一种用于硅烷沉积设备的气路保护系统的制作方法

本技术属于沉积设备，具体涉及一种用于硅烷沉积设备的气路保护系统。

背景技术：

1、硅烷沉积对设备要求较高，尤其是气氛要求。高温下氧含量超标时，由于沉积后的纳米硅活性较高，易被氧化，导致制备的纳米硅纯度降低，难以作为电极材料来应用。沉积过程中更换气瓶容易引起氧气的渗入，导致氧含量超标，严重的甚至会引发安全事故；设备管路在闲置时，也易发生漏氧，无法保持稳定的工作环境。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺陷与不足，设计的一种用于硅烷沉积设备的气路保护系统，该系统能够避免漏氧发生，保证设备保持稳定的工作环境。

2、为实现上述目的，本实用新型所采用的技术方案是：一种用于硅烷沉积设备的气路保护系统，包括硅烷气体管路和流量计保护管路，所述硅烷气体管路包括主管路，以及并列设置在主管路一端的两路供气支路，所述两路供气支路分别连接第一气源和第二气源，所述主管路上设有质量流量计和多个阀门，所述流量计保护管路一端连接在质量流量计一侧的主管路上，另一端连接第三气源。

3、优选的，所述第一气源、第二气源和第三气源的出口处均设有气源阀门和压力计。

4、优选的，所述压力计连接报警装置。

5、优选的，所述主管路沿连接供气支路的一端向另一端的方向依次设有第一阀门、质量流量计和第二阀门。

6、优选的，所述流量计保护管路连接在第一阀门与质量流量计之间。

7、优选的，所述第一阀门、第二阀门与第三气源出口处的气源阀门之间通过自动控制装置实现开关联动。

8、优选的，所述第一阀门远离质量流量计的一端还设有抽气阀门，所述抽气阀门的出口处连接抽气装置。

9、优选的，所述硅烷气体管路还设有气体检测装置，用于实时检测管道内气体各组分含量。

10、优选的，所述第一气源为硅烷，所述第二气源和第三气源为高纯氮气。

11、采用上述技术方案后，本实用新型提供的一种用于硅烷沉积设备的气路保护系统具有以下有益效果：

12、本实用新型在换气前后，通过外接的抽气装置将气路中的参与气体抽干净，再通入高纯的氮气，如此反复多次，直至将管路内的充满的是高纯氮气，保证其他气体均已排尽，提高设备在工作时的安全性；当质量流量计不在使用状态时，用微正压的高纯氮气填充管路，保护管路不漏氧；如此，可以做到管路中其他气体能够及时排尽，并且闲置状态时不会漏氧，从而起到保护流量计的作用。因此，本实用新型具有设计合理、结构简单、成本较低等优点。

技术特征：

1.一种用于硅烷沉积设备的气路保护系统，其特征在于：包括硅烷气体管路和流量计保护管路，所述硅烷气体管路包括主管路(1)，以及并列设置在主管路(1)一端的两路供气支路，所述两路供气支路分别连接第一气源(2)和第二气源(3)，所述主管路(1)上设有质量流量计(4)和多个阀门，所述流量计保护管路一端连接在质量流量计(4)一侧的主管路(1)上，另一端连接第三气源(5)。

2.根据权利要求1所述的一种用于硅烷沉积设备的气路保护系统，其特征在于：所述第一气源(2)、第二气源(3)和第三气源(5)的出口处均设有气源阀门(6)和压力计(7)。

3.根据权利要求2所述的一种用于硅烷沉积设备的气路保护系统，其特征在于：所述压力计(7)连接报警装置。

4.根据权利要求1所述的一种用于硅烷沉积设备的气路保护系统，其特征在于：所述主管路(1)沿连接供气支路的一端向另一端的方向依次设有第一阀门(8)、质量流量计(4)和第二阀门(9)。

5.根据权利要求4所述的一种用于硅烷沉积设备的气路保护系统，其特征在于：所述流量计保护管路连接在第一阀门(8)与质量流量计(4)之间。

6.根据权利要求4所述的一种用于硅烷沉积设备的气路保护系统，其特征在于：所述第一阀门(8)、第二阀门(9)与第三气源(5)出口处的气源阀门(6)之间通过自动控制装置实现开关联动。

7.根据权利要求4所述的一种用于硅烷沉积设备的气路保护系统，其特征在于：所述第一阀门(8)远离质量流量计(4)的一端还设有抽气阀门(10)，所述抽气阀门(10)的出口处连接抽气装置。

8.根据权利要求1所述的一种用于硅烷沉积设备的气路保护系统，其特征在于：所述硅烷气体管路还设有气体检测装置，用于实时检测管道内气体各组分含量。

9.根据权利要求1所述的一种用于硅烷沉积设备的气路保护系统，其特征在于：所述第一气源(2)为硅烷，所述第二气源(3)和第三气源(5)为高纯氮气。

技术总结
本技术属于沉积设备技术领域，涉及一种用于硅烷沉积设备的气路保护系统，包括硅烷气体管路和流量计保护管路，所述硅烷气体管路包括主管路，以及并列设置在主管路一端的两路供气支路，所述两路供气支路分别连接第一气源和第二气源，所述主管路上设有质量流量计和多个阀门，所述流量计保护管路一端连接在质量流量计一侧的主管路上，另一端连接第三气源，所述第一气源、第二气源和第三气源的出口处均设有气源阀门和压力计。本技术可以保证设备保持稳定的工作环境，避免漏氧的发生，可以做到管路中其他气体能够及时排尽，并且闲置状态时不会漏氧，从而起到保护质量流量计的作用，具有设计合理、结构简单、成本较低等优点。

技术研发人员：沈家奇,林贤清,李嘉诚,王俊华,傅强,吴鑫娣
受保护的技术使用者：常州硅源新能材料有限公司
技术研发日：20230628
技术公布日：2024/1/15