多信道发射磁共振的制作方法

专利名称：多信道发射磁共振的制作方法
技术领域：
本发明涉及磁共振领域。具体而言，本发明与利用横向电磁(TEM) 线圈的磁共振成像结合起来使用，其中盘条(rod)或选定的盘条组作为发 射信道独立工作，下面具体就此进行描述。概括而言，本发明与射频(RF) 发射机结合起来使用，所述射频发射机用于产生磁共振，其包括多个发射 元件(例如，前述的TEM线圈盘条(coilrod)或简并鸟笼型线圈网眼(coil meshes)或表面发射线圈等等)，所述发射元件定义用在磁共振波谱、磁共 振成像等中的至少两个可独立工作的发射信道。
背景技术：
磁共振成像、磁共振波谱等通常在约0.5特斯拉和约7特斯拉之间的静 磁场中执行，其中较高的静磁场是可以预期到的。对于"H质子成像而言， 磁共振频率约为(42.56MHz/特斯拉)xlBcl，在此IBol是静磁场的大小。因此， 例如，'H质子频率在1.5特斯拉时约为64 MHz，在3.0特斯拉时约为128 MHz，在7.0特斯拉时约为298MHz。对象中的磁共振波长的表示方式为 自由空间中的光速除以磁共振频率除以介电常数的平方根。对于较高的磁 共振频率和具有相对较大介电常数的对象(例如人体)，波长变得与对象尺 寸旗鼓相当。通常将发射线圈设计成在无负载状态(unloaded state)下产生基本均匀 的B,场。在较低的磁共振频率下，负载对B,场均匀性的影响通常是有限的。 当磁共振频率的波长接近对象大小时，B,场变得更加不均匀。通常，由对 象引起的B,场的不均匀性对于人体在3特斯拉时的成像很明显，对于头部 在7特斯拉时的成像很明显。在7特斯拉时的头部成像情形下，例如，当 利用在无负载条件下产生基本均匀B,场的射频发射线圈时，翻转角随着切 片(slice)内的两个或多个因数而改变。所提出的用于解决由负载引起的B,不均匀性的一种方法是，利用独立驱动的发射信道阵列，例如独立驱动的TEM线圈盘条或盘条组。在这种方 法中，每一个发射信道由具有独立幅度和相位的射频电力驱动，此时信道 的幅度和相位的选择使得信道协作地组合以在该对象中产生基本均匀的B, 场。虽然该方法可以改善有负载线圈的B,场均匀性，但却会遇到实际困难。 如果"N"个发射信道中的每一个都具有"A"个可选择的幅度(例如，跨 越发射元件可达到的射频电力幅度范围的"A"阶)并具有"P"个可选择 的相位(例如，跨越0°-360°相位范围的"P"阶)，则这N个发射元件的可 能发射配置的总数是(AxPf。例如，如果8个发射信道中的每一个都具有 A-10个幅度设定值和P=36个相位设定值，可能的发射配置数是(10x36)8， 即，约2.8><102()种可能的发射配置。从大量可能的配置中选择适合的发射配 置需要很大的计算量。每一种所要考虑的发射配置的估计都涉及计算B,场， 并评估所计算的B,场的合乎期望的程度。对每一种所要考虑的发射配置都 要执行这些计算量很大的操作。即使是利用高速超级计算机，在成像期间 对102()个这样组合的穷举搜索也是不切实际的。下面讨论如何克服上述限制及其它限制的改进方案。发明内容根据一个方面，公开了一种用于激发磁共振的发射装置。多信道射频 发射机包括多个发射元件，其定义至少两个独立工作的发射信道。发射配 置选择器确定所选择的发射配置，所述发射配置指定为了在与射频发射机 相耦合的对象的对应选择区域中产生B,场而应用于每一个发射信道的幅度 和相位。该发射配置选择器基于该对象的B！映射以及利用至少两个不同B, 场质量测度的B,场质量评估值，确定所选择的发射配置。根据另一个方面，公开了一种磁共振系统。提供了一种如本文开篇所 述的发射装置。提供了一个主磁体，以至少在与射频发射机相耦合的对象 的选择区域中产生静磁场。提供了一个磁场梯度线圈，以对至少在与射频 发射机相耦合的对象的选择区域中的静磁场上叠加所选择的磁场梯度。根据另一个方面，公开了一种发射配置选择器，其用于确定所选择的 发射配置，所选择的发射配置由相应的多信道射频发射机用于在对应的选择区域中产生B,场。相应的多信道射频发射机包括多个发射元件，其定义 至少两个发射信道。