蒸镀掩模的制造方法与流程

本发明涉及蒸镀掩模的制造方法。本发明特别涉及在掩模框上具有薄膜状的掩模主体的蒸镀掩模的制造方法。

背景技术：

1、作为平板型显示装置的例子，可以列举液晶显示装置和有机el显示装置。这些显示装置是在基板上层叠包含绝缘体、半导体、导电体等各种材料的薄膜而得到的结构体。通过将这些薄膜适当进行图案化并连接，能够实现作为显示装置的功能。

2、形成薄膜的方法大致可以分为气相法、液相法、固相法。气相法可以分为物理气相法和化学气相法。作为物理气相法的代表性例子，已知有蒸镀法。蒸镀法中最简便的方法是真空蒸镀法。真空蒸镀法通过在高真空下对材料进行加热，使材料升华或蒸发而生成材料的蒸气(下面，将这些统称为气化)。在用于使该材料沉积的区域(下面，称为蒸镀区域)，气化了的材料固化、沉积，从而得到材料的薄膜。为了使得有选择地在蒸镀区域形成薄膜，而在蒸镀区域以外的区域(下面，称为非蒸镀区域)不沉积材料，使用掩模(蒸镀掩模)进行真空蒸镀(参照日本特开2009-87840号公报和日本特开2013-209710号公报)。

3、蒸镀掩模中，在形成有蒸镀图案的掩模主体上接合有用于将掩模主体固定的掩模框。掩模主体可以通过以在支承基板上隔着金属层形成的具有规定的图案的光致抗蚀剂层作为掩模形成镀膜，与掩模框接合之后，将掩模主体与支承基板和基底金属层分离来形成。

技术实现思路

1、发明要解决的技术问题

2、在掩模主体的制造工序中，在将利用电镀法在支承基板上形成的由精细图案构成的镀层从支承基板分离时，会因镀层的应力而导致镀层收缩。从而，会导致开口区域偏离期望的位置，因此，镀层的收缩率的管理很重要。然而，如果不将镀层从支承基板分离，就无法测量镀层的收缩率，因此，为了从镀层的收缩率的实测结果反馈到精细图案的形成工序或镀层的形成工序，需要必要的天数。

3、另一方面，有为了测量镀层的收缩率而在模拟的支承基板上形成镀层并立即剥离，来测量镀层的收缩率的方法。在该情况下，需要将镀层形成得较厚，以使得即使将镀层单独剥离，镀层也不会破损和变形。然而，从模拟的支承基板剥离的镀层，与构成实际的掩模主体的镀层相比状态不同，因此，无法准确地评价收缩率。

4、鉴于上述问题，本发明的一个实施方式的目的之一是提供能够使开口区域的位置精度提高的蒸镀掩模的制造方法。

5、用于解决技术问题的手段

6、本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制造方法中，在支承基板上隔着基底金属层形成具有规定的图案的光致抗蚀剂层，以支承基板的第一面与水平面垂直的方式配置支承基板，测量支承基板的第一翘曲量，在基底金属层中的没有形成光致抗蚀剂层的区域，通过电铸使金属析出而形成掩模主体，以支承基板的第一面与水平面垂直的方式配置支承基板，测量支承基板的第二翘曲量，根据基于第一翘曲量和第二翘曲量计算的翘曲量的变化量与基于翘曲量的变化量计算的支承基板的内部应力，计算掩模主体的收缩率，在掩模主体的收缩率小于规定的范围的下限值且为第一阈值以上的情况下，或者在掩模主体的收缩率大于规定的范围的上限值且为第二阈值以下的情况下，与掩模主体的收缩率相应地，改变接下来要制造的掩模主体的规定的图案各自的描画坐标。

技术特征：

1.一种蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：

2.如权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：

3.如权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：

4.如权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：

5.如权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：

技术总结
本发明要解决的技术问题是，提供能够使开口区域的位置精度提高的蒸镀掩模的制造方法。蒸镀掩模的制造方法中，在支承基板上隔着基底金属层形成具有规定的图案的光致抗蚀剂层，以支承基板的第一面与水平面垂直的方式配置支承基板，测量支承基板的第一翘曲量，在基底金属层中的没有形成光致抗蚀剂层的区域，通过电铸使金属析出而形成掩模主体，以支承基板的第一面与水平面垂直的方式配置支承基板，测量支承基板的第二翘曲量，根据基于第一翘曲量和第二翘曲量计算的翘曲量的变化量与基于翘曲量的变化量计算的支承基板的内部应力，计算掩模主体的收缩率。

技术研发人员：福田加一
受保护的技术使用者：株式会社日本显示器
技术研发日：
技术公布日：2024/1/12