基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法
【专利摘要】本发明公开了一种基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法，包括以下步骤：步骤一、施工竖井，并在所述竖井下端部侧向开马头门，同时沿所述马头门开挖横通道；步骤二、在所述横通道内设置二衬结构至所述横通道的顶拱拱脚处，在所述顶拱拱脚处水平设置有二衬顶板，往所述二衬顶板与所述拱顶围合形成的拱顶腔体内回填混凝土；步骤三、根据设计要求，在所述二衬顶板上方预留上盖物业基坑的围护结构的实施条件；步骤四、完成所述横通道的其他区间施工工作。本发明可先期施工地下区间结构，而不必受预建上盖物业的工法和工期限制，且有效的加强了其抗浮能力，可在顶部小净距地下室开挖条件下构筑高断面的横通道。
【专利说明】基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及地下结构物施工【技术领域】，尤其涉及一种基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法。
【背景技术】
[0002]城市地铁大多位于交通枢纽，地面已建或将开发的建筑物密集，尤其是近年来，随着地铁线路的增加，在地铁车站或区间上方预建上盖物业的情况逐渐增多。目前常用的施工工法是地下建筑与地面建筑相结合，同步设计、同步施工，这就造成了两者的施工工期与施工工法相互影响相互制约。而同时由于区间埋设较深，采用明挖法施工后区间顶板为平顶，在覆土较厚情况下，顶板结构较厚，不经济。故现有的预建上盖物业的大断面区间施工工法大多需要协调两者的施工工期和施工方法，且由于区间埋深较深，采用明挖法施工后区间顶板覆土较厚，致顶板较厚，回填覆土多。
[0003]因此，本领域的技术人员致力于开发一种基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法，来克服以上不足，且在构造完成的横通道顶部与预建的上盖物业底部为小净距的条件下，满足上盖物业的抵抗浮力的要求。
【发明内容】
[0004]有鉴于现有技术的上述不足，本发明提出一种可先期施工地下区间结构，而不必受预建上盖物业的工法和工期限制的基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法。
[0005]为实现上述目的，本发明提供了一种基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法，包括以下步骤:
[0006]步骤一、施工竖井，并在所述竖井下端部侧向开马头门，同时沿所述马头门开挖横通道。
[0007]步骤二、在所述横通道内设置二衬结构至所述横通道的顶拱拱脚处，在所述顶拱拱脚处水平设置有二衬顶板，往所述二衬顶板与所述拱顶围合形成的拱顶腔体内回填混凝土。
[0008]步骤三、根据设计要求，在所述二衬顶板上方预留上盖物业基坑的围护结构的实施条件。
[0009]步骤四、完成所述横通道的其他区间施工工作。
[0010]较佳的，所述横通道上设置有初衬结构，由所述横通道内部朝预留所述围护结构的实施条件的上方径向注浆后局部破除所述初衬结构。
[0011]较佳的，在所述横通道内处于所述二衬顶板下方的位置还水平设置有二衬隔板，在完成步骤四后，再往所述二衬顶板、所述二衬隔板及横通道内侧壁围合形成的腔体内填充素土。
[0012]较佳的，步骤三所述围护结构的实施条件为在所述二衬顶板上方预留用于所述围护结构插设的0.8-1.0m宽的安装槽。
[0013]本发明的有益效果如下:
[0014]I)本发明采用暗挖法施工，与上盖物业分别施工，不必受预建上盖物业的工法和工期限制的，在地下结构施工完成后，预建的上盖物业可按期再行施工。
[0015]2)本发明尤其适合应用在构筑的横通道顶部与上盖物业(地下室)底面之间净距小的情况下，且通过本发明的施工方法可以很好的满足上盖物业抵抗浮力的要求，本发明通过在横通道的拱顶部分填充混凝土有效的加强了其抗浮能力，可以在顶部小净距地下室开挖条件下构筑高断面的横通道。
[0016]3)本发明还为围护结构预留了实施条件，有利于后期围护结构的构筑，实现围护结构与横通道的巧妙连接，有效的提高了围护结构的安全可靠性。
[0017]4)本发明加设了二衬隔板，且在二衬隔板与二衬顶板之间填充素土，进一步提高了横通道的抗浮能力。
[0018]以下将结合附图对本发明的构思、具体结构及产生的技术效果作进一步说明，以充分地了解本发明的目的、特征和效果。
【专利附图】
【附图说明】
[0019]图1为本实施例基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法流程图。
[0020]图2为步骤SI所构筑的高断面横通道的结构示意图。
[0021]图3为步骤S2所构筑的高断面横通道的结构示意图。
[0022]图4为步骤S3所构筑的高断面横通道的结构示意图。
[0023]图5为步骤S4所构筑的高断面横通道的结构示意图。
[0024]图6为图4的A-A断面示意图。
[0025]图7为图4的B处局部放大图。