该发射配置选择器包括B,场映射确定模块，用于确 定所要考虑的发射配置的至少选择区域的B,场映射；B,场评估模块，用于 基于至少两个不同的质量测度来评估B,场；发射配置确定装置，用于对所 要考虑的不同发射配置应用B,场映射模块和评估模块，以确定所选择的发 射配置。根据另一个方面，公开了一种用于确定所选择的发射配置的方法，所选择的发射配置由多信道射频发射机用于在对应的选择区域中产生B,场。多信道射频发射机包括多个发射元件，其定义至少两个发射信道。对于所要考虑的发射配置，在至少选择区域中确定B,场。基于至少两个不同的质 量测度来评估所确定的Bi场。对不同的所要考虑的发射配置，重复确定和评估步骤，以确定所选择的发射配置。一个优点是，在切片或其它受激发的区域中改善B,场的均匀性。 另一个优点是，横跨切片或横跨其它受激发的区域改善B,场的均匀性。 另一个优点是，降低最大SAR。另一个优点是，在切片或其它受激发的区域内实现更均匀的Bi场范围。 另一个优点是，横跨切片或横跨其它受激发的区域实现更均匀的Bi场 范围。另一个优点是，改善图像质量。通过阅读以下对优选实施例的详细描述，对于本领域普通技术人员而 言，更多其它优点和益处将变得显而易见。


本发明可采用各种部件和部件排列形式，以及，各种过程操作和过程 操作排列形式。附图仅用于说明优选实施例，而不应解释为限制本发明。图1示出了一种举例说明性的磁共振系统，其将8盘条发射/接收(T/R) TEM线圈用作8信道发射机及用作筒式接收机。磁共振扫描仪显示成透明 的剖视图，以便揭示所选择的内部部件。图2示出了发射配置选择器的举例说明性的实施例。图3示出了非穷举搜索器的举例说明性的实施例。
具体实施方式
参见图l，磁共振扫描仪10包括扫描仪外壳12，其包括用于接纳病人 或其它对象的膛部14或其它接纳区域。置于该扫描仪外壳12中的主磁体 20由主磁体控制器22加以控制，以用于在膛部14内的检查区域中产生主 磁场Bo。通常，主磁体20是由低温罩(cryoshrouding) 24围绕的持久超导 磁体，但是，对于较低的B。场强度可使用有抵抗性的或永久的主磁体。磁场梯度线圈28设置在该外壳12中或该外壳12上，以在至少位于检 查区域中的主磁场上叠加所选择的磁场梯度。通常，磁场梯度线圈包括用 于产生三个正交磁场梯度(例如x-梯度、y-梯度和z-梯度)的线圈。TEM 发射/接收(T/R)射频线圈30用于注射B,射频激励脉冲和接收磁共振信号。 举例说明性的线圈30是TEM线圈，包括例如8个盘条32、可选的端盖(end cap) 34和围绕的射频屏蔽罩或隔板36 (如虚线所示)。将该射频线圈30 置于人的头部38附近，人的头部38是相关对象。扫描仪控制器42操控梯度放大器44、多信道射频放大器46和关联的 线圈切换电路48，以在头部对象38中对磁共振进行激发、空间局部化、编 码或其它处理方式。在发射阶段期间，射频放大器46独立驱动被递送至8 盘条TEM线圈30的每一个盘条的射频电力的幅度和相位，以将该TEM线 圈30用作8信道发射机阵列。在其它实施例中，可以将所述8盘条TEM 线圈30用作4信道发射机阵列，其对4个发射信道使用4个交错的盘条， 或将2个盘条用作每一个发射信道的一个发射组。在其它实施例中，TEM 线圈可包括除8个之外的多个盘条，例如10个盘条、12个盘条、16个盘 条等，将其驱动为4信道发射机、5信道发射机、8信道发射机、IO信道发 射机、16信道发射机等。在其它实施例中，可以使用其它发射机阵列，例 如具有定义多个发射信道的去耦网眼(decoupled meshes)的简并 (degenerate)鸟笼型线圈或定义多个独立发射信道的表面发射线圈阵列等。每一个发射信道以输入射频电力的选定幅度和相位独立工作。基于头 部38或其它对象的B,映射58，发射配置选择器54为每一个发射信道选择 用于在选定区域中激发磁共振的幅度和相位。为每一个发射信道选择的幅 度和相位共同定义所选择的发射配置60，该发射配置60在应用到8个盘条32时产生的B,场在头部38或其它对象的对应选择区域上是基本均匀的或 具有其它选定的空间分布。