具有移动适配部分的用以耦接o形环的狭缝化tssl阀门的制作方法

专利名称：具有移动适配部分的用以耦接o形环的狭缝化tssl阀门的制作方法
具有移动适配部分的用以耦接0形环的狭缝化TSSL阀门发明背景 发明领域本发明的实施方式一般与用于密封腔室中的开口的狭缝阀门(slit valve door)有关。相关技术的描述为了将基板引入腔室中，一般需开启一道门，而基板插置穿过一开口而至腔室的 内部空间中，接着关闭这道门并抽取(draw)真空。在抽取真空时，腔室本身会压缩，因此开 口会因为腔室移动而收缩。当腔室排空时，腔室便回到其正常状态。当该门对腔室密封时，这道门保持静止，这是因为其并非腔室壁体的一部分。密封 机构(一般为0形环)受压于这道门与腔室壁体之间，因此，当腔室压缩或排空时，其将相 对于这道门及0形环而移动，并对0形环(且有可能对门)产生摩擦；因为腔室对0形环摩 擦，0形环会受损且密封会被破坏而损害腔室的真空完整性。此外，也会因摩擦而产生颗粒。因此，本领域中需要一种腔室与门装置，以避免颗粒的产生且同时保持真空完整 性。发明概述本文中所揭露的实施方式一般与用于密封腔室中一开口的狭缝阀门装置有关。当 狭缝阀门开口收缩时，压向该腔室以密封狭缝开口的一狭缝阀门与腔室一起移动，使得受 压于该狭缝阀门与该腔室之间的0形环可与该狭缝阀门和该腔室一起移动，因此，0形环对 腔室发生摩擦的情形会较少。由于较少摩擦，产生的颗粒可较少，因而可延长0形环的使用 寿命。由于0形环的使用寿命较长，基板处理量即可增加。在一实施方式中，一狭缝阀门包括一门体，其具有一第一主体、一第二主体与一第 三主体。该第二主体与第三主体各耦接至该第一主体于其一边缘处，并与该第一主体分隔 于其一中央区域。狭缝阀门也包括一或多个伸缩囊(bellow)，其耦接于该第一主体以及该 第二主体和该第三主体中至少其一之间，使得该第二主体上的一密封与该第三主体上的一 密封之间的距离可随着狭缝阀门的宽度变化而改变。在另一实施方式中，一狭缝阀门包括一第一主体、与该第一主体分隔的一第二主 体、以及耦接于该第二主体与该第一主体的第一表面间的一第一伸缩囊。该狭缝阀门也可 包括一第二伸缩囊，其耦接于该第二主体以及该第一主体的第二、第三、第四与第五表面之 间，使得在第一主体、第二主体、第一伸缩囊与第二伸缩囊之间存在一气囊(air pocket)。在另一实施方式中，一负载锁定腔室包括一负载锁定腔室主体，至少一个开口可 形成于穿过该负载锁定腔室主体的一表面。该负载锁定腔室还可包括一狭缝阀门，该狭缝 阀门可包括一门体(door body)，其具有一第一主体、一第二主体与一第三主体。该第二 主体与第三主体各可耦接至该第一主体于其一边缘处，并与该第一主体分隔于其一中央区 域。狭缝阀门也包括耦接于该第一主体以及该第二主体和该第三主体中至少其一之间的一 或多个伸缩囊，以及与该狭缝阀门及该腔室主体耦接的一狭缝阀门致动器。
在另一实施方式中，一负载锁定腔室包括一负载锁定腔室主体，其具有至少一个 形成穿过该负载锁定腔室主体的一表面的开口。该负载锁定腔室也包括一狭缝阀门，该狭 缝阀门包括一第一主体，其具有一第二表面、第三表面、第四表面、第五表面、第六表面与第 七表面。该狭缝阀门也包括与第一主体分隔的一第二主体，以及耦接于该第二主体与该第 七表面之间的一第一伸缩囊。该狭缝阀门也包括耦接于该第二主体与负载锁定腔室主体的 第二、第三、第四、及第五表面之间的一第二伸缩囊，使得在第一主体、第二主体、第一伸缩 囊与第二伸缩囊之间存在一气囊。该负载锁定腔室也可包括一狭缝阀门致动器，其与该狭 缝阀门及该腔室主体耦接。在另一实施方式中，揭露了一种狭缝阀门，该狭缝阀门包括一第一主体以及一第 二主体，该第二主体与该第一主体耦接于其一边缘处并与该第一主体分隔，使得在第一主 体与第二主体之间存在一第一狭缝。该狭缝阀门也包括耦接于该第一主体与该第二主体之 间的一第一轴承板，耦接于该第一主体与该第二主体之间、且位于该第一狭缝上方的一第 一伸缩囊，以及耦接至该第一伸缩囊、第一主体与第二主体的一第一夹钳(clamp)。在另一实施方式中，揭露了一种排空一腔室的方法。该方法包括压缩一狭缝阀门 与一腔室主体之间的一 0形环，其中该狭缝阀门具有一第一部分与一第二部分；在该腔室 主体内抽取一真空，并相对于该第二部分而移动该腔室主体、该0形环与该第一部分。附图
