一种用于泵内的防腐蚀结构的制作方法

文档序号:25306807发布日期:2021-06-04 14:40阅读:151来源:国知局
一种用于泵内的防腐蚀结构的制作方法

1.本发明涉及机械密封领域,具体是一种用于泵内的防腐蚀结构。


背景技术:

2.泵产品在其设计过程中,大多会装配机封以起到密封效果;针对酸性和碱性等具有腐蚀性的介质,一旦机封失效使腐蚀性介质泄露,机封后侧部分暴露在机封外的轴身,便会很快接触到腐蚀性介质,从而遭受腐蚀;同时,轴在旋转的过程中,介质的流动和飞溅也会对转子部件造成腐蚀,从而影响整台泵正常使用,甚至会导致泵被迫停机,造成很大的经济损失,因此亟待解决。


技术实现要素:

3.为了避免和克服现有技术中存在的技术问题,本发明提供了一种用于泵内的防腐蚀结构。本发明通过在轴身套设储液箱,由于箱体随泵一起高速转动,在机封失效时腐蚀介质泄露后达到储液箱进液孔所在侧的箱壁后,会由于离心力的作用沿箱壁向外扩散并从进液孔进入储液箱中,从而对腐蚀介质起到存储作用,防止轴身受介质腐蚀。
4.为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
5.一种用于泵内的防腐蚀结构,泵内的轴贯穿储液箱的箱体并带动储液箱一起转动,所述储液箱内部构成储液空腔,所述储液箱靠近泵内机封的一侧箱壁上开设有进液孔,机封处泄露的腐蚀性介质到达进液孔所在侧的箱壁后,由于离心力的作用沿箱壁向远离轴方向扩散,最后通过进液孔进入储液箱内部。
6.作为本发明进一步的方案:所述储液箱靠近泵内机封的一侧箱壁上设置有对腐蚀介质起导流作用的导流部件,使腐蚀介质更易进入进液孔中。
7.作为本发明再进一步的方案:进液孔所在侧的箱壁沿远离机封方向凹陷以形成曲面状的箱壁,所述曲面状的箱壁即为导流部件。
8.作为本发明再进一步的方案:进液孔所在侧的箱壁上凸设有环绕进液孔的阻流环,所述阻流环即为导流部件。
9.作为本发明再进一步的方案:进液孔所在侧的箱壁包括环绕轴的介质直击面以及环绕介质直击面的介质阻流面,所述介质直击面到机封的距离大于介质阻流面到机封的距离,介质直击面和介质阻流面之间通过衔接板连接彼此,所述进液孔开设在介质直击面和/或衔接板上,所述介质直击面即为导流部件。
10.作为本发明再进一步的方案:所述进液孔为与轴同轴设置的环形孔。
11.作为本发明再进一步的方案:所述进液孔环绕轴间隔设置。
12.作为本发明再进一步的方案:所述轴暴露在机封外的轴身部分固定有密封轴套,所述储液箱上沿轴的轴向开设有贯穿箱体的安装孔,所述安装孔直径与密封轴套外径相吻合从而方便将储液箱套设固定在密封轴套上。
13.作为本发明再进一步的方案:所述储液箱靠近轴承座内壁的箱壁上开设有方便排
出液体的箱体出液孔,所述箱体出液孔通过密封塞塞紧密封;轴承座底部开设有与箱体出液孔位置对应的排液孔,所述箱体出液孔对准排液孔后即可打开密封塞从而将腐蚀性介质排出泵外。
14.作为本发明再进一步的方案:所述轴固定在轴承座内,轴承座内为圆柱状空腔,所述储液箱为环状柱形箱体,其内部的储液空腔为环绕轴的连续腔,储液箱靠近轴承座一侧的箱壁与轴承座的内壁之间存在间隙。
15.与现有技术相比,本发明的有益效果是:
16.1、本发明通过将泵轴贯穿储液箱并带动储液箱一起转动,在机封失效时腐蚀性介质泄露并直击储液箱后,由于离心力的作用沿箱壁向远离轴方向扩散,最后通过进液孔进入储液箱的储液空腔内被储存起来,防止腐蚀性介质飞溅而出对轴和转子部件造成腐蚀,提高了泵工作过程中的安全性。
17.2、本发明通过在储液箱靠近泵内机封侧的箱壁上设置导流部件,且导流部件有多种选择,可以将储液箱靠近泵内机封侧的箱壁设置为曲面状,可以在储液箱靠近泵内机封侧的箱壁上设置阻流环,还可以将储液箱靠近泵内机封侧的箱壁设置为离机封距离不同的介质直击面和介质阻流面,使腐蚀介质更易从进液孔进入箱体内被储存起来。
18.3、本发明的进液孔可以为与轴同轴设置的环形孔或环绕轴间隔设置,为生产加工提供了多种选择。
19.4、本发明通过在轴暴露在机封外的轴身部分固定密封轴套,对轴身进行了二次保护,进一步降低了轴身受腐蚀性介质腐蚀的风险。
20.5、本发明通过在出液箱上开设箱体出液孔,工作时使用密封塞塞紧密封,并在轴承座底部开设与箱体出液孔位置对应的排液孔,在泵停止工作后,小幅度转动箱体使箱体出液孔对准排液孔后,打开密封塞使排液孔对准箱体出液孔,腐蚀性介质即可由于重力向轴承座外排出,或向内插入排液管从而将腐蚀介质导出,从而方便腐蚀介质的清理和收集。
21.6、本发明通过将轴承座内腔设置为圆柱状空腔,并将储液箱设置为环状柱形箱体,使储液箱随轴转动时可以轴承座紧密贴合,降低了腐蚀性介质从储液箱和轴承座之间的间隙泄露出去的可能性。
附图说明
22.图1为储液箱靠近泵内机封的一侧箱壁呈曲面状时本发明的结构示意图。
23.图2为本发明采用图1结构时储液箱的结构示意图。
24.图3为储液箱靠近泵内机封的一侧箱壁设置有阻流环时本发明的结构示意图。
25.图4为本发明采用图3结构时储液箱的结构示意图。
26.图5为进液孔开设在介质直击面上时本发明的结构示意图。
27.图6为本发明采用图5结构时储液箱的结构示意图。
28.图7为进液孔开设在衔接板上时本发明的结构示意图。
29.图8为本发明采用图7结构时储液箱的结构示意图。
30.图中:1、轴承座;2、机封;3、储液箱;4、密封轴套;5、轴;6、排液孔;31、进液孔;32、密封塞;33、阻流环;34、介质直击面;35、介质阻流面。
具体实施方式
31.下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
32.请参阅图1~8,本发明实施例中,一种用于泵内的防腐蚀结构,泵内的轴5贯穿储液箱3的箱体并带动储液箱3一起转动,通过将储液箱3紧贴机封2设置,使得轴5得到了保护,为了进一步对轴5进行保护,优选为在轴5暴露在机封2的轴身部分固定上密封轴套4,优选通过固定键与轴5固定连接,密封轴套4贯穿储液箱3,被贯穿区域形成安装孔,安装孔优选为与轴5位于同一轴线上,密封轴套4随轴5一起转动的同时,带动储液箱3转动。
33.轴5固定在轴承座1内,轴承座1内优选为圆柱状空腔,储液箱3优选为环状柱形箱体,轴承座1内腔和储液箱3内形状并非固定,呈锥状、长方体等均可,优选为轴承座1内为圆柱状空腔,储液箱3为环状柱形箱体,储液箱3靠近轴承座1一侧的箱壁与轴承座1的内壁之间存在间隙,这个间隙通常非常狭窄,间隙宽度一般为1.5mm