在接收磁共振序列阶段，线圈切换电路48将作为筒式共振器的TEM 头部线圈30连接到射频接收机64，以接收经激发和空间编码的磁共振信号。 根据所实施的磁共振序列的类型，磁场梯度线圈28可在至少一部分接收阶 段期间工作，例如实现磁共振的频率编码或破坏。数据缓冲区66存储所接 收的磁共振信号，通常是在所述磁共振信号被数字化并可选择地经历了其 它信号处理之后。在一些实施例中，在接收磁共振序列的阶段期间，使用 分开的仅能接收的线圈(图中未显示)，而不是对发射和接收阶段都使用相 同的线圈30。为进行成像，重建处理器70对收集的磁共振数据执行重建处理，以便 由此产生重建图像或图。例如，该重建处理器70可利用快速傅里叶变换 (FFT)或其它重建算法来处理空间编码的磁共振数据，以产生对象的空间 图或图像。对于波谱学或其它磁共振应用而言，其它类型的后处理可以和 空间图像或图重建结合起来使用，或者，其它类型的后处理可以取代空间 图像或图重建。图像存储器72存储重建图像或图。用户接口 74将所述重建图像或图 显示给关联用户。在图l所示的举例说明性的实施例中，该用户接口74还 使用户与扫描仪控制器42交互，以控制磁共振扫描仪10。在其它实施例中， 可以提供不同的扫描仪控制接口。在一些实施例中，用户接口74可以是计 算机或其它数字电子设备。可选地，该重建处理器70、存储器66、 72和/ 或其它部件作为软件部件、硬件附加系统等与计算机或数字电子设备相结合。在一些实施例中，部分或所有线圈切换电路48位于TEM线圈30上或 其它射频线圈上。在一些实施例中，该线圈切换电路48可以将射频线圈有 选择性地配置成单筒式接收线圈或配置成接收线圈阵列。例如，TEM线圈 30的每一个盘条或所选择的盘条组在磁共振序列接收阶段可选地用作 SENSE (感应)接收元件。在一些实施例中，可以将线圈30用作具有适合 切换电路的8信道发射机和8信道接收阵列。在一些实施例中，提供不同 的发射和接收线圈或线圈阵列。可以通过各种方式确定B,映射58。在一种方式中，根据利用TEM线 圈30和磁共振扫描仪10获得的对象的B,映射测量值，确定B,映射58。 或者，可以根据为表示对象的幻像获得的幻像磁共振数据80或根据对象模 型(例如头部38的解剖模型82)，确定B,映射58。用于人体解剖的各部 位的合适解剖模型以及Sprague-Dawley鼠、矮羊和猕猴的解剖可以从美国 空军研究实验室(United States Air Force Research Laboratory)获得 (http:〃www.brooks.af.mil/AFRL/HED/hedr， 2005年8月30日最后一次访 问)。本发明人已发现，在头部38的一个选定区域上提供基本均匀的B,场 的发射配置却有可能在另一个选定区域上提供高度不均匀的B,场。例如， 为接近头部38顶部处的轴向切片提供基本均匀B,场的发射配置却有可能 为较靠中心位置的轴向切片提供高度不均匀的B,场。因此，发射配置选择 器54对多个切片、多个邻近切片组或多个其它选择区域重复确定所选择的 发射配置60。在一些实施例中，选择区域对应于获取区域。例如，可以为 每一个获取的轴向切片重新确定所选择的发射配置60。在其它实施例中， 每一个选择区域对应于多个邻近获取区域。例如，可以为顶部切片组、为 一个、两个或更多中间邻近的切片组以及为接近颈部区域的切片组重新确 定所选择的发射配置60。下面结合图2描述发射配置选择器54的合适实施例。该发射配置选择 器54把例如扫描仪控制器42提供的B,映射58和选择区域90作为输入进 行接收。可选地，该发射配置选择器54还接收先前选择的发射配置92 (如 果有的话)，将其用作所要考虑的开始发射配置。或者(即如果没有先前选 择的发射配置的话)，可以将默认发射配置94用作所要考虑的开始发射配 置。例如，默认发射配置可以是已知的用来为典型头部的选择区域90提供 基本均匀B,场的发射配置，或者，可以是己知的用来在TEM线圈30没有 加载时提供基本均匀B,场的发射配置。