简要说明本发明的其它优势、特征与特性可从实施方式说明并参照如附图而了解。然而应 注意，这些图仅为说明本发明的典型实施方式之用，因此不应视为限定其范畴，本发明也允 许其它等效实施方式。图IA为腔室100在移除狭缝阀门而进行排空前的示意前视图。图IB为图IA所示的腔室100在移除狭缝阀门而呈真空的示意前视图。图2A-2F为狭缝阀门的示意截面图，其在腔室主体在真空下偏斜时用于与腔室主 体一起偏斜。图3A与图;3B为根据一实施方式的狭缝阀门的等角视图。图3C为一狭缝阀门350的示意截面图。图4A为在排空腔室前的狭缝阀门前视图。图4B为另一个狭缝阀门在排空腔室前的前视图。图4C为具有两独立空间、在排空其中一个空间前的一装置截面图。图4D为已经耦接至经排空腔室的狭缝阀门的前视图。图4E为已经耦接至经排空腔室的相邻腔室的狭缝阀门前视图。图4F为一腔室示意截面图，其绘示了与一大气腔室空间相邻的经排空腔室。图5A-5C为根据一实施方式的狭缝阀门的截面图。图5D与图5E为根据另一实施方式的狭缝阀门的等角视图。图5F-5J为根据另一实施方式的狭缝阀门的等角视图。图6A为根据另一实施方式的狭缝阀门的等角视图。图6B为图6A的狭缝阀门的放大视图。图7为根据一实施方式的组合工具(cluster too)的示意顶视图。为增进理解，图中使用了相同的元件符号来代表相同的元件。应知一实施方式中所揭露的元件可有利地用于其它实施方式，其无须特别指明载述。详细描述本文中所揭露的实施方式一般与用于密封腔室中一开口的狭缝阀门装置有关。当 狭缝阀门开口收缩时，压向该腔室以密封狭缝开口的一狭缝阀门与腔室一起移动，使得受 压于该狭缝阀门与该腔室之间的0形环与该狭缝阀门与该腔室一起移动。因此，0形环对 腔室发生摩擦的情形会较少。由于较少摩擦，产生的颗粒可较少，因而可延长0形环的使用 寿命。由于0形环的使用寿命较长，基板处理量即可增加。负载锁定腔室中的一个主要问题是负载锁定的密封表面与门体之间的相对移动。 适配表面(mating surface)为经过真空循环、产生可观移动量的负载锁定腔室。因为门 体十分坚固且刚硬，且因为0形环会受到明显的磨损/腐蚀机制，因此会产生大量的颗粒， 其会在短时间内对密封产生不良影响。本文所述的实施方式提供了门体的0形环沟道区域 (groove area)与移动部分相配的弹性，以将相对移动减至最低。可藉由提供穿过门体长度 的两个长形沟槽(slot)、接着对沟槽覆以一弹性密封衬垫(例如隔膜)以维持真空完整性 而实现此一弹性。为了维持门体的机械完整性，弹性区域通过一系列的接脚(Pin)与轴衬 (bushing)而耦接至门体的刚性部分，其允许垂直移动并限制了侧向移动。以下将参照AKT America, Inc.(加州圣克拉拉的应用材料公司(Applied Materials, Inc.，Santa Clara, California)的子公司)的三沟槽负载锁定腔室来说明本 文所述的实施方式。虽以负载锁定腔室来进行实施方式的说明，但应知实施方式也可实行 于其它真空腔室中，包括由其它制造商所生产的那些真空腔室。图IA是腔室100在移除狭缝阀门而进行排空前的示意前视图。腔室100可为一 负载锁定腔室、一处理腔室、或任何可被排空的一般腔室。