10mm。为了方便箱体内的腐蚀介质能方便排出,通常在储液箱的箱壁上开设箱体出液孔,箱体出液孔通过密封塞塞紧密封,箱体出液孔的位置没有限定,为了方便排液,通常将箱体出液孔开设在靠近轴承座1内壁的箱壁上,同时优选在轴承座1底部开设与箱体出液孔位置对应的排液孔,在泵工作结束后,小幅度转动轴5使箱体出液孔对准排液孔即可打开密封塞32从而将腐蚀性介质排出泵外,这里的排液孔位置仅为优选项,将排液孔开设在轴承座1上任意位置后,向轴承座1内插入管道抽取排出腐蚀性介质亦可。
34.储液箱3内部构成储液空腔,其内部可以存在多个储液空腔,储液空腔之间通过隔板隔开,优选为储液空腔为环绕轴5的连续腔;储液箱3靠近泵内机封2一侧的箱壁上开设有进液孔31,机封2处泄露在泵内飞溅并到达进液孔所在侧的箱壁后,由于离心力的作用沿箱壁向远离轴5方向扩散,最后通过进液孔31进入储液箱3内部的储液空腔中被储存起来。
35.为了使腐蚀介质更易通过进液孔31进入储液箱3内,通常在箱壁上设置对腐蚀介质起导流作用的导流部件,导流部件可以有多种选择,选择不同导流部件后储液箱3结构随之发生改变,以下一一举例:
36.1、如图1和图2,进液孔31所在侧的箱壁沿远离机封2方向凹陷以形成曲面状的箱壁,这里的曲面为球面、椭球面等均可,进液孔31优选为与轴5同轴设置的环形孔,当然改为多个环绕轴5间隔设置的进液孔31亦可。
37.2、如图3和图4,进液孔31所在侧的箱壁上凸设有环绕进液孔31的阻流环33,这里的凸设可以在箱体铸造时一体成型,亦可以后期固定在箱壁上,阻流环33形状没有限制,圆环状,方形环状,三角形环状均可,阻流环33可以设置可以为纯粹的环状,亦可以在环上增加内翻边以提高阻流性能,阻流环33优选为紧贴进液孔31设置。进液孔31优选为与轴5同轴设置的环形孔,当然改为多个环绕轴5间隔设置的进液孔31亦可。
38.3、进液孔31所在侧的箱壁包括环绕轴5的介质直击面34以及环绕介质直击面34的介质阻流面35,介质直击面34和介质阻流面35形状不限,介质直击面34呈方形、三角形等均可,只要使介质阻流面35包围介质直击面即可;介质直击面34到机封2的距离大于介质阻流面35到机封2的距离;此时分为两种情况:
39.3.1、如图5和图6所示时,介质直击面34和介质阻流面35之间通过衔接板连接彼此,进液孔31开设在介质直击面上,且位置靠近介质阻流面35。进液孔31优选为与轴5同轴设置的环形孔,当然改为多个环绕轴5间隔设置的进液孔31亦可。
40.3.2、如图7和图8所示时,又分为两种情况:进液孔31为与轴5同轴设置的环形孔时,介质直击面34和介质阻流面35之间不连接起来,两块板之间的间隙即构成进液孔31;进液孔31环绕轴5间隔设置时,介质直击面34和介质阻流面35之间通过衔接板连接彼此,此时进液孔31均匀开设在衔接板上。
41.在3.1和3.2这两种情况下,将进液孔31同时开设在介质直击面34和衔接板35上亦可。
42.以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。
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