所要考虑的发射配置96最初是先前选择的发射配置92、默认发射配置 94等等。B,场映射58根据至少在选择区域90内的所要考虑的发射配置的 位置来确定B,场。B,映射58可利用射频线圈30和磁共振扫描仪10直接 测量B,场，或者，也可通过建模或计算来估计B,场。为了进行B,场的建模或计算，使用幻像数据80或解剖模型82 (图1所示)连同射频线圈30 的模型。B,映射58可以是各向同性的，也可以是各向异性的，它可以与成 像分辨率相同，或者，为了加快B,场的计算，它也可以比成像分辨率粗糙。 粗糙的分辨率适用于对B,场进行建模，因为B,场的不均匀图案预期会展现 出很低的空间频率。在一些实施例中，Bi场映射58使用XFDTD全波3D电磁解析器软件 (可从Remcom， State College, PA得到)。每一个盘条32单独产生的电磁场 是根据所要考虑的发射配置给出的该盘条的幅度和相位而计算出来的，而 所有盘条32共同产生的组合电磁场则取决于每一个盘条32单独在对象38 中产生的B,射频场的叠加。为至少在选择区域90中的所有单元或像素计 算出B,+磁共振激励场。所描述的FDTD方式只是举例而已，也可以使用其 它技术来计算B,场或对B,场进行建模。B,场质量评估器102评估为所考虑的发射配置计算出的B,场的质量。 各种测度可用于评估B,场质量。在本文表示为"r"的范围测度由以下方程 式适当给出-(1)其中为选择区域90确定相应的范围"r"。术语"范围"和对应的符号"r" 意在涵盖方程式(1)的明显变型，例如包括线性縮放或标准化、比率倒数 等。在本文表示为"s"的统计偏差测度由应用到选择区域90上的方差、标 准差、均方根(rms)值等适当给出。还可以使用特定吸收率(SAR)测度， 例如局部SAR值(局部筒式单元上的最大SAR，例如10克局部筒式单元 上的平均值)，或头部SAR (头部38中的最大平均SAR)。本发明人己发现，基于单个测度来评估B,场，例如仅基于范围"r"或 仅基于统计偏差"s"，或仅基于局部SAR或仅基于头部SAR，通常无法得 到令人满意的所选择的发射配置。例如，通过单独最小化统计偏差"s"来 选择发射配置可能会横跨包括一个或多个区域在内的选择区域90产生大部 分均匀的Bi场，在此IBi明显偏离平均值IB丄vg，从而导致不期望的大范围 值"r"和高的局部SAR。类似地，选择发射配置以使范围"r"最接近一，而不考虑其它质量测度，则可能产生没有空间位置的B,场，在此B,场变得 非常大或非常小。然而，由于B,场的明显较小的幅度变化量，从而所选择 的B,场可能展示出不期望的大的统计偏差，或者功率需求可能相对会较高 等等。据此，B,场质量评估器102利用至少两个不同的质量测度来评估为所 考虑的发射配置计算出的B,场质量。在一个实施例中，该评估器102利用 范围"r"测度和统计偏差"s"测度一起进行评估，例如通过最小化统计偏 差"s"同时使得范围"r"小于门限值来评估B,场质量s—XT且r<r0，其中r0 =门限值 (2) 也可以使用其它评估方法。例如，在式(2)的评估中，可以用局部或头部 SAR上的门限值替换范围门限标准，得到以下评估s—>0+且SAR<SARq ，其中SARo =门限值 (3 )在此SAR可以指局部SAR、头部SAR或在另一个选定筒上的最大特定吸收率或平均特定吸收率。非穷举搜索器(non-exhaustive searcher) 110对所考虑的不同的发射配 置应用B，场映射58和评估器102，以确定所选择的发射配置60。搜索是 非穷举的。如背景技术中所讨论的那样，对于"N"个发射元件，每一个具 有跨越可达到的射频电力幅度范围的"A"个幅度阶或设定值，以及跨越 0°-360°相位范围的"P"个相位阶或设定值，N个发射元件可能的发射配置 总数为(AxPf。对于N-8、 A=10、 P-36的举例说明性情形，可能的发射配 置总数约为2.8x1020。因为用于计算"r"、 "s"、 "SAR"或其它评估值的图 像大小相当大(例如，在一些实施例中，图像大小为100xl00x切片数)，因 此可能的发射配置数代表了不切实际的穷举搜索。