腔室100包括一腔室主体102，其 具有穿过腔室主体102的一或多个壁体的狭缝阀门开口 104。狭缝阀门开口 104具有由箭 头A所示的一高度。然而，当腔室100被排空时，狭缝阀门开口 104会收缩。图IB为图IA所示的腔室100在移除狭缝阀门而呈真空的示意前视图。如图所示， 狭缝阀门开口 104已狭缩(pinch)于中间部分，因为腔室主体102已从线106、108、112、110 所示的正常位置移动如箭头“B”所示的一段距离。腔室主体102在狭缝阀门开口 104的中 央狭缩较多，因为当腔室主体102在真空下偏移时，在狭缝阀门开口 104的中央区域并无任 何支撑。对于大区域的腔室(例如用于处理面积大于约一平方米的基板的腔室)而言，这 种偏移会相当显著。因为腔室移动，当狭缝阀门未移动时，狭缝阀门(未图示)会对腔室主 体102摩擦，并产生颗粒。图2A-2F为狭缝阀门的示意截面图，其在腔室主体在真空下偏斜时用于与腔室主 体一起偏斜。在图2A示的实施方式中，狭缝阀门200会受沿着旋转把手208的旋转轴的旋 转而致动。旋转把手208可藉由耦接把手210而耦接于狭缝阀门200的中心主体202。狭缝阀门200包括第一主体202、第二主体204与第三主体206。在一实施方式 中，第一主体202与第二及第三主体204、206包含末端耦接在一起、且于其中央区域处分隔 的个别构件。在另一实施方式中，第一主体202以及第二与第三主体204、206包含一单一 材料构件，其分隔于其中央区域处。杆件(!·0(1)214可耦接在各第二与第三主体204、206以 及第一主体202之间；如果需要的话，在杆件214上方的第二与第三主体204、206上可具 有一盖体部分208。杆件214可固定地耦接至第一主体202，但以滑动方式耦接至第二与第
6三主体204、206，使得当第二与第三主体204、206相对于第一主体202而移动时，杆件214 可相对于第二与第三主体204、206保持静止。第二与第三主体204、206可相对于第一主体 202滑动与移动，使得当真空抽取至腔室中时，第二与第三主体204、206移动靠近第一主体 202。第二与第三主体204、206可移动，因为与其耦接之的0形环220压抵腔室壁体以密封 腔室。当腔室相对于其正常位置而移动或偏移时，0形环220也会如此，且因而耦接至腔室 壁体的第二与第三主体204、206也会如此。因此，杆件214虽保持静止，但第二与第三主体 204、206会相对于第一主体202而滑动与移动，并且靠近或进一步离开第一主体202。图2A 绘示了当第二与第三主体204、206已经压缩靠近第一主体202时的狭缝阀门200。图2D绘 示了当第二与第三主体204、206未压缩靠近第一主体202时的狭缝阀门200。在第二与第 三主体204、206和杆件214之间可存在一轴衬216，以使第二与第三主体204、206以尽可能 低的摩擦力移动。在一实施方式中，轴衬216可包括聚四氟乙烯。杆件214可沿着狭缝阀 门200而分隔。在一实施方式中，第一主体202、第二与第三主体204、206、杆件214、与盖体 218各包含一金属材料。在另一实施方式中，第一主体202、第二与第三主体204、206、杆件 214与盖体218包含铝。为了确保狭缝阀门200可密封处理腔室，在狭缝阀门200面对真空环境的侧边上 存在伸缩囊212。伸缩囊212可如第二与第三主体204、206般压缩，并移动靠近第一主体 202。类似地，伸缩囊212可如第二与第三主体204、206般延展，其自第一主体202移动远 离。伸缩囊212可为一真空伸缩囊，其可保持真空，使真空环境不受伸缩囊212影响。真空 侧上的伸缩囊212将杆件214与轴衬216自真空环境隔离，因此，可避免由轴衬216与杆件 214摩擦而产生的颗粒抵达真空环境而可能污染基板。在运作期间，狭缝阀门200旋转至相对于腔室的位置，藉以使0形环220接触真空 腔室。