一种电解抛光设备的制作方法

1.本实用新型涉及电解抛光技术领域，尤其涉及一种电解抛光设备。


背景技术：

2.在一些高纯气体运输管路中，其内表面粗糙度须达到ra0.1微米甚至更低，否则微小颗粒或者不纯物质会混入高纯气体中，使气体不纯。因此高纯气体运输管路的内壁通常需要经过高质量的电解抛光处理。
3.目前，为了节约成本、增加经济性，管件的电解抛光过程中，电解酸液会循环利用，但在电解抛光过程中，会产生少量的难溶物，随着电解酸液的流动而流动，随着循环的增多，电解酸液中难溶物会逐步增多，在后续的电解过程中，可能会附着在电极头或者管件内壁上，进而降低电解效率，影响管件电解抛光质量；而且当电极头上附着较多难溶物时，易拉伤管件内壁。
4.因此，传统的电解抛光设备在电解酸液的循环过程中，难溶物会不断增多，进而会降低电解效率，降低管件的电解抛光质量。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的在于提供一种电解抛光设备，用于减少电解酸液的循环过程中的难溶物的积聚，提高电解效率，提高管件的电解抛光质量。
6.为了实现上述目的，本实用新型提供一种电解抛光设备，其特征在于，包括：
7.电解酸液分配器，电解酸液分配器的第一端用于与待电解管件的第一端相连通；
8.电解酸液收集槽，电解酸液收集槽的第一端用于与待电解管件的第二端相连通；
9.沉淀槽，沉淀槽的第一端与电解酸液收集槽的第二端相连通，沉淀槽的第二端与电解酸液分配器的第二端相连通，沉淀槽用于沉积电解酸液中的难溶物。
10.相较与现有技术，在本实用新型提供的电解抛光设备中，电解酸液从电解酸液分配器的第一端流入待电解管件中，对待电解管件进行电解抛光后，流入电解酸液收集槽，然后在通过沉淀槽后流回电解酸液分配器，实现电解酸液的循环利用；在电解酸液流动过程中，电解抛光过程中产生的难溶物随着电解酸液流至沉淀槽中，而沉淀槽的横截面的面积大于待电解管件及电解酸液运输管路的横截面的面积，因此在沉淀槽中，电解酸液的流速减缓，电解抛光过程中产生的难溶物随着电解酸液流至沉淀槽后，因电解酸液的流速减缓，大多难溶物容易沉淀至沉淀槽底部，上层的电解酸液流出沉淀槽并流回电解酸液分配器。基于此，在电解酸液的循环过程中，混有难溶物的电解酸液流入沉淀槽后，流速变缓，难溶物发生沉淀后，上层清液流回电解酸液分配器，进而减少电解酸液的循环过程中的难溶物的积聚，防止难溶物附着在电极头或者管件内壁上，防止电极头上附着较多难溶物后拉伤管件内壁，进而提高电解效率，提高管件的电解抛光质量。
11.可选地，上述的电解抛光设备中，沉淀槽包括：
12.槽体，槽体的第一端与电解酸液收集槽的第二端相连通，槽体的第二端与电解酸
液分配器的第二端相连通；
13.挡板，挡板设置于槽体内，挡板的底边与槽体的底面固定连接，挡板的两个侧边分别与槽体的两个侧面固定连接，且挡板的高度小于槽体的高度。
14.可选地，上述的电解抛光设备中，挡板的数量为多个，且挡板沿槽体的第一端向槽体的第二端的方向均匀设置于槽体内。
15.可选地，上述的电解抛光设备中，挡板的底边与槽体的底面焊接，挡板的两个侧边分别与槽体的两个侧面焊接。
16.可选地，上述的电解抛光设备中，沉淀槽还包括：
17.保护盖板，保护盖板设置于槽体的上方，且槽体与保护盖板固定连接。
18.可选地，上述的电解抛光设备中，保护盖板上设置有排气口，排气口用于将沉淀槽中的气体排出。
19.可选地，上述的电解抛光设备中，排气口为多个，且排气口沿槽体的第一端向槽体的第二端的方向均匀设置于保护盖板上。
20.可选地，上述的电解抛光设备中，槽体和挡板的材料为不锈钢，且槽体的内侧和挡板的表面均设置有四氟喷涂层。
21.可选地，上述的电解抛光设备中，电解抛光设备还包括：
22.多个阳极接触点，阳极接触点沿待电解管件的延伸方向与均匀分布于待电解管件上。
23.可选地，上述的电解抛光设备中，电解抛光设备还包括：
24.第一电解酸液输送管，第一电解酸液输送管的第一端与电解酸液收集槽的第二端相连通；第一电解酸液输送管的第二端与沉淀槽的第一端相连通；
25.第二电解酸液输送管，第二电解酸液输送管的第一端与沉淀槽的第二端相连通；第二电解酸液输送管的第二端与电解酸液分配器的第二端相连通。
26.可选地，上述的电解抛光设备中，第一电解酸液输送管和/或第二电解酸液输送管的管路上设置有电解酸液流速调节阀，电解酸液流速调节阀用于调节电解酸液的流速。
27.可选地，上述的电解抛光设备中，第一电解酸液输送管和/或第二电解酸液输送管的管路上还设置有电动隔膜泵，电动隔膜泵用于为电解酸液的流动提供动力。
附图说明
28.此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本实用新型的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：