非穷举搜索器110无法执行穷举搜索。该非穷举搜索器110搜索一部 分可能的发射配置，并且对每一个这种所考虑的发射配置96，应用B,场映 射58和评估器102。图3示出了一种适合由非穷举搜索器110执行的可能的非穷举搜索。 对当前发射信道执行单信道幅度搜索步骤112，而不改变其它信道的幅度或 相位。对当前信道考虑"A"个幅度阶，用评估器102评估的所考虑的幅度 设定值或阶，更新当前信道的幅度，以产生最佳或最高质量的B,场。对"N"个信道的每一个，重复单信道幅度搜索/更新步骤U2，以更新每一个信道 的幅度。该过程重复"R"次，从而考虑A^NxR个配置。类似地，对当前发射信道执行单信道相位搜索步骤114，而不改变其它 信道的幅度或相位。对该当前信道考虑"P"个相位阶，用评估器102评估 的所考虑的相位设定值或阶，更新该当前信道的相位，以产生最佳或最高 质量的B,场。对"N"个信道的每一个，重复单信道相位搜索/更新步骤114， 以更新每一个信道的相位。该过程重复"R"次，从而考虑PxNxR个配置。幅度搜索/更新步骤和相位搜索/更新步骤重复"M"次，产生总共 (AxNxR+PxNxR)xM个所考虑的发射配置，或以简化形式表示成 (A+P)xNxRxM个所考虑的发射配置。对于N二8、 A=10、 P-36并且R-50、 M=25的示例性情形，所考虑中的发射配置的总数是460000。需要明白的是，因为单信道搜索器U2、 114分别更新当前信道的幅度 和相位，因此随后考虑的发射配置基于之前考虑的发射配置。本发明人已 发现，对于4信道发射机而言(在此穷举搜索是可行的，但计算量很大)， 根据图3的方法的非穷举搜索快速确定出选择的发射配置，该发射配置与 通过执行所有(10><36)4=1.6><101()次可能的发射配置的穷举搜索而识别出的 最佳发射配置基本一样好。一般情况下，所要考虑的发射配置数量可通过利用先验知识来减少， 从而确保最初所考虑的配置接近满意。例如，利用先前选择的发射配置92， 其通过对已成像的邻近切片进行选择获得， 一般可提供搜索的近开始点。 在这种情形下，可以减少重复因子"R"和"M"。一旦非穷举搜索器110发现该评估器102评估出的发射配置适用于选 择，换算器116可选地按比例调整发射配置的信道幅度，以将平均场IBJ设 定为目标值IB+。合适的縮放因子As由以下方程式给出其中IB"g是由Bi场映射58计算出的Bi场的平均值。被评估为适于选择的 发射配置的每一个发射信道的幅度乘以縮放因子As，以将平均场IB"换算成 目标值IB"T，从而产生所选择的发射配置60。除了图3示出的例子之外，还可以使用其它搜索/更新算法。例如，在另一种可以想象出的方法中，搜索器/更新器110随机修改随机选出的信道 的幅度或相位。例如，随机选出的信道可以使其幅度或相位随机增加1阶或减少1阶。如果随机修改能改进成如B,场质量评估器102所评估的B, 场质量，则保持该随机修改；否则将其丢弃。另外，在这种方法中，随后 的所考虑的发射配置从先前的所考虑的发射配置得出，所以，搜索不是随 机的，而是，搜索由评估器102朝着能更好满足该B场质量评估器102使 用的评估准则的发射配置而进行驱动。在另一种可以想象出的方法中，非穷举搜索器110执行用于对染色体 总数进行运算的遗传算法，每一个染色体代表所考虑的发射配置。染色体 基因对应于每一个信道的幅度和相位一一每一个染色体包括至少2xN个基 因。对于8信道发射机例子而言，16个基因的染色体是适合的。B,场质量 评估器02定义用于确定繁殖下一代的染色体群体的染色体适合度。通过 随机或伪随机改变基因值，后代染色体适当变异以产生新的所考虑的发射 配置，并可选地利用交叉算子或算法，利用合适的操作例如基因拷贝、基 因混合或交换、基因突变等，组合当代的父母染色体，以生成后代染色体。 在一些可以想象出的基于基因算法的方法中，使用用于扩大染色体群体范 围的软重启(soft restart)或其它技术以减少发生过早收敛(premature convergence)的可倉t性。