接着在真空腔室中抽取真空；在抽取真空时，0形环220以及第二与第三主体204、206 会与真空腔室主体一起相对于第一主体而移动。在这样的移动中，第二与第三主体204、206 相对于第一主体202与杆件214而移动；此外，伸缩囊212会压缩。因此，第二与第三主体 204、206、轴衬216以及盖体部分218都会相对于第一主体202而移动。当真空腔室排空 时，第二与第三主体204、206再次相对于第一主体202与杆件214而移动。然而，在排空期 间，第二与第三主体204、206、轴衬216与盖体部分218都从第一主体202与杆件214移动 离开。此外，伸缩囊212会膨胀。之后，狭缝阀门200可自真空腔室移动离开。在图2B所 示的实施方式中，伸缩囊232、234存在于狭缝阀门230的真空侧与另一侧上；图2B绘示了 当第二与第三主体已经压缩靠近第一主体时的狭缝阀门230，图2E绘示了当末端构件未压 缩靠近第一主体时的狭缝阀门230。在图2C中，狭缝阀门250、第一主体252藉由一空气间隙264而与第二及第三主体 254,256分隔开来，空气间隙沈4由狭缝阀门250两侧上的伸缩囊258、260予以限定。当第 二与第三主体254、256向第一主体252压缩时，存在于空气间隙沈4中的空气藉由过滤器 262而排出空气间隙沈4。类似地，当第二与第三主体254、256自该第一主体252膨胀离开 时，过滤器262可使空气进入空气间隙沈4中。图2C绘示了当第二与第三主体254、256已 经压缩靠近第一主体252时的狭缝阀门250。图2F绘示了当第二与第三主体254、256未压 缩靠近第一主体252时的狭缝阀门250。图3A与图;3B为根据一实施方式的狭缝阀门300的等角视图。狭缝阀门300耦接至一轴杆(shaft) 302与一支撑架/固定架304 ；轴杆302沿其旋转轴而旋转，以枢转狭缝 阀门300。耦接把手耦接至轴杆302与狭缝阀门的第一主体306。因此，当第二与第三主体 308,310向第一主体306压缩及膨胀离开第一主体306时，支撑架/固定架304与中央主体 306保持静止。第二与第三主体308、310在边缘312、314处耦接至第一主体306，使得第一 主体306及第二与第三主体308、310包含一单一材料构件。在一实施方式中，该单一材料 构件包含铝。在第二与第三主体308、310可在排空和排气(venting)期间会相对于第一主 体306压缩及/或膨胀的区域中，第二与第三主体308、310可与第一主体306分隔一空间 316、318。在沿着狭缝阀门300的位置上具有数个杆件320。图3C为一狭缝阀门350的示意截面图，其具有上下沟槽352，以在腔室主体偏移 时，使部分的狭缝阀门350与腔室主体一起移动。伸缩囊邪4可置于沟槽352上方，并由一 夹钳356支承定位。夹钳356与伸缩囊3M可面向腔室内部或远离腔室内部。图4A为在排空腔室前的狭缝阀门400的前视图；图4B为另一个狭缝阀门416在 排空腔室前的前视图；图4C为具有两独立、环境隔离空间420、422的一负载锁定装置404 在排空负载锁定装置404前的截面图；图4D为已经耦接至经排空腔室空间420的狭缝阀 门400的前视图；图4E为已经耦接至经排空腔室空间420的相邻腔室空间422的狭缝阀门 416的前视图；图4F为一装置404在排空空间420后的示意截面图。如图4A所示，中央构 件与末端构件(亦即与中央构件分隔的构件)之间的间隙402由箭头‘ ”加以表示。间隙 402在整个间隙402的末端构件与中央构件之间产生了实质均勻的距离。在排空之前，门体 400的伸缩囊414位于中间位置；类似地，用于密封空间422的门体416的伸缩囊418也位 于一中间位置。图4B中所示的狭缝阀门416与图4A所示的狭缝阀门400相似。