阀门结构及电磁阀的制作方法

文档序号:34695029发布日期:2023-07-06 09:20阅读:16来源:国知局
阀门结构及电磁阀的制作方法

本技术涉及阀门自动控制,特别是一种阀门结构及电磁阀。


背景技术:

1、现有电磁阀的阀芯会长期泡在液体中,特别是流体为腐蚀液体时,长时间的浸泡,容易对阀芯造成腐蚀和损坏,则会造成阀门无法关紧,出现泄漏的情况。


技术实现思路

1、本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本实用新型提出一种阀门结构,能够防止对阀芯造成腐蚀,提升了可靠性。

2、本实用新型还提出一种具有上述阀门结构的电磁阀。

3、一方面,根据本实用新型实施例的阀门结构,包括塑料隔膜套和阀芯,所述塑料隔膜套具有隔绝层、波纹管及塞子,所述隔绝层设有安装孔,所述塞子设有连接槽,所述波纹管的第一端与所述安装孔连接,所述波纹管的第二端与所述连接槽连接;所述阀芯的第一端依次穿过所述安装孔和所述波纹管后与所述连接槽连接。

4、根据本实用新型的一些实施例,所述塑料隔膜套为一体成型结构。

5、根据本实用新型的一些实施例,所述塑料隔膜套为全氟丙基全氟乙烯基醚与聚四氟乙烯的共聚物。

6、根据本实用新型的一些实施例,所述阀芯的第一端外壁设有外螺纹,所述连接槽的内壁设有与所述外螺纹匹配的内螺纹。

7、根据本实用新型的一些实施例,所述波纹管的外壁为螺纹状。

8、根据本实用新型的一些实施例,所述波纹管由多层连接部依次连接组成,所述波纹管纵截面为连续的w型伸缩面。

9、根据本实用新型的一些实施例,所述隔绝层的外壁设有用于安装密封圈的密封槽。

10、另一方面,根据本实用新型实施例的电磁阀,包括根据本实用新型上述实施例的阀门结构,还包括电磁头、磁芯以及阀座;所述电磁头设有线圈以及内腔;所述磁芯设于所述内腔的第一端;所述阀座设有安装槽、管道及设于所述管道内的阀口,所述阀座固定连接在所述电磁头的第一端,且所述安装槽设于所述阀座的表面并朝向所述内腔,所述安装槽与所述阀口连通;其中,所述隔绝层安装于所述安装槽内且覆盖于所述内腔第二端的开口,所述塞子用于堵住所述阀口,所述阀芯活动设置于所述内腔内,且所述阀芯的第一端延伸至所述阀口处,所述阀芯能够带动所述塞子靠近或远离所述阀口。

11、根据本实用新型的一些实施例,所述阀芯的第二端通过弹簧与所述磁芯连接。

12、根据本实用新型的一些实施例,所述阀座与所述电磁头通过螺钉实现固定连接。

13、本实用新型实施例至少具有如下有益效果:增加塑料隔膜套,可以对阀芯起到隔绝的作用,在应用于电磁阀的过程中,塑料隔膜套具有耐腐蚀性,且塞子能够堵住阀口,可以避免阀芯与液体直接接触,防止阀芯会出现腐蚀的情况,可以有效地提升电磁阀的使用寿命和可靠性,可以防止因无法关紧而出现泄漏的情况。

14、本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本实用新型的实践了解到。



技术特征:

1.一种阀门结构,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的阀门结构,其特征在于:所述塑料隔膜套(100)为一体成型结构。

3.根据权利要求1所述的阀门结构,其特征在于:所述塑料隔膜套(100)为全氟丙基全氟乙烯基醚与聚四氟乙烯的共聚物。

4.根据权利要求1所述的阀门结构,其特征在于:所述阀芯(200)的第一端外壁设有外螺纹,所述连接槽的内壁设有与所述外螺纹匹配的内螺纹。

5.根据权利要求1所述的阀门结构,其特征在于:所述波纹管(120)的外壁为螺纹状。

6.根据权利要求1所述的阀门结构,其特征在于:所述波纹管(120)由多层连接部依次连接组成,所述波纹管(120)纵截面为连续的w型伸缩面。

7.根据权利要求1所述的阀门结构,其特征在于:所述隔绝层(110)的外壁设有用于安装密封圈的密封槽。

8.一种电磁阀,其特征在于:包括如权利要求1至7任一项所述的阀门结构,还包括:

9.根据权利要求8所述的电磁阀,其特征在于:所述阀芯(200)的第二端通过弹簧(600)与所述磁芯(400)连接。

10.根据权利要求8所述的电磁阀,其特征在于:所述阀座(500)与所述电磁头(300)通过螺钉(700)实现固定连接。


技术总结
本技术涉及阀门自动控制技术领域,公开了一种阀门结构及电磁阀,能够防止对阀芯造成腐蚀,提升了可靠性。本技术包括塑料隔膜套和阀芯,塑料隔膜套具有隔绝层、波纹管及塞子,隔绝层设有安装孔,塞子设有连接槽,波纹管的第一端与安装孔连接,波纹管的第二端与连接槽连接;阀芯的第一端依次穿过安装孔和波纹管后与连接槽连接。本技术增加塑料隔膜套,可以对阀芯起到隔绝的作用,在应用于电磁阀的过程中,塑料隔膜套具有耐腐蚀性,且塞子能够堵住阀口,可以避免阀芯与液体直接接触,防止阀芯会出现腐蚀的情况,可以有效地提升电磁阀的使用寿命和可靠性,可以防止因无法关紧而出现泄漏的情况。

技术研发人员:何嘉兴,何启彬
受保护的技术使用者:嘉创科技(珠海)有限公司
技术研发日:20230118
技术公布日:2024/1/13
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