不管使用的特定搜索/更新算法如何，该评估器102使用的评估值应被 选择用以提供基本均匀的B,场或其它期望的B,场分布。然而，该评估值不 应被选择为太苛刻(aggressive)以致所考虑的一部分发射配置中没有任何 一个可能被评估为是令人满意的。例如，利用具有接近一的ro的方程式(2) 进行评估可能是不切实际的，因为可能没有任何一个所考虑的发射配置可 以满足这个苛刻的评估。另一方面，本发明人已发现，设定rQ=2.5可获得 合理的均匀B,场，同时通过非穷举搜索器110搜索的有限数目的所考虑的 发射配置易于满足该条件。对于利用轴向切片作为选择区域并使用端部带盖的头部线圈发射机的 头部成像而言，本发明人已实现了如上所述的发射配置选择，该头部线圈 发射机具有4发射信道、8发射信道或16发射信道。发现结果是，当信道 数从4增加到8时，可获得B!场均匀度的明显改善；然而，进一步增加到16信道却获得较少的改善，而涉及明显较长的搜索时间。上面结合优选实施例描述了本发明。很明显，在阅读和理解了前面的 详细描述之后，本领域普通技术人员可以做出多种修改和变化。本发明应 解释成包括所有的这些修改和变化，因为它们仍落入权利要求或其等同物 的保护范围内。
权利要求
1、一种用于激发磁共振的发射装置，所述发射装置包括多信道射频发射机(30，46)，包括多个发射元件(32)，所述多个发射元件(32)定义至少两个独立工作的发射信道；发射配置选择器(54)，用于确定所选择的发射配置(60)，所选择的发射配置(60)指定为了在与所述射频发射机相耦合的对象(38)的对应选择区域(90)中产生B1场而应用到每一个发射信道的幅度和相位，所述发射配置选择器基于所述对象的B1映射(58)和使用至少两个不同B1场质量测度的B1场质量评估值，来确定所选择的发射配置。
2、 如权利要求l所述的射频线圈，其中，所述至少两个不同的质量测 度至少包括(i) 范围测度，表示在所述选择区域(90)中最大B,场相对于最小 B,场的比率；(ii) 在所述选择区域中所述Bi场的统计偏差测度。
3.如权利要求2所述的射频线圈，其中，所述发射配置选择器(54) 在保持所述范围小于门限值的同时将所述统计偏差最小化。
4、 如权利要求l所述的射频线圈，其中，所述至少两个不同的质量测 度包括以下各项中的至少之一 (i) 局部SAR测度；(ii) 在至少所述选择区域(90)上求平均得出的平均SAR测度。
5、 如权利要求l所述的射频线圈，其中，所述射频发射机(30， 46) 包括TEM线圈(30)，所述发射元件(32)是所述TEM线圈的盘条，每一 个发射信道都包括至少一个盘条。
6、 如权利要求5所述的射频线圈，其中，每一个发射信道正好包括一个盘条(32)。
7、 如权利要求l所述的射频线圈，其中，所述射频发射机(30， 46) 包括由以下各项之一定义的多个线圈阵列元件(i) TEM线圈(30)的盘条(32);(ii) 简并鸟笼型线圈的去耦网眼；或(iii) 表面发射线圈阵列的表面发射线圈，其中，每一个发射信道都包括至少一个线圈阵列元件。
8、 如权利要求7所述的射频线圈，其中，每一个发射信道正好包括一 个线圈阵列元件(32)。
9、 如权利要求1所述的发射装置，其中，所述发射配置选择器(54) 包括B,场质量评估器(102)，其基于所述至少两个不同的质量测度来评估 所述B,映射(58)合乎期望的程度；搜索器(110)，对所要考虑的不同发射配置应用所述B,场映射和评估 器，以确定所选择的发射配置(60)。
10、 如权利要求9所述的发射装置，其中，所述搜索器(110)执行包 括下列步骤的方法对当前发射信道的幅度和相位中的至少之一执行单信道搜索(112， 114)，而不改变其它发射信道的幅度或相位；基于所述单信道搜索，更新所述当前发射信道；对所述至少两个独立工作的发射信道中的每一个，重复所述单信道搜 索和更新。
11、 如权利要求9所述的发射装置，其中，所述搜索器(110)通过改 变先前评估的发射配置的至少一个幅度或相位，根据先前评估的所要考虑 的发射配置，构建每一个所要考虑的发射配置。
