常规工业齿轮油，具有优异的兼容特性、抗氧化性、抗乳化性等。
背景技术：
工业齿轮箱作为主流传动单元中的一种，是许多设备的核心部位，因此在齿轮箱中起到润滑保护的齿轮油应受到足够的重视。
工业齿轮油技术发展至今，油品的使用周期可以延长至2500小时以上甚至更久，在此条件下，假设以齿轮箱设计使用年限为20年计算，在完整寿命周期中齿轮箱要经历超过60次的更换新油过程。而每一次新油的更换都是影响油品及齿轮寿命的关键环节。
在换油过程中对齿轮箱及润滑系统先进行清洗后加注新油被认为是科学、易行的保证新油和设备状态的有效手段。但根据实际操作经验，在换油过程中，因不进行清洗操作或清洗环节操作不当会造成以下隐患：1)杂质、氧化沉积物等物质残留。残留物质与新加入的润滑油油混合，对新油氧化产生催化作用，加速氧化速率减少油品使用寿命；2)旧油的残留。旧油的混入亦可降低新油的多方面性能，给传动系统的正常运转造成危害，更甚残留的旧油与加注的新油发生不兼容的情况，可能污染、堵塞整个润滑系统并对严重危害设备健康。
某些较为特殊领域如风力发电机组、大型立磨主减速机等的清洗、换油过程存在操作困难、耗时长、用油量大成本高等现状，这些客观因素制约清洗换油的效果。
综上所述，亟需一种清洗能力强、与在用油品兼容性好、低成本的清洗油组合物解决上述问题。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种工业齿轮箱清洗油组合物，所述工业齿轮箱清洗油组合物具有突出的油品兼容性、氧化安定性、抗乳化性、泡沫特性和密封材料兼容性等性能。
本发明提供一种工业齿轮箱清洗油组合物，其由如下质量百分含量的组分组成：
进一步地，上述工业齿轮箱清洗油组合物，其由如下质量百分含量的组分组成：
更进一步地，上述工业齿轮箱清洗油组合物，其由如下质量百分含量的组分组成：
以上技术方案中，所述抗氧剂为：二烷基二硫代氨基甲酸锌、二烷基二硫代氨基甲酸酯、叔丁基酚、叔丁基对甲酚、苯基-α-萘胺中的任意一种或者两种以上的混合物。
以上技术方案中，所述抗乳化剂为：磷酸三甲苯酯、聚醚类高分子，胺与环氧乙烷缩合物、环氧丙烷/环氧乙烷共聚物中的一种或者两种以上混合物；优选为环氧丙烷/环氧乙烷共聚物、聚醚类高分子的一种或者两种混合物。
以上技术方案中，所述黏度指数改进剂为：聚异丁烯、聚甲基丙烯酸酯、乙丙共聚物、氢化苯乙烯双烯共聚物、苯乙烯聚酯、聚正丁基乙烯基醚中的任意一种或两种以上的混合物；优选为聚异丁烯、聚甲基丙烯酸酯中的一种或者两种混合。
以上技术方案中，所述降凝剂为：所述降凝剂为烷基萘、聚酯类聚(甲基丙烯酸酯、聚丙烯酸酯、醋酸乙烯/反丁烯二酸酯共聚物)、聚烯烃(聚α-烯烃、烷基聚苯乙烯)或富马酸酯中的任意一种或者两种；以上的混合物优选为聚甲基丙烯酸酯或聚α-烯烃。
以上技术方案中，所述助溶剂为：硼酸盐、饱和多元醇酯、磷酸酯；优选为硼酸盐、饱和多元醇酯的一种或者两种混合物。
以上技术方案中，所述抗泡剂为：所述抗泡剂为硅油、非硅抗泡剂或复合抗泡剂(硅油和非硅抗泡剂的复合物)；优选为复合抗泡剂或硅油。
以上技术方案中，所述基础油为：聚α-烯烃(pao)、烷基蔡、矿物油(石蜡基、环烷基等中的一种或多种)。
本发明齿轮箱清洗油组合物的制备方法包括：在45℃-50℃的温度下，按比例加入各组分，机械搅拌或脉冲搅拌2-3小时。
本发明齿轮箱清洗油组合物黏度级别为100-680级别，以220-460为最佳。
本发明所用原料均可市售购得，或按本领域常规方法制备。
在符合本领域常识的基础上，上述各优选条件，可以相互组合，即得本发明各较佳实例。
此外，应理解，本文中，“包括”、“包含”、“含有”等术语的含义中也包括了“由……组成”、“由……构成”、“由……制成”等。
本发明所述的齿轮油清洗油具有典型工业齿轮油具有的低温性能、防锈防腐、抗氧化特性等，但区别与普通工业齿轮油的显著特点是油品与市售齿轮油产品兼容性良好，有利于油泥、有机酸、杂质等物质的分散从而起到清洗齿轮箱的作用。从而有效减缓更换油品过程中造成的诸多问题。
具体实施方式
以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。实施例中未注明具体技术或条件者，按照本领域内的文献所描述的技术或条件，或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可通过正规渠道商购买得到的常规产品。
实施例1-3
实施例1-3工业齿轮箱清洗油具体组分见表1，产品性能表现见表2：
表1
表2
实施例4-6
实施例4-6工业齿轮箱清洗油具体组分见表3，产品性能表现见表4：
表3
表4
对比例
对比例1-6工业齿轮箱清洗油具体组分及产品性能表现见表5和表6：
表5
表6
虽然，上文中已经用一般性说明及具体实施方案对本发明作了详尽的描述，但在本发明基础上，可以对之作一些修改或改进，这对本领域技术人员而言是显而易见的。因此，在不偏离本发明精神的基础上所做的这些修改或改进，均属于本发明要求保护的范围。