[0026]图8为本实施例的进一步实施形成的高断面横通道的结构示意图。
【具体实施方式】
[0027]如图1所示，本实施例的一种基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法，包括以下步骤:
[0028]步骤S1、结合图2所示，施工竖井1，并在竖井I下端部侧向开马头门2，同时沿马头门2开挖横通道3。
[0029]步骤S2、结合图3所示，在横通道3内设置二衬结构至横通道3的顶拱拱脚处，在所述顶拱拱脚处水平设置有二衬顶板5，往二衬顶板5与所述拱顶围合形成的拱顶腔体6内回填混凝土。示例性的，本实施例的二衬结构设置在所述顶拱下方的横通道内侧壁上，本实施例在拱顶腔体6内回填的混凝土采用素混凝土填充顶拱腔体6后端部作用于上盖物业的部分(见图4所示)，当然了，在其他实施例中也可以为全部填充。
[0030]步骤S3、结合图4、图6和图7所示，根据设计要求，在二衬顶板5上方预留上盖物业基坑的围护结构7的实施条件。示例性的，如图所示，后期要构筑的上盖物业4位于横通道3的后端部，故后期要构筑的围护结构7也仅局部设置在横通道的拱顶腔体6上，在二衬顶板5上方相应的位置预留用于围护结构7插设的1.0m宽的安装槽。当然了，在其他具体实施例中，安装槽的宽度还可以是0.Sm宽或根据设计要求适配其他尺寸，此外围护结构也可以是整个围护结构均插设在腔体上。
[0031]步骤S4、结合图5所示，完成横通道3的其他区间施工工作。具体的，将拱顶腔体前部未填充混凝土的空间采用素土进行回填并在相应位置保留安装槽，同时在横通道3的两侧壁上，开设正洞马头门，向两侧区间施工。
[0032]作为本实施例的进一步【具体实施方式】，横通道3上设置有初衬结构，结合图6和图7所示，由横通道3内部朝预留围护结构7的实施条件的上方径向注浆后局部破除所述初衬结构。示例性的，本实施例在开挖横通道时，即同时构筑初衬结构和二衬结构，而在后续的步骤S3中，根据设计要求，将预留插设围护结构7的顶拱位置的初衬结构进行局部破除，然后再由横通道内部径向的对围护结构进行注浆加固形成加固区域8，如图7加固区域所示。
[0033]作为本实施例的进一步【具体实施方式】，结合图8所示，在横通道3内处于二衬顶板5下方的位置还水平设置有二衬隔板9，在完成步骤S4后，再往二衬顶板5、二衬隔板9及横通道3内侧壁围合形成的腔体内填充素土。具体的，可根据横通道的设计要求，在横通道内行车隧道上方界限位置设置二衬隔板和填充素土，一方面满足通行要求，一方面增强横通道抵抗上盖物业浮力的要求。
[0034]通过本实施例的基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法，可以自主构筑地下建筑结构，不受地面建筑结构工期的制约和影响，且还能很好的满足后期地面结构的施工要求，尤其适合在顶部小净距情况下施工高断面横通道。
[0035]以上详细描述了本发明的较佳具体实施例。应当理解，本领域的普通技术人员无需创造性劳动就可以根据本发明的构思做出诸多修改和变化。因此，凡本【技术领域】中技术人员依本发明的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案，皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。
【权利要求】
1.一种基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法，其特征在于，包括以下步骤: 步骤一、施工竖井，并在所述竖井下端部侧向开马头门，同时沿所述马头门开挖横通道；步骤二、在所述横通道内设置二衬结构至所述横通道的顶拱拱脚处，在所述顶拱拱脚处水平设置有二衬顶板，往所述二衬顶板与所述拱顶围合形成的拱顶腔体内回填混凝土 ；步骤三、根据设计要求，在所述二衬顶板上方预留上盖物业基坑的围护结构的实施条件； 步骤四、完成所述横通道的其他区间施工工作。
2.如权利要求1所述的基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法，其特征在于:所述横通道上设置有初衬结构，由所述横通道内部朝预留所述围护结构的实施条件的上方径向注浆后局部破除所述初衬结构。
3.如权利要求1所述的基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法，其特征在于:在所述横通道内处于所述二衬顶板下方的位置还水平设置有二衬隔板，在完成步骤四后，再往所述二衬顶板、所述二衬隔板及横通道内侧壁围合形成的腔体内填充素土。
4.如权利要求1或2所述的基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法，其特征在于:步骤三所述围护结构的实施条件为在所述二衬顶板上方预留用于所述围护结构插设的0.8-1.0m宽的安装槽。
【文档编号】E21D13/02GK104047621SQ201310080820
【公开日】2014年9月17日 申请日期:2013年3月14日 优先权日:2013年3月14日
【发明者】黄爱军, 徐正良, 田海波, 张向霞, 张增峰 申请人:上海市城市建设设计研究总院