12、 如权利要求9所述的发射装置，其中，所述搜索器(110)是用先 前选择的发射配置(92)启动的，所述先前选择的发射配置(92)是先前 为与所述选择区域(90)邻近的区域而选择出来的。
13、 如权利要求9所述的发射装置，其中，所述搜索器(110)针对染 色体的进化种群执行遗传算法，其中每一个染色体都代表一个所要考虑的 发射配置。
14、 如权利要求1所述的发射装置，其中，通过处理从所述对象(38) 获取的B,场映射磁共振测量值，确定所述B,映射(58)。
15、 如权利要求1所述的发射装置，其中，通过以下两项之一确定所 述B映射(58):(i) 从代表所述对象(38)的幻像中获取的幻像磁共振数据(80)，(ii) 所述对象(38)的模型(82)。
16、 一种磁共振系统，包括 如权利要求l所述的发射装置；主磁体(20)，用于至少在与所述射频发射机(30， 46)相耦合的对象 (38)的选择区域(90)中产生静磁场；磁场梯度线圈(28)，用于将所选择的磁场梯度叠加到至少在与所述射 频发射机相耦合的对象的所述选择区域中的静磁场上。
17、 如权利要求16所述的磁共振系统，还包括 线圈切换电路(48)，其在以下各项之间切换所述射频发射机(30， 46):(i) 发射配置，其中多个发射元件(32)定义至少两个独立工作的发 射信道，(ii) 接收配置，其中所述多个发射元件定义筒式共振器和接收信道阵 列中的之一。
18、 如权利要求16所述的磁共振系统，还包括扫描仪控制器(42)，其通过获取多个邻近获取区域的磁共振数据，对 与所述射频发射机(30， 46)相耦合的所述对象(38)执行磁共振扫描， 所述多个邻近获取区域横跨所述对象(38)的至少两个不同的选择区域 (90)，所述发射配置选择器(54)为所述对象的每一个不同的选择区域(90) 重新确定所选择的发射配置(60)。
19、 如权利要求18所述的磁共振系统，其中，所述选择区域(90)和 所述获取区域相同。
20、 如权利要求18所述的磁共振系统，其中，每一个选择区域(90) 包括所述多个邻近获取区域中邻近的两个或多个获取区域。
21、 一种发射配置选择器(54)，用于确定所选择的发射配置(60)， 所选择的发射配置(60)由相应的多信道射频发射机(30， 46)用于在对 应的选择区域(90)中产生Bi场，所述相应的多信道射频发射机包括多个 发射元件(32)，所述多个发射元件(32)定义至少两个发射信道，所述发 射配置选择器包括B,映射模块(58)，用于确定所要考虑的发射配置的至少所述选择区域 的B,场映射；B,场评估模块(102)，基于至少两个不同的质量测度来评估所述B,场； 发射配置确定模块(110)，用于对所要考虑的不同发射配置应用所述 B,映射模块(58)和评估模块(102),以确定所选择的发射配置。
22、 一种用于确定所选择的发射配置(60)的方法，所选择的发射配 置(60)由多信道射频发射机(30， 46)用于在对应的选择区域(90)中 产生B,场，所述多信道射频发射机包括用于定义至少两个发射信道的多个 发射元件(32)，所述方法包括确定所要考虑的发射配置的至少所述选择区域中的B,场；基于至少两个不同的质量测度，评估所确定的B,场；对所要考虑的不同发射配置，重复所述确定和评估，以确定所选择的 发射配置(60)。
全文摘要
在一种发射装置中，多信道射频发射机(30，46)包括定义至少两个独立工作的发射信道的多个发射元件(32)。发射配置选择器(54)确定所选择的发射配置(60)，所选择的发射配置(60)指定为了在与射频发射机相耦合的对象(38)的对应选择区域(90)中产生B₁场而应用到每一个发射信道的幅度和相位。发射配置选择器基于该对象的B₁映射(58)和使用至少两个不同的B₁场质量测度的B₁场质量评估，来确定所选择的发射配置。
文档编号G01R33/32GK101283286SQ200680037023
公开日2008年10月8日 申请日期2006年9月14日 优先权日2005年10月7日
发明者G·D·德梅斯特, M·A·莫里希, Z·翟 申请人:皇家飞利浦电子股份有限公司