大宗特气供应吹扫装置及大宗特气供应系统的制作方法

本技术涉及特气供应，具体是大宗特气供应吹扫装置及大宗特气供应系统。

背景技术：

1、大宗特殊气体供应系统一般由特气存储容器、大宗特气供应柜、特气分歧柜、大宗特气监控系统4个主要功能模块组成，并由气体管道顺次连接，当发生泄露异常事件时，大宗特气监控系统会发生对应报警信息及联动关闭措施，避免特气泄漏至环境中。

2、目前大宗特气的供应一般由容积小的钢瓶(47l)进行供应。例如中国专利cn202211222046.9公开的一种大宗特气用钢瓶泄露的检测装置及其方法，用于检测大宗特气用钢瓶的泄露。

3、但伴随着半导体产技术的不断更新换代，各芯片制造工厂和液晶面板厂的产能也逐渐增大，同时各工厂对特气的需求量亦随之增加，若使用容积小的钢瓶，换瓶频率高，供应稳定性较差。

4、故此亟需开发大宗特气供应吹扫装置及大宗特气供应系统来解决现有技术中的问题。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供大宗特气供应吹扫装置及大宗特气供应系统，便于外接大容量供应设备，以解决上述背景技术中提出的使用容积小的钢瓶时换瓶频率高及供应稳定性较差的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

3、大宗特气供应吹扫装置，包括管路组件，所述管路组件包括吹扫管路、特气管路、排放管路和对接管路，所述吹扫管路的一端分别与所述对接管路一端、所述特气管路的一端和所述排放管路的一端连通，所述吹扫管路的另一端用于与大宗特气供应柜的吹扫系统。

4、进一步，所述吹扫管路上设置有吹扫气体进入阀门。

5、进一步，所述吹扫管路上还设置有单向阀。

6、进一步，所述对接管路的一端与所述特气管路的一端连通，所述对接管路上设置有电子压力表和/或高压压力表。

7、进一步，所述特气管路上设置有高压气体进入阀门和过滤器。

8、进一步，所述排放管路上设置有排放阀门。

9、进一步，所述吹扫气体进入阀门、所述高压气体进入阀门和所述排放阀门都为气动阀。

10、进一步，还包括特气监控系统，所述特气监控系统通过监控管路分别与所述吹扫管路、所述排放管路和所述特气管路连接。

11、大宗特气供应系统，包括所述的大宗特气供应吹扫装置。

12、进一步，还包括鱼雷车，所述对接管路的另一端与所述鱼雷车连接。

13、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：提供了大宗特气供应吹扫装置及大宗特气供应系统，便于大宗特气供应柜与大容量供应设备间的连接，降低了供应设备的更换频率，提高了供应稳定性。且所述吹扫管路的另一端与大宗特气供应柜的吹扫系统连接，使得大宗特气供应吹扫系统pn2对本申请整体管道做吹扫置换，使此段管路没有其他杂质，防止对制程工艺的品质产生影响。

14、进一步，还包括特气监控系统，所述特气监控系统通过监控管路分别与所述吹扫管路、所述排放管路和所述特气管路连接，所述特气监控系统可以监控所述吹扫管路、所述排放管路和所述特气管路。

15、本实用新型的其他特点和优点将会在下面的具体实施方式、附图中详细的揭露。

技术特征：

1.大宗特气供应吹扫装置，其特征在于，包括管路组件，所述管路组件包括吹扫管路、特气管路、排放管路和对接管路，所述吹扫管路的一端分别与所述对接管路一端、所述特气管路的一端和所述排放管路的一端连通，所述吹扫管路的另一端用于与大宗特气供应柜的吹扫系统。

2.根据权利要求1所述的大宗特气供应吹扫装置，其特征在于，所述吹扫管路上设置有吹扫气体进入阀门。

3.根据权利要求2所述的大宗特气供应吹扫装置，其特征在于，所述吹扫管路上还设置有单向阀。

4.根据权利要求2所述的大宗特气供应吹扫装置，其特征在于，所述对接管路的一端与所述特气管路的一端连通，所述对接管路上设置有电子压力表和/或高压压力表。

5.根据权利要求4所述的大宗特气供应吹扫装置，其特征在于，所述特气管路上设置有高压气体进入阀门和过滤器。

6.根据权利要求5所述的大宗特气供应吹扫装置，其特征在于，所述排放管路上设置有排放阀门。

7.根据权利要求6所述的大宗特气供应吹扫装置，其特征在于，所述吹扫气体进入阀门、所述高压气体进入阀门和所述排放阀门都为气动阀。

8.根据权利要求6所述的大宗特气供应吹扫装置，其特征在于，还包括特气监控系统，所述特气监控系统通过监控管路分别与所述吹扫管路、所述排放管路和所述特气管路连接。

9.大宗特气供应系统，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的大宗特气供应吹扫装置。

10.根据权利要求9所述的大宗特气供应系统，其特征在于，还包括鱼雷车，所述鱼雷车与对接管路的另一端连接。

技术总结
大宗特气供应吹扫装置及大宗特气供应系统，涉及特气供应技术领域，包括管路组件，所述管路组件包括吹扫管路、特气管路、排放管路和对接管路，所述吹扫管路的一端分别与所述对接管路一端、所述特气管路的一端和所述排放管路的一端连通，所述吹扫管路的另一端用于与大宗特气供应柜的吹扫系统。本技术提供了大宗特气供应吹扫装置，便于大宗特气供应柜与大容量供应设备间的连接，降低了供应设备的更换频率及提高了供应稳定性。

技术研发人员：剧腾飞
受保护的技术使用者：浙江东开半导体科技有限公司
技术研发日：20230307
技术公布日：2024/1/13