本发明涉及光学测量系统。特别地，本发明涉及一种用于光学测量的光谱仪，包括法布里-珀罗干涉仪和探测器。本发明还涉及一种用于分析对象的光谱的方法。本发明还涉及一种计算机可读介质，在其上存储有一组计算机可执行的指令。
背景技术：
光学测量系统例如用于分析目标的特性或材料含量。对象(例如气体或气体混合物)的光谱可以通过使用包括法布里-珀罗干涉仪和用于监测通过法布里-珀罗干涉仪透射的光的强度的探测器的光谱仪来测量。使用微机械技术来生产法布里-珀罗干涉仪是很常见的。
法布里-珀罗干涉仪是基于两个反射镜，即输入反射镜和布置成面向输入反射镜并与输入反射镜具有间隙的输出反射镜。在该文献中，“反射镜”是其中存在反射光的一层或一组层的结构。可以通过调整反射镜之间的距离来控制通带波长，即通过调整间隙的宽度来控制通带波长。法布里-珀罗干涉仪可以提供窄的透射峰，该透射峰具有可调节的光谱位置，并且可用于光谱分析。光谱仪可以提供指示反射镜间隙的控制信号。该控制信号例如可通过控制单元来提供，并且可以根据该控制信号来控制反射镜间隙。备选地，可以通过监测反射镜间隙来提供控制信号，例如，通过使用电容式传感器来监测反射镜间隙。控制信号可以是例如数字控制信号或模拟控制信号。每个光谱位置均可以与控制信号相关联。
透射峰的每个光谱位置与对应于所述光谱位置的控制信号值之间的关系可以取决于例如法布里-珀罗干涉仪的工作温度。由于环境温度的变化通常影响干涉仪的工作温度，在干涉仪的波长响应中会发生温度漂移。干涉仪间隙的宽度例如可能会变化1[nm/℃]。反而，一些技术测量中的最大公差值仅允许间隙宽度的变化小于0.05[nm/℃]。
文献us5818586描述了用于气体浓度测量的小型化光谱仪，该光谱仪包括用于将电磁辐射导入待测气体的辐射源、用于检测穿过气体透射的或从气体发射的辐射的探测器、在探测器之前放置在辐射路径中的电调谐的法布里-珀罗干涉仪、用于控制辐射源的控制电子电路、该干涉仪以及该探测器。辐射源、探测器、干涉仪和控制电子器件以小型化方式集成到常见的平面基板上，并且辐射源是可电调制的微机械制造的热辐射发射器。
文献us2013/0329232a1还公开了用微机械(mems)技术制造的可控的法布里-珀罗干涉仪。根据本发明，干涉仪装置在同一基板上具有电调谐的干涉仪和参考干涉仪。用参考干涉仪测量温度漂移，并且该信息用于使用可调谐干涉仪对测量进行补偿。
技术实现要素：
本发明的某些实施例的目的是提供一种光学测量系统。特别地，某些实施例的目的是提供一种光学测量系统，该光学测量系统包括法布里-珀罗干涉仪和探测器。本发明的某些实施例的另一个目的是提供一种用于分析对象的光谱的方法。本发明的某些实施例的目的还在于提供一种计算机可读介质，在其上存储有一组计算机可执行的指令。
这些和其它目的通过如下面描述和要求保护的本发明的实施例来实现。根据本发明的一方面，提供了一种光学测量系统，包括：
-电调谐的珀耳帖元件，
-探测器，其用于探测来自在测量区域中的辐射源的辐射，所述探测器与珀耳帖元件热连接，
-电调谐的法布里-珀罗干涉仪，其设置在探测器之前辐射路径中，法布里-珀罗干涉仪与珀耳帖元件热连接，以及
-控制电子电路，其配置成控制该珀耳帖元件、该干涉仪以及该探测器。
根据实施例，珀耳帖元件配置成为控制该干涉仪的温度。根据实施例，珀耳帖元件还配置成控制干涉仪的温度，以使温度基本上保持恒定。根据另一实施例，珀耳帖元件配置成为控制探测器的温度。
在实施例中，珀耳帖元件、探测器和干涉仪布置在位于壳体中的腔体内或位于封装结构中的腔体内。在另一个实施例中，珀耳帖元件构造成为控制腔体中的温度。根据实施例，珀耳帖元件还配置成控制腔体中的温度，以使温度基本上保持恒定。珀耳帖元件附接到可移除地连接到壳体上的框架上。壳体包括散热片以增加壳体的表面积用于获得最佳的热传递。
