专利名称：均化库抗滑移基础结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种均化库的基础，特别是一种均化库抗滑移基础结构。
技术背景
均化库按照工艺流程的需要，长度大约230 320m，跨度42m，半径20m高的圆弧形大空 间网架结构，在网架上吊有标高12.000的钢平台。由于标高12.000钢平台上有工艺专业需要 的小车，加上弧形结构网架自重，故均化库产生了很大的水平推力。由于水平推力远远超过 基础底与土的摩擦力，故均化库会向两侧侧移。为了抵抗均化库的水平推力，不让均化库产 生侧移。目前解决这一问题的办法是靠基础与土之间摩擦来阻挡侧移，由于水平力较大，基 础与土间摩擦满足不了要求
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是在均化库基础底做抗滑移的抗剪键，防止均化库侧向
移动，满足承载力的需要，保证结构的安全，提高了网架的安全性。
本实用新型是这样实现的它包括基础l，在基础1的底部有抗剪键2。 抗剪键2处于基础1的内侧。
抗剪键2宽度为基础1宽度的1/5，其长度为基础1长度3/4。 抗剪键2与基础1连为一体。
由于采用了上述技术方案，本实用新型抵抗了均化库产生的水平力，不让均化库产生侧 移，满足承载力的需要，保证结构的安全，提高了网架的安全性。
图l为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
本实用新型的实施例在制作基础时，在基础1的内侧制作抗剪键2，与基础l连为一体 ，其宽度1/5，长度3/4。
权利要求1.一种均化库抗滑移基础结构，它包括基础(1)，其特征在于在基础(1)的底部有抗剪键(2)。
2. 根据权利要求l所述的均化库抗滑移基础结构，其特征在于抗剪 键(2)处于基础(1)的内侧。
3. 根据权利要求1或2所述的均化库抗滑移基础结构，其特征在于 抗剪键(2)宽度为基础(1)宽度的1/5，其长度为基础(1)长度3/4。
4. 根据权利要求1或2所述的均化库抗滑移基础结构，其特征在于 抗剪键(2)与基础(1)连为一体。
专利摘要本实用新型公开了一种均化库抗滑移基础结构，它包括基础(1)，在基础(1)的底部有抗剪键(2)。在均化库基础底增加抗滑移抗剪键，抵抗均化库产生的水平推力，满足承载力的需要，保证结构的安全，提高了网架的安全性。
文档编号E02D27/32GK201151910SQ20072020165
公开日2008年11月19日 申请日期2007年12月17日 优先权日2007年12月17日
发明者宋泽恒 申请人:贵阳铝镁设计研究院