基于光学倍程法的二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统的制作方法与工艺

本发明涉及一种基于光学倍程法的二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统，特别涉及一种用于光刻机工件台位移测量的二自由度外差光栅干涉仪测量系统。

背景技术：
光栅测量系统作为一种典型的位移传感器广泛应用于众多机电设备。光栅测量系统的测量原理主要基于莫尔条纹原理和衍射干涉原理。基于莫尔条纹原理的光栅测量系统作为一种发展成熟的位移传感器以其测距长、成本低、易于装调等众多优点成为众多机电设备位移测量的首选，但精度通常在微米量级，常见于一般工业应用。半导体制造装备中的光刻机是半导体芯片制作中的关键设备。超精密工件台是光刻机的核心子系统，用于承载掩模板和硅片完成高速超精密步进扫描运动。超精密工件台以其高速、高加速、大行程、超精密、多自由度等运动特点成为超精密运动系统中最具代表性的一类系统。为实现上述运动，超精密工件台通常采用双频激光干涉仪测量系统测量超精密工件台多自由度位移。然而随着测量精度、测量距离、测量速度等运动指标的不断提高，双频激光干涉仪以环境敏感性、测量速度难以提高、占用空间大、价格昂贵、测量目标工件台动态特性差等存在的一系列问题，从而难以满足更高的测量需求。针对上述问题，世界上超精密测量领域的各大公司及研究机构展开了一系列的研究，研究主要集中于基于衍射干涉原理的光栅测量系统，研究成果在诸多专利论文中均有揭露。美国专利文献US7,102,729B2(公开日2005年8月4日)、US7,483,120B2(公开日2007年11月15日)、US7,,940,392B2(公开日2009年12月24日)、公开号US2010/0321665A1(公开日2010年12月23日)公开了一种应用于光刻机超精密工件台的平面光栅测量系统及布置方案，该测量系统主要利用一维或二维的平面光栅配合读数头测量工件台水平大行程位移，垂直方向位移测量采用电涡流或干涉仪等传感器，但多种传感器的应用限制工件台测量精度。美国专利文献US7,864,336B2(公开日2011年1月4日)公开了一种应用于光刻机超精密工件台的光栅干涉仪测量系统，该系统利用两个读数头的Littrow条件光栅反射实现位移测量，但需要的元器件多，体积大，并且由于通过两个读数头的结果进行解算，限制了测量精度。美国专利文献公开号US2011/0255096A1(公开日2011年10月20日)公开了一种应用于光刻机超精密工件台的光栅测量系统，该测量系统亦采用一维或二维光栅配合特定的读数头实现位移测量，可同时进行水平向和垂向位移测量，但结构复杂；美国专利文献公开号US2011/0096334A1(公开日2011年4月28日)公开了一种外差干涉仪，该干涉仪中采用光栅作为目标镜，但该干涉仪仅能实现一维测量。日本学者GAOWEI在研究论文“Designandconstructionofatwo-degree-of-freedomlinearencoderfornanometricmeasurementofstagepositionandstraightness.PrecisionEngineering34(2010)145-155”中提出了一种利用衍射干涉原理的单频二维光栅测量系统，该光栅测量系统可同时实现水平和垂直向的位移测量，但由于采用单频激光，测量信号易受干扰，精度难以保证。中国专利文献申请号201210449244.9(申请日2012年11月09日)及201210448734.7(申请日2012年11月09日)分别公开了一种外差光栅干涉仪测量系统，两种干涉仪测量系统中的读数头结构中均采用了四分之一波片用于改变光束的偏振态，光学结构复杂，同时光学元件的非理想性将导致测量误差。另外，中国专利文献公开号CN103307986A(公开日2013年09月18日)及CN103322927A(公开日2013年09月18日)分别公开了一种外差光栅干涉仪测量系统，两种干涉仪测量系统中的读数头结构中均采用了光学二细分的光路设计，导致分辨率低的不足。