在末端构件与中 央构件之间的间隙424、426以箭头“I”予以表示，间隙似4、似6在整个间隙424、426的末 端构件与中央构件之间产生了实质均勻的距离。当狭缝阀门400耦接至经排空的装置404与空间420时，负载锁定腔室404的壁 体406、408从如线“G”、“H”所示的其正常位置压缩，并使狭缝阀门400的间隙402以箭头 “F”所示方式压缩，使得末端构件与中央构件之间的距离会从间隙402的边缘410逐渐向间 隙402的中央412减少。门体400的伸缩囊414如图4F方式压缩。因为壁体408向经排 空的空间420偏移，门体416会膨胀，并因而膨胀伸缩囊418至图4E所示的拉伸状态。对于大气空间422而言，狭缝阀门416会膨胀并因而拉伸上间隙424的伸缩囊 418，如箭头“J”所示；而下间隙4 则相对保持为未改变，如箭头“K”所示。然而，间隙4 可与间隙424同等拉伸。在一实施方式中，间隙似6可比间隙似4拉伸得少。在一实施方 式中，间隙似6保持未改变，使得间隙似6分开如箭头“K”所示的一距离，此距离实质上与 箭头“I”所示的距离相等。间隙4M会膨胀，因为其与偏移腔室直接相邻，而间隙4 直接 与一壁体相邻而未偏移。间隙402、424、似6的压缩或膨胀意味末端构件相对于中央构件而 移动。同样地，0形环428、430、432、4；34相对于中央构件而移动。0形环428、430、432、434 成形为与间隙402、似4、似6实质相同、但稍微较大。因此，0形环似8、430、432、434形状与 间隙402、424、426的形状极为相似。间隙402、似4、似6发生最大移动的区域也就是0形环 428,430,432,434相对于中央构件产生最大移动的区域。0形环似8、430、432、434与偏移 的腔室壁体以及狭缝阀门400、416的移动部分一起移动，使得0形环428、430、432、434并不相对于偏移的腔室壁体或狭缝阀门400、416的移动部分而移动。因此，间隙402、424、426 产生最少移动量的位置、或未发生移动的位置将经历0形环428、430、432、434的最少移动 量或不移动。就另一方式而言，0形环428、430、432、434的长侧会移动，而0形环428、430、 432,434的短侧几乎不移动、或完全未移动。图5A-5C为根据一实施方式的狭缝阀门500的截面图。狭缝阀门500可包含第一 主体502与第二主体504。0形环506可耦接于第二主体504以使狭缝阀门500密封至一 腔室。第二主体504可包含独立于第一主体502的一个别构件，其可相对于第一主体502 而移动。当压抵一腔室时，第二主体504可与腔室一起相对于第一主体502而移动。因此， 0形环506可相对于腔室保持静止(但相对于第一主体而移动)，且狭缝阀门500的部件与 腔室都不会对彼此摩擦。由于第二主体504与腔室一起移动，即可减少可污染基板的颗粒 的产生量。第二主体504可沿着位于第二主体504与第一主体502之间的轴承514而滑动。 在一实施方式中，轴承514可包含聚醚醚酮(poly ether ether ketone)；而在另一实施方 式中，轴承514包括聚四氟乙烯。移动的第二主体504会产生可污染基板的颗粒，这是因为其相对于第一主体502 而移动。因此，狭缝阀门500的位置(会因移动部分而产生颗粒的任何处)受密封以避免 暴露至基板与真空环境。会产生颗粒的一个此种区域位于第二主体504与轴承514之间的 交界面处，所形成的颗粒会落到第二主体504与第一主体502之间的空腔518中；因此，伸 缩囊510可锁固至第二主体504以及第一主体502，以隔绝空腔518与狭缝阀门500的密封 侧。伸缩囊510可藉由一或多个锁固机构516而耦接至第二主体504与第一主体502。