29.图1为本实用新型实施例提供的一种电解抛光设备的示意图。
30.附图标记：
31.1-待电解管件；2-电解酸液分配器；3-电解酸液收集槽；4-沉淀槽；41-槽体；42-挡板；43-保护盖板；431-排气口；44-支架；5-排气管；6-第一电解酸液输送管；7-第二电解酸液输送管；8-电解酸液流速调节阀；9-电动隔膜泵；10-电加热管；11-冷空气降温管；12-温度监测器；13-液位监测器。
具体实施方式
32.为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
33.需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
34.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。“若干”的含义是一个或一个以上，除非另有明确具体的限定。
35.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
36.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、
[0037]“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
[0038]
目前，为了节约成本、增加经济性，管件的电解抛光过程中，电解酸液会循环利用，但在电解抛光过程中，会产生少量的难溶物，随着电解酸液的流动而流动，随着循环的增多，电解酸液中难溶物会逐步增多，在后续的电解过程中，可能会附着在电极头或者管件内壁上，进而降低电解效率，影响管件电解抛光质量；而且当电极头上附着较多难溶物时，易拉伤管件内壁。因此，传统的电解抛光设备在电解酸液的循环过程中，随着难溶物增多，会降低电解效率，降低管件的电解抛光质量。
[0039]
请参阅图1，本实用新型实施例提供的电解抛光设备包括电解酸液分配器2、电解酸液收集槽3和沉淀槽4；电解酸液分配器2的第一端用于与待电解管件1的第一端相连通；电解酸液收集槽3的第一端用于与待电解管件1的第二端相连通；沉淀槽4的第一端与电解酸液收集槽3的第二端相连通，沉淀槽4的第二端与电解酸液分配器2的第二端相连通，沉淀槽4用于沉积电解酸液中的难溶物。
[0040]
在电解抛光过程中，先将多根待电解管件1安装至上述的电解抛光设备上，使待电解管件1的两端分别与电解酸液分配器2和电解酸液收集槽3固定连通，电解酸液分配器2将电解酸液分配流入每根待电解管件1中，电解酸液通过待电解管件1后，流入电解酸液收集槽3，在电解酸液在待电解管件1内流通的过程中，待电解管件1内设置的与其几乎等长的导体作为阴极，待电解管件1作为阳极，电解酸液对待电解管件1的内壁进行电解抛光；之后，电解酸液流入沉淀槽4中，在沉淀槽4中将部分电解抛光过程中产生的难溶物沉淀除去后，
流回电解酸液分配器2，进而循环利用。
[0041]
通过上述电解抛光设备的结构和电解抛光过程可知，电解酸液从电解酸液分配器2的第一端流入待电解管件1中，对待电解管件1进行电解抛光后，流入电解酸液收集槽3，然后在通过沉淀槽4后流回电解酸液分配器2，实现电解酸液的循环利用；在电解酸液流动过程中，电解抛光过程中产生的难溶物随着电解酸液流至沉淀槽4中，而沉淀槽4的横截面的面积大于待电解管件1及电解酸液运输管路的横截面的面积，因此在沉淀槽4中，电解酸液的流速减缓，电解抛光过程中产生的难溶物随着电解酸液流至沉淀槽4后，因电解酸液的流速减缓，大多难溶物沉淀至沉淀槽4底部，上层的电解酸液流出沉淀槽4并流回电解酸液分配器2。相较与现有技术，在电解酸液的循环过程中，混有难溶物的电解酸液流入沉淀槽4后，流速变缓，难溶物发生沉淀后，上层清液流回电解酸液分配器2，进而减少电解酸液的循环过程中的难溶物的积聚，防止难溶物附着在电极头或者管件内壁上，防止电极头上附着较多难溶物后拉伤管件内壁，进而提高电解效率，提高管件的电解抛光质量。
[0042]
具体地，上述的电解抛光设备中，沉淀槽4包括槽体41和挡板42，槽体41的第一端与电解酸液收集槽3的第二端相连通，槽体41的第二端与电解酸液分配器2的第二端相连通；挡板42设置于槽体41内，挡板42的底边与槽体41的底面固定连接，挡板42的两个侧边分别与槽体41的两个侧面固定连接，且挡板42的高度小于槽体41的高度。电解酸液在槽体41中流通时，难溶物沉淀至槽体41底部，在电解酸液流动时，挡板42阻碍了难溶物沉淀的流动，进一步减少流出沉淀槽4的电解酸液中难溶物的含量。
[0043]
