一种纳米级湿法材料的制备方法及制备系统与流程

文档序号:37933426发布日期:2024-05-11 00:12阅读:72来源:国知局
一种纳米级湿法材料的制备方法及制备系统与流程

本发明涉及纳米材料相关,更加具体来说,本发明涉及一种纳米级湿法材料的制备方法及制备系统。


背景技术:

1、在现有技术中,随着纳米材料科学的发展,在生物、化学、半导体、化妆品、电子、新能源、国防军工等各行业中,为最大限度地发掘材料的极限理化性能,经常需要对材料进行高细度、纳米级的分散或研磨以及除泡。纳米级湿法材料,如纳米导电胶、绝缘胶、屏蔽浆料、碳材料、陶瓷浆料等;其基本均有载体、功能填料、固化剂等材料组成;纳米功能填料,因其尺寸小,具有较大的比表面积,并在溶解速率、粘度、透明性、效用、稳定性等方面展现出优异的性能。纳米材料通常是纳米颗粒分散在液相载体中形成的一种混合体系,由于纳米颗粒具有极大的比表面积和较高的比表面能,在制备过程中很容易出现团聚现象,进而导致混合均一度差、纳米气泡的产生,这些都会影响纳米材料的质量。

2、


技术实现思路

1、针对现有技术的不足,本发明创新地提供了一种纳米级湿法材料的制备方法及制备系统,用以至少解决上述问题之一。

2、为实现上述的技术目的:

3、第一方面,本发明公开了一种纳米级湿法材料的制备方法,所述制备方法包括:

4、对物料进行细化破碎处理,分离后获得预设细度的中间物料;

5、基于中间物料制备出湿法配方浆料;

6、对湿法配方浆料进行脱泡处理;

7、对经脱泡处理后的湿法配方浆料进行周转并分包封装。

8、根据本申请的一些示例性地实施例,所述对物料进行细化破碎处理,分离后获得预设细度的中间物料,包括:

9、将物料送入研磨机的研磨桶并加入适量的研磨介质进行研磨;

10、利用研磨机的分散盘转动时赋予所述研磨介质动能,使所述研磨介质与被分散的物料发生撞击以对物料进行研磨;

11、经研磨机的分离装置将研磨后的物料与研磨介质分离并排出,得到所述中间物料。

12、根据本申请的一些示例性地实施例,所述基于中间物料制备出湿法配方浆料,包括:

13、向所述中间物料中添加填料;

14、利用三辊机的辊筒之间不同的速度差产生的剪切力,分散中间物料与填料所产生的团聚体,以得到所述湿法配方浆料。

15、根据本申请的一些示例性地实施例,所述对湿法配方浆料进行脱泡处理,包括:

16、在真空负压的环境下,对所述湿法配方浆料进行搅拌脱泡处理。

17、根据本申请的一些示例性地实施例,所述对经脱泡处理后的湿法配方浆料进行周转并分包封装,包括:

18、对经脱泡处理后的湿法配方浆料进行无泡周转;

19、利用封胶机将所述湿法配方浆料封装到包材中。

20、第二方面,本发明公开了一种纳米级湿法材料的制备系统,所述制备系统包括:

21、细化破碎装置,用于对物料进行细化破碎处理,分离后获得预设细度的中间物料;

22、湿法处理装置,用于基于中间物料制备出湿法配方浆料;

23、脱泡装置,用于对湿法配方浆料进行脱泡处理;

24、分包装置,用于对经脱泡处理后的湿法配方浆料进行周转并分包封装。

25、

26、本发明的有益效果为:

27、本发明提供一套纳米湿法材料制备方法以及制备系统,优化了纳米颗粒材料的制备工艺,能够进行混合、破碎、分散、脱泡、封装等工艺。有效解决了现有工艺设备受材料粘度限制、线速度慢,材料粒径分布广、脱泡难度大等因素所导致的纳米材料质量差的问题。基于本发明工艺所制备得到湿法材料,其处理量可满足1g—1000kg,固含量可满足1%—99%范围,粘度可满足几十厘泊到上百万厘泊范围,同时其可适用处理的材料d90粒径分布窄,集中度大,可极大提高产品的指标性能以及批次的稳定一致性。

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技术特征:

1.一种纳米级湿法材料的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:

2.根据权利要求1所述的纳米级湿法材料的制备方法,其特征在于,所述对物料进行细化破碎处理,分离后获得预设细度的中间物料,包括:

3.根据权利要求1所述的纳米级湿法材料的制备方法,其特征在于,所述基于中间物料制备出湿法配方浆料,包括:

4.根据权利要求1所述的纳米级湿法材料的制备方法,其特征在于,所述对湿法配方浆料进行脱泡处理,包括:

5.根据权利要求1所述的纳米级湿法材料的制备方法,其特征在于,所述对经脱泡处理后的湿法配方浆料进行周转并分包封装,包括:

6.一种纳米级湿法材料的制备系统,其特征在于,所述制备系统包括:


技术总结
本发明公开了一种纳米级湿法材料的制备方法及制备系统,制备方法包括:对物料进行细化破碎处理,分离后获得预设细度的中间物料;基于中间物料制备出湿法配方浆料;对湿法配方浆料进行脱泡处理;对经脱泡处理后的湿法配方浆料进行周转并分包封装。基于对物料依次进行混合研磨破碎、二次配料并分散、混合脱泡、无泡封装,从而可以提高纳米材料产品的质量。

技术研发人员:马跃辉,潘张刚
受保护的技术使用者:苏州微奈智能科技有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/5/10
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