为提供第二主体504对第一主体502的其它耦接，一第二伸缩囊508可沿着狭缝 阀门500的上部耦接于第二主体504与第一主体502之间。可使用一或多个锁固机构512 来将伸缩囊508耦接至第一主体502与第二主体504。空腔518可维持为与狭缝阀门500的压力侧几乎相同的压力。在一实施方式中， 狭缝阀门500的压力侧的压力可为大气压力。藉由使空腔518保持于与狭缝阀门500的压 力侧几乎相同的压力，即使在狭缝阀门500所密封的腔室被排气或排空时，第二主体504可 保持其相对于第一主体502的位置。第二主体504上的主要压力可来自0形环506接触其 于腔室上的密封表面。为达相同的压力条件，上伸缩囊508可包含一微孔隙材料。在一实 施方式中，孔隙度(porosity)可约为1微米。孔隙度可于含有由移动部分所产生的任何颗 粒时，使空腔518透气。在一实施方式中，上伸缩囊508可包含固态弹性体，而可透气性过 滤插塞件(breathable filter plug)可自压力侧连接至空腔518。图5B绘示了通过轴承514而将第二主体504耦接至第一主体502的锁固机构 (fastening mechanism) 520。锁固机构520可配置于第二主体504中所形成的一沟槽522 中。当腔室排空、且角落构件移动时，锁固机构520相对于第二主体504保持静止，而沟槽 522相对于锁固机构520而移动。图5C绘示了在一替换条件中的第二主体504 ；如图所示， 沟槽522相对于锁固机构520而移动。图5D与图5E为根据另一实施方式的狭缝阀门530的等角视图。图5D绘示了在 轴杆532与支撑架/固定架534座落处的狭缝阀门530的非密封侧。狭缝阀门530可绕着 轴杆532而旋转，以使狭缝阀门530对腔室定位并远离腔室。支撑架/固定架534使轴杆532耦接至第一主体536。图5E绘示了狭缝阀门530的密封侧。如图所示，第二主体538可跨越第一主体 536的一侧边的一可观长度。应知第二主体538可跨越第一主体536的整个侧边。此外，第 二主体538可跨越当腔室移动时狭缝阀门530的预期移动区域。由图5E可知，0形环540 横越了第二主体538与第一主体536两者。在第二主体538跨越少于第一主体536的整体 侧边长度的情形中，在第二主体538与第一主体536的垂直交界面处会分别需要其它的伸 缩囊。在一实施方式中，垂直交界面处的伸缩囊与伸缩囊统一。图5F-5J为根据另一实施方式的狭缝阀门550的等角视图。狭缝阀门550可绕 一杆件552旋转或枢转，以使一 0形环5M压缩抵一密封表面。狭缝阀门550包括一门体 576，其内形成有两个实质平行的狭缝578，以在狭缝阀门550所密封的腔室移动时，使部分 的狭缝阀门阳0移动。在一实施方式中，面对腔室内部的表面上的狭缝578覆以伸缩囊558、 560，其由夹钳556、562予以支承定位。与上述伸缩囊相同，伸缩囊558、560可避免因狭缝 阀门550移动而产生的颗粒进入处理区域内并污染基板。狭缝阀门主体的上表面580也可具有一伸缩囊564，其覆以一夹钳566以支承轴承 板568于移动表面之间的狭缝582内。轴承板568具有的厚度可自边缘向轴承板568的中 央改变，以形成一弧形。当狭缝阀门550对腔室密封时，第二主体586相对于第一主体584 而移动，并沿着轴承板568而移动。第二主体586在其一边缘处耦接至第一主体584。第一 主体584具有一覆盖体570，其用于以多孔性介质572来覆盖一中央环，其使空气或气体可 进入或离开颗粒产生的路径574。颗粒会被捕集于空腔内部，且空腔内部的压力可保持与门 体的压力侧相同。这是上述可透气式过滤插塞件的实例之一。图6A为根据一实施方式的狭缝阀门600的等角视图。图6B为图6A的狭缝阀门 600的放大视图。