优选地，上述的电解抛光设备中，挡板42的数量为多个，且挡板42沿槽体41的第一端向槽体41的第二端的方向均匀设置于槽体41内。通过那个挡板42依次限制沉淀后的难溶物的流动，进一步保证流出沉淀槽4的电解酸液的质量。
[0044]
在一些实施例中，挡板42的底边与槽体41的底面焊接，挡板42的两个侧边分别与槽体41的两个侧面焊接。焊接连接更加牢固，保证电解酸液流动过程中，挡板42与槽体41连接稳定性。
[0045]
作为一种可能的实现方式，上述的电解抛光设备中，沉淀槽4还包括保护盖板43，保护盖板43设置于槽体41的上方，且槽体41与保护盖板43固定连接。保护盖板43能够防止外界颗粒物进入槽体41内，污染电解酸液。
[0046]
具体地，上述的电解抛光设备中，保护盖板43上设置有排气口431，排气口431用于将沉淀槽4中的气体排出。在电解抛光过程中产生的部分气体会随着电解酸液流至沉淀槽4，通过排气口431能够将该部分气体排出。
[0047]
优选地，上述的电解抛光设备中，排气口431为多个，且排气口431沿槽体41的第一端向槽体41的第二端的方向均匀设置于保护盖板43上。如此设置，通过多个排气口431将气体排出，效率更好。
[0048]
进一步地，上述的电解抛光设备还包括排气管5，排气管5与排气口431连通，用于将气体排出。
[0049]
作为一种可能的实现方式，上述的电解抛光设备中，槽体41和挡板42的材料为不锈钢，且槽体41的内侧和挡板42的表面均设置有四氟喷涂层。四氟的耐化学腐蚀性能较好，能够保证槽体41和挡板42在工作过程在的化学稳定性。
[0050]
作为一种可能的实现方式，上述的电解抛光设备中，沉淀槽4还包括支架44，支架
44与槽体41固定连接。如此设置，支架44能够对槽体41起到支撑作用。
[0051]
具体地，上述的电解抛光设备中，电解抛光设备还包括多个阳极接触点，阳极接触点沿待电解管件1的延伸方向与均匀分布于待电解管件1上；示例性地，当待电解管件1的长度为4米-6米时，每隔1米设置一个阳极接触点。如此设置，能够提高电解均匀性，进而提高电解抛光质量；同时能够提高电流均匀性，防止电流集中过热。
[0052]
作为一种可能的实现方式，上述的电解抛光设备中，电解抛光设备还包括第一电解酸液输送管6和第二电解酸液输送管7，第一电解酸液输送管6的第一端与电解酸液收集槽3的第二端相连通；第一电解酸液输送管6的第二端与沉淀槽4的第一端相连通；第二电解酸液输送管7的第一端与沉淀槽4的第二端相连通；第二电解酸液输送管7的第二端与电解酸液分配器2的第二端相连通。如此设置，能够实现电解酸液收集槽3与沉淀槽4、沉淀槽4与电解酸液分配器2的连通，保证电解酸液的循环流动。
[0053]
进一步地，上述的电解抛光设备中，第一电解酸液输送管6和/或第二电解酸液输送管7的管路上设置有电解酸液流速调节阀8，示例性地，第一电解酸液输送管6的管路上设置有电解酸液流速调节阀8，或者，第二电解酸液输送管7的管路上设置有电解酸液流速调节阀8，或者第一电解酸液输送管6和第二电解酸液输送管7的管路上均设置有电解酸液流速调节阀8。电解酸液流速调节阀8能够调节电解酸液的流速，如此设置，能够灵活调节电解酸液流动的流速。
[0054]
示例性地，电解酸液流速调节阀8为手动球阀或截止阀。
[0055]
进一步地，上述的电解抛光设备中，第一电解酸液输送管6和/或第二电解酸液输送管7的管路上还设置有电动隔膜泵9，示例性地，第一电解酸液输送管6的管路上设置有电动隔膜泵9，或者，第二电解酸液输送管7的管路上设置有电动隔膜泵9，或者，第一电解酸液输送管6和第二电解酸液输送管7的管路上均设置有电动隔膜泵9。电动隔膜泵9能够为电解酸液的流动提供动力，保证电解酸液的循环流动。
[0056]
在一些实施例中，上述的电解抛光设备还包括电加热管10，电加热管10设置于沉淀槽4中。当电解酸液的温度低于理想温度时，通过电加热管10能够对电解酸液进行加热。
[0057]
在一些实施例中，上述的电解抛光设备还包括冷空气降温管11，冷空气降温管11设置于沉淀槽4中。当电解酸液的温度高于理想温度时，向冷空气降温管11中通入冷空气，进而降低电解酸液的温度。
[0058]
进一步地，上述的电解抛光设备还包括温度监测器12，温度监测器12设置于沉淀槽4中，用于监测电解酸液的温度。
[0059]
作为一种可选的方式，上述的电解抛光设备还包括液位监测器13，液位监测器13设置于沉淀槽4中，用于监测沉淀槽4中电解酸液的液位。
[0060]
在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
[0061]
以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。