技术实现要素：
考虑到上述技术方案的局限，本发明的目的是寻求一种利用光学拍频原理,并能实现光学倍程的外差光栅干涉仪测量系统；能够实现二个线性自由度位移的同时测量，且系统测量光路短、环境敏感性低、测量信号易于处理；同时该光栅干涉仪测量系统还要具有结构简洁、体积小、质量轻、易于安装、方便应用等优点。采用该测量系统作为超精密工件台位移测量装置，能够有效的降低激光干涉仪测量系统在超精密工件台应用中的不足，使光刻机超精密工件台性能提升。该二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统还可应用于精密机床、三坐标测量机、半导体检测设备等的工件台多自由度位移的精密测量。本发明的技术方案如下：基于光学倍程法的二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统，包括双频激光器、光栅干涉仪、测量光栅和光电转换单元；光栅干涉仪包括偏振分光棱镜、参考光栅、第一折光元件和第二折光元件，所述的第一折光元件由两个并行放置的直角透射棱镜组成并置于偏振分光棱镜和参考光栅之间，其特征在于：第二折光元件采用两个对称放置的折光元件，并置于偏振分光棱镜和测量光栅之间，利用该折光元件完成二次衍射并实现光学倍程；双频激光器出射双频正交偏振激光经光纤耦合入射至偏振分光棱镜后分为反射光和透射光；所述反射光入射至参考光栅后产生两束衍射反射参考光，两束参考光分别经第一折光元件的两个直角透射棱镜后偏转形成两束平行参考光，两束平行参考光回射至偏振分光棱镜后形成两束反射参考光；所述透射光入射至测量光栅后第一次打在测量光栅上，产生两束衍射反射测量光，两束衍射反射测量光分别经第二折光元件反射后形成与衍射反射测量光平行的出射光，两束出射光第二次回射至测量光栅后衍射反射形成两束平行测量光，两束平行测量光回射至偏振分光棱镜后形成两束透射测量光；两束反射参考光中的一束与两束透射测量光中的一束重合形成一路测量光信号，两束反射参考光中的另一路与两束透射测量光中的另一束重合形成另一路测量光信号，两路测量光信号分别经光纤传输至光电转换单元，在其中形成两路测量电信号并进行处理；双频激光器同时也输出一束参考电信号至测量光电转换单元；当测量光栅相对于光栅干涉仪做水平方向和垂直方向两个自由度的线性运动时，光电转换单元将输出二自由度线性位移。上述技术方案中，所述的第二折光元件由两个直角反射棱镜组成，光线通过其直角边反射实现折光。或所述的第二折光元件由两个后向反射棱镜组成，光线通过其内部三个反射面的反射实现折光。本发明所提供的基于光学倍程法的二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统具有以下优点及突出性效果：该测量系统采用二次衍射原理实现光学倍程，分辨率与精度可达亚纳米甚至更高，且能够实现二个线性自由度位移的同时测量；该测量系统测量光路短、环境敏感性低、测量信号易于处理，同时还具有结构简洁、体积小、质量轻、易于安装、方便应用等优点。应用于光刻机超精密工件台的位移测量，对比激光干涉仪测量系统，在满足测量需求的基础上，可有效的降低工件台体积、质量，大大提高工件台的动态性能，使工件台整体性能综合提高。该二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统还可应用于精密机床、三坐标测量机、半导体检测设备等的工件台多自由度位移的精密测量中。附图说明图1为本发明的一种外差光栅干涉仪位移测量系统示意图。图2为本发明第一种光栅干涉仪内部结构示意图。图3为本发明第二种光栅干涉仪内部结构示意图。图中，1—双频激光器，2—光栅干涉仪，3—测量光栅，4—光电转换单元；21—偏振分光棱镜，22—参考光栅，23—直角透射棱镜，24a—直角反射棱镜，24b—后向反射棱镜。具体实施方式下面结合附图对本发明的结构、原理和具体实施方式作进一步地详细描述。请参考图1，图1为本发明的一种外差光栅干涉仪位移测量系统示意图。如图1所示，该二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统包括双频激光器1、光栅干涉仪2、测量光栅3、光电转换单元4，测量光栅3为一维反射型光栅。请参考图2，图2为本发明第一种光栅干涉仪内部结构示意图。所述的光栅干涉仪2包括偏振分光棱镜21、参考光栅22、第一折光元件、第二折光元件，参考光栅22为一维反射型光栅，第一折光元件由两个并行放置的直角透射棱镜23组成，第二折光元件由两个对称放置的直角反射棱镜24a组成。结合图1、图2阐述测量系统原理，所述的双频激光器1出射双频正交偏振激光经光纤耦合入射至偏振分光棱镜21后分光，反射光为参考光，透射光为测量光。所述参考光入射至参考光栅22后形成两束衍射反射参考光，两束衍射反射参考光分别经两个直角透射棱镜23后偏转形成两束平行参考光，两束平行参考光回射至偏振分光棱镜21后形成两束反射参考光。所述透射光入射至测量光栅3后第一次打在测量光栅3上，产生两束衍射反射测量光，两束衍射反射测量光分别经第二折光元件反射后形成与衍射反射测量光平行的出射光，两束出射光第二次回射至测量光栅3后衍射反射形成两束平行测量光，两束平行测量光回射至偏振分光棱镜21后形成两束透射测量光。两束反射参考光中的一束与两束透射测量光中的一束重合形成一路测量光信号，两束反射参考光中的另一路与两束透射测量光中的另一束重合形成另一路测量光信号，两路测量光信号分别经光纤传输至光电转换单元4，在其中形成两路测量电信号并进行处理。双频激光器1同时也输出一束参考电信号至光电转换单元4；当测量光栅3相对于光栅干涉仪2做水平向和垂向(其中垂向运动为微小运动，运动范围为1mm)两个自由度的线性运动时，光电转换单元4将输出二自由度线性位移。二自由度运动位移的表达式为x＝kx×(α-β)、z＝kz×(α+β)，kx＝Λ/8π，kz＝λ/8(1+cosθ),式中α、β为光电转换单元4的读数值，Λ为光栅常数，λ为激光波长，θ为光栅衍射角，取Λ＝1μm，λ＝632.8nm，α、β的相位分辨率为2π/1024，外差光栅干涉仪的x、z的测量分辨率分别为0.25nm、0.09nm。请参考图3，图3为本发明第二种光栅干涉仪内部结构示意图。如图3所示，光栅干涉仪内部结构中的第二折光元件由两个对称放置的后向反射棱镜24b实现光束偏转，对比直角反射棱镜24a，采用后向反射棱镜24b，对入射角度不敏感，且结构小，可使干涉仪结构更加紧凑、简洁、便于安装。上述实施方式中给出的测量系统及结构方案采用二次衍射原理实现光学倍程，分辨率与精度可达亚纳米甚至更高；该系统能够实现二个线性自由度位移的同时测量，且系统测量光路短、环境敏感性低、测量信号易于处理，同时该光栅干涉仪测量系统还具有结构简洁、体积小、质量轻、易于安装、方便应用等优点。应用于光刻机超精密工件台的位移测量，对比激光干涉仪测量系统，在满足测量需求的基础上，可有效的降低工件台体积、质量，大大提高工件台的动态性能，使工件台整体性能综合提高。该三自由度外差光栅干涉仪位移测量系统还可应用于精密机床、三坐标测量机、半导体检测设备等的工件台多自由度位移的精密测量中。