狭缝阀门600包含一第一主体602、一密封盖体606以耦接第二主体608 与第一主体602之间的伸缩囊604、一 0形环610以使狭缝阀门600对腔室密封、密封盖体 612以耦接第一主体602与第二主体608之间的伸缩囊、以及滑动垫616以使第二主体608 在腔室排空时相对于第一主体602而移动。在一实施方式中，滑动垫616可包含聚醚醚酮； 另一实施方式中，滑动垫616可包含聚四氟乙烯。一或多个滑动垫可于第一主体602以及 第二主体608之间分隔开来。图7为一示例处理系统700(例如一线性或组合工具)的平面图，其具有一真 空转移腔室706、一或多个负载锁定腔室704与多个处理腔室708。工厂接口(factory interface) 702由负载锁定腔室704耦接至转移腔室706，且包括了多个基板储存卡匣 (substrate storage cassette) 714 与一大气自动控制装置(atmospheric robot) 712 ；iM 大气自动控制装置712促使基板716转移于卡匣714与负载锁定腔室704之间。基板处理腔室708耦接至转移腔室706。基板处理腔室708可经装配以执行化学 气相沉积工艺、物理气相沉积工艺、蚀刻工艺与其它适用于制造平面显示器、太阳电池或其 它装置的大面积基板生产工艺中的至少一种。一般而言，大面积基板具有至少为1平方米 的平面面积，且可由玻璃或聚合板所构成。负载锁定腔室704 —般包括至少一环境隔绝空腔，其具有限定于其中的一或多个 基板储存沟槽。在部分实施方式中，可提供有多个环境隔绝空腔，其各具有一或多个限定于 其中的基板储存狭缝。负载锁定腔室704在工厂接口 702的一周遭或大气环境及转移腔室706中所维持的真空环境之间运作以转移基板716。真空自动控制装置710置于转移腔室706中，以帮助基板716在负载锁定腔室704 与处理腔室708之间转移。真空自动控制装置710可为任何一种适用于在真空条件下转 移基板的自动控制装置。在图7所示的实施方式中，真空自动控制装置710是一极坐标型 (polar)或蛙脚式(frog-leg)自动控制装置，其一般包括安放一或多个马达(未图标)的 自动控制装置基座760，用以控制一端效器(end effector) 762的位置。端效器762藉由连 杆(linkage) 764而耦接至基座760。此处所讨论的负载锁定腔室门体可用以自转移腔室 710密封负载锁定腔室704，也自工厂接口 702密封负载锁定腔室704。应知本发明虽以垂直走向的狭缝阀门加以说明，然而本发明也可等效应用于水平 走向的狭缝阀门，其处于密封位置时实质上与地面平行。当腔室排空及/或排气时，藉由使狭缝阀门的一部分与腔室一起移动即可减少产 生于狭缝阀门与腔室之间的颗粒量，因而可减少基板污染。虽然前文与本发明的实施方式有关，然而亦可在不背离本发明的基板范畴下得出 其它或进一步的实施方式；本发明的范畴由下述权利要求书决定。
权利要求
1.一种狭缝阀门，包含一第一主体；一第二主体，其耦接至该第一主体于其一边缘处，且与该第一主体分隔，使得在该第一 主体与该第二主体之间存在一第一狭缝；一第一轴承板，其耦接于该第一主体与该第二主体之间；一第一伸缩囊，其耦接于该第一主体与该第二主体之间，且在该第一狭缝上方；以及 一第一夹钳，其耦接至该第一伸缩囊、该第一主体与该第二主体。
2.根据权利要求1所述的狭缝阀门，更包含一第三主体，其耦接至该第一主体于其一边缘处，且与该第一主体分隔，使得在该第一 主体与该第三主体之间存在一第二狭缝；一第二轴承板，其耦接于该第一主体与该第三主体之间；一第二伸缩囊，其耦接于该第一主体与该第三主体之间，且在该第二狭缝上方；以及 一第二夹钳，其耦接至该第二伸缩囊、该第一主体与该第三主体。
3.根据权利要求2所述的狭缝阀门，更包含一第三伸缩囊，其耦接于该第一主体与该第二主体之间，且在一第三狭缝上方，该第三 狭缝实质上垂直于该第一狭缝并形成于该狭缝阀门的该上表面中；以及 一第三夹钳，其耦接至该第三伸缩囊、该第一主体与该第二主体。
4.根据权利要求3所述的狭缝阀门，更包含一第四伸缩囊，其耦接于该第一主体与该第三主体之间，且在一第四狭缝上方，该第四 狭缝实质上垂直于该第二狭缝并形成于该狭缝阀门的该下表面中；以及 一第四夹钳，其耦接至该第四伸缩囊、该第一主体与该第三主体。
5.根据权利要求4所述的狭缝阀门，其中该第一轴承板与该第二轴承板各包含一种选 自由聚醚醚酮与聚四氟乙烯所构成的群组的材料，其中该第一主体中具有一开口，其延伸 至该第一狭缝与该第二狭缝，该狭缝阀门更包含一 0形环，其耦接至该第一主体、该第二主 体与该第三主体。
6.一种负载锁定腔室，包含一负载锁定腔室主体，其具有形成通过其一第一表面的至少一个开口 ； 一狭缝阀门，该狭缝阀门包含一门体，其具有一第一主体以及一或多个第二主体与第三主体，该第二主体或该第三 主体耦接至该第一主体于其一边缘处，且与其一中央区域中的该中央主体分隔；及一或多个伸缩囊，其弹性耦接于该第一主体以及该第二主体与该第三主体中至少其一 之间；以及一狭缝阀门致动器，其与该狭缝阀门和该腔室主体耦接。
7.根据权利要求6所述的腔室，其中该狭缝阀门绕一轴可旋转，以使该狭缝阀门相对 于该负载锁定腔室主体而自接触该负载锁定腔室主体的一第一位置枢转至与该负载锁定 腔室主体分隔的一第二位置。
8.根据权利要求6所述的腔室，更包含一0形环，其耦接至该狭缝阀门。
9.根据权利要求6所述的腔室，其中该一或多个伸缩囊包含耦接于该第一主体以及所 述一或多个第二主体与第三主体之间的两个伸缩囊，使得在该负载锁定腔室主体的该第一主体、所述两个伸缩囊中至少其一、以及所述一或多个第二主体与第三主体中至少其一之间围出一气囊。
10.根据权利要求6所述的腔室，更包含一或多个轴承，其配置在该第一主体与该第二 主体之间。
11.根据权利要求10所述的腔室，其中所述一或多个轴承包含一种选自由聚醚醚酮与 聚四氟乙烯所构成的群组的材料，该腔室更包含一夹钳，其耦接至所述一或多个伸缩囊中 至少其一以及该第一主体。
12.根据权利要求6所述的腔室，更包含一夹钳，其耦接至所述一或多个伸缩囊中至少 其一以及该第一主体。
13.一种用于排空一腔室的方法，包含以下步骤压缩一狭缝阀门与一腔室主体之间的一 0形环，该狭缝阀门具有一第一部分与一第二 部分；以及在相对该狭缝阀门的该第二部分移动该狭缝阀门的该第一部分时，在该腔室主体内抽 取一真空，以避免该0形环对该腔室主体的摩擦。
14.根据权利要求13所述的方法，更包含以下步骤在相对该狭缝阀门的该第二部分移动该狭缝阀门的该第一部分时，排空该腔室主体， 以避免该0形环对该腔室主体的摩擦；以及枢转该狭缝阀门离开该腔室主体，使得该0形环与该腔室主体分隔。
15.根据权利要求14所述的方法，其中该狭缝阀门包含一伸缩囊，其耦接于该第二部 分与该第一部分之间，其中该狭缝阀门具有一轴承，其耦接于该第一部分与该第二部分之 间，且其中该第二部分沿着该轴承而移动。
全文摘要
在此公开的实施方式与一种用于密封一腔室中的开口的狭缝阀门装置有关。当狭缝阀门开口收缩时，压向该腔室以密封一狭缝阀开口的一狭缝阀门与该腔室一起移动，使得受压于该狭缝阀门与该腔室之间的一O形环与该狭缝阀门和该腔室一起移动。因此，O形环对腔室发生摩擦的情形会较少。由于较少摩擦，产生的颗粒可较少，因而可延长O形环的使用寿命。由于O形环的使用寿命较长，基板处理量即可增加。
文档编号F16K1/24GK102138033SQ200980134015
公开日2011年7月27日 申请日期2009年8月27日 优先权日2008年8月28日
发明者栗田真一, 梅兰·贝德亚特, 稻川真, 约翰·M·怀特, 苏希尔·安瓦尔 申请人:应用材料股份有限公司