本公开涉及气体制备,特别涉及一种臭氧制备装置、真空处理系统及臭氧制备方法。
背景技术:
1、臭氧在科研、生产等许多领域有着广泛的应用,例如半导体工业生产、薄膜制备等等。但是,臭氧具有不稳定性和强氧化性,极易分解成氧气,无法长时间储存,且液态臭氧存在爆炸风险,不利于储存和运输,因此在科研和工业生产上使用臭氧基本采取现用现制的方式。
2、目前臭氧的制备方法主要包括化学法、电化学法、电晕放电法以及紫外辐射法等多种方法制备,但是这些制备方法以及应用这些制备方法的制备装置得到的臭氧浓度普遍较低,约为15%左右,仅适用于一些对臭氧浓度要求较低的应用场景,例如,空气杀菌消毒、水处理或杀菌保鲜等。但是,在半导体工业生产、薄膜制备等领域,对臭氧浓度要求较高,现有的制备技术中,通过多层石英装置提供介于臭氧和氧气沸点之间的温度环境,通过变色硅胶吸附臭氧实现臭氧提纯,但是这样臭氧浓度也仅有80%左右,仍旧达不到部分生产实验领域的要求,且这种制备方法耗时过长,拉长总体生产或实验时间,严重降低效率,拉升成本。
技术实现思路
1、本公开提供了一种臭氧制备装置,其特征在于,包括:臭氧发生器,用于电解水以产生包括臭氧的混合气体;以及臭氧提纯装置,包括:液化池,与臭氧发生器连接,用于接收并容纳来自臭氧发生器的混合气体;以及提纯制冷装置,与液化池热耦合,用于液化液化池内混合气体中的臭氧。
2、本公开提供了一种臭氧制备方法,其特征在于,包括:电解水以产生包括臭氧的混合气体;以及液化混合气体中的臭氧以将臭氧与混合气体分离。
3、本公开提供了一种真空处理系统,其特征在于,包括:真空处理腔;根据本公开中任一项实施例的臭氧制备装置,与真空处理腔连接,用于向真空处理腔提供臭氧。
1.一种臭氧制备装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的臭氧制备装置,其特征在于,所述臭氧发生器包括:
3.根据权利要求1所述的臭氧制备装置,其特征在于,所述提纯制冷装置还包括:
4.根据权利要求3所述的臭氧制备装置,其特征在于,所述臭氧提纯装置还包括:
5.根据权利要求3所述的臭氧制备装置,其特征在于,还包括:
6.根据权利要求1-5中任一项所述的臭氧制备装置,其特征在于,还包括:
7.根据权利要求6所述的臭氧制备装置,其特征在于,所述冷凝制冷装置42包括冷凝制冷机或冷凝制冷介质;以及
8.根据权利要求7所述的臭氧制备装置,其特征在于,所述冷凝制冷装置42还包括:
9.根据权利要求7所述的臭氧制备装置,其特征在于,所述冷凝装置还包括:
10.根据权利要求6所述的臭氧制备装置,其特征在于,还包括:
11.根据权利要求1-5、7-10中任一项所述的臭氧制备装置,其特征在于,还包括:
12.一种臭氧制备方法,其特征在于,包括:
13.根据权利要求12所述的臭氧制备方法,其特征在于,还包括:
14.根据权利要求12或13所述的臭氧制备方法,其特征在于,还包括:
15.一种真空处理系统,其特征在于,包括: