专利名称：一种实时监测反应室漏气的方法
技术领域：
本发明涉及监测反应室漏气的方法，尤其涉及一种实时监测反应室漏 气的方法。
背景技术：
如图l所示，目前反应室采用蚀刻终点侦测光谱仪，其只能侦测405nm 和520nm波长的光谱。而且，反应室监测漏气速率(Leakrate)只在日常 测机和机台保养后测机才进行，无法对其进行实时监测。在生产时，反应 室如果有漏气，则会对产品的品质带来一定的影响，如不能及时发现，将 会影响较多的产 品品 质。
发明内容
本发明的目的在于实现实时监测反应室是否有漏气。
本发明提供了一种实时监测应室漏气的方法，该方法使用全波长光谱 仪来实时监测反应室漏气的状况。
上述反应室是蚀刻反应室，反应室与外界空气隔绝，形成封闭的真空 环境。
上述反应室可以是LAM-RAINBOW 4428XL反应室。
上述全波长光谱仪监测到CN光谱，也就是387nm波长的光谱，则确
定上述反应室漏气。
上述CN是漏入反应室的氮气(N2)与反应室中的碳(C)在等离子 体作用下的反应生成物。
上述全波长光谱仪在蚀刻过程中实时监测反应室是否漏气。通过实时监测反应室是否漏气，从而可监测处理过程的稳定性，降低 甚至避免产品异常风险，提高产
图1表示公知的反应室所采用的光谱测量示意图2表示本发明的最佳实施例的采用全波长光谱仪进行光谱测量的示 意图3表示本发明的最佳实施例的各部件连接示意图。
具体实施例方式
下面结合附图和具体实施方式
，对本发明所述的一种实时监测反应室 漏气的方法作进一步的详细说明。
本发明的一个实施例是将全波长光谱仪用于监测反应室漏气情况的 方法，该反应室可以是蚀刻反应室，其与外界空气隔绝，形成封闭的真空 环境，例如LAM-RAINBOW4428XL反应室。LAM-RAINBOW 4428XL反
应室(即蚀刻反应室)是等离子体模式，全波长光谱仪是用来侦测蚀刻终 点的仪器。如图2所示，全波长光谱仪与反应室之间通过缆线相连。如果 有空气从外界漏入该反应室，则便会有氮气进入反应室中，氮气会与反应 室中的碳(C)反应生成CN。
上述CN光谱的波长为387nm。 一旦反应室漏气，全波长光谱仪就能侦 测到387nm波长的光谱，从而在整个蚀刻过程中连续实时监测蚀刻反应室 是否漏气。
如图3所示，反应室在工作前由操作员键入线条，侦测是否漏气的线 条(g卩387nm波长的光谱)就可以同侦测蚀刻终点的线条一起键入，如果 反应室漏气，387nm波长的光谱就会在机台侦测的电脑屏幕上显示出信号 线条。
本发明所述的方法可以用于监测任何真空反应室的漏气情况。 以上所述仅为本发明的较佳实施例，并非用来限定本发明的实施范围；如果不脱离本发明的精神和范围，对本发明进行修改或者等同替换的， 均应涵盖在本发明的权利要求的保护范围当中。
权利要求
1.一种监测反应室漏气的方法，其特征在于反应室通过缆线连接全波长光谱仪，利用上述全波长光谱仪侦测上述反应室的光波信号，根据光波信号确定反应室是否漏气。
2. 根据权利要求1所述的一种监测反应室漏气的方法，其特征在于上 述反应室是蚀刻反应室，反应室与外界空气隔绝，形成封闭的真空环境。
3. 根据权利要求2所述的一种监测反应室漏气的方法，其特征在于上 述反应室为LAM-RAINBOW 4428XL反应室。
4. 根据权利要求1所述的一种监测反应室漏气的方法，其特征在于如 果上述全波长光谱仪监测到CN光谱，也就是387nm波长的光谱，则确定上述反应室漏气。
5. 根据权利要求4所述的一种监测反应室漏气的方法，其特征在于上 述CN是漏入反应室的氮气(N2)与反应室中的碳(C)在等离子体作用 下的反应生成物。
6. 根据权利要求5所述的一种监测反应室漏气的方法，其特征在于上 述全波长光谱仪在蚀刻过程中实时监测反应室是否漏气。
全文摘要
本发明提供了一种实时监测反应室漏气的方法，该方法使用全波长光谱仪来实时监测反应室漏气的状况。使用全波长光谱仪后，如反应室有漏气，全波长光谱仪就能侦测到387nm波长的CN光谱(CN是漏入反应室的N2和反应室中C的反应生成物)。通过对反应室光波信号的侦测，就能实时监测到反应室是否有漏气。通过实时监测反应室是否漏气，从而可监测处理过程的稳定性，降低甚至避免产品异常风险，提高产品品质。
文档编号G01M3/02GK101592543SQ200810097800
公开日2009年12月2日 申请日期2008年5月29日 优先权日2008年5月29日
发明者段曦明, 黄海栋 申请人:和舰科技(苏州)有限公司