在一实施例中，该系统包括至少一个电路板。
在另一实施例中，该系统包括一个或多于一个热敏电阻。
根据另一方面，本发明的实施例的目的还可以通过用于分析对象的光谱的方法来实现，该方法包括：
-将电调谐的法布里-珀罗干涉仪放置在由测量区域中的辐射源发射的辐射路径中，
-通过探测器对辐射进行探测，
-对与探测器和/或干涉仪热连接的电调谐的珀耳帖元件进行控制。
根据实施例，环境温度变化对干涉仪机械尺寸的影响基本上通过珀耳帖元件来补偿。
根据另一实施例，将珀耳帖元件控制成使得探测器或干涉仪的温度基本保持恒定。
在一实施例中，该系统包括滤波器，其配置成以使波长的带宽可以通过滤波器。在另一实施例中，波长的带宽是法布里-珀罗干涉仪的波长的主带宽。通常，波长的带宽在λ＝1[μm]和λ＝2[μm]之间、λ＝1[μm]和λ＝5[μm]之间或λ＝1[μm]和λ＝10[μm]之间的波长范围内。
另外，根据另一方面，本发明的实施例的目的也可以通过计算机可读介质来实现，在计算机可读介质上存储有一组计算机可执行的指令，该指令能使得处理器与根据权利要求1至15中的任一项所述的光学测量系统连接，以分析测量区域中的辐射源的特性或材料含量。
通过本发明的实施例获得了相当多的效果。本发明的实施例提供了一种光学测量系统。特别地，某些实施例提供了光学测量系统，其包括法布里-珀罗干涉仪和探测器。某些实施例提供了用于分析对象(例如气体或气体混合物或液体)的光谱的方法。另外，某些实施例提供了一种计算机可读介质，在其上存储有一组计算机可执行的指令。
根据本发明的实施例，由于可以通过珀耳帖元件在很大程度上补偿环境温度对法布里-珀罗干涉仪和/或探测器尺寸的影响，可以实现较高的温度稳定性。通过本发明的实施例在光学测量系统的操作期间，可以实现间隙宽度的变化小于0.05[nm/℃]。同时，操作温度范围(即环境的温度范围)可以根据具体实施方式在-10[℃]和+70[℃]之间，即干涉仪和/或探测器的温度可以在所述操作范围内基本上保持恒定。根据某些其他实施例，操作温度范围例如可以在+10[℃]和+30[℃]之间、或者在-20[℃]和+40[℃]之间。根据某一实施例，在约65℃至70℃之间的范围内的环境温度可以通过珀耳帖元件来补偿。在这种情况下，珀耳帖元件的温度可以为40[℃]±0.05[℃]。光学测量系统的功率通常小于1[w]，即根据本发明的具体实施例的系统的功率消耗与在65[℃]和+70[℃]之间的温度范围内工作的现有光谱仪相比是低的。此外，根据某些实施例的壳体和框架的结构，即壳体的散热片和/或楔形部分以及形成框架的匹配的楔形部分高度支持热交换。令人惊讶的是，位于珀耳帖元件和法布里-珀罗干涉仪之间的探测器的测量在干涉仪的温度控制期间不受影响。通过测量环境的温度和设备的波长校准，该系统可以在多个温度范围内进行调整。温度范围可以自动变化，并且热运行可以得以改进。
本发明的实施例提供了简单且紧凑的结构。不需要额外的参考干涉仪，从而降低成本和生产时间，并避免由两个干涉仪的校准引起的问题。可以提高测量的精度和稳定性，并且对于包装的要求更为轻便。
附图说明
为了更全面地了解本发明的具体实施例及其优点，现在参考结合附图进行以下描述。在这些附图中：
图1示出了根据本发明的第一实施例的光学测量系统的框架的示意图，
图2示出了根据本发明的第二实施例的光学测量系统的框架的一部分的示意性立体图，
图3示出了根据本发明第三实施例的光学测量系统的框架的第二横向元件的示意性立体图，
图4示出了根据本发明的第四实施例的插入到光学测量系统的框架中的插头的示意性立体图，
图5示出了根据本发明的第五实施例的包括光学测量系统的球面透镜的插头的示意性横截面图，
图6示出了根据本发明的第六实施例的待插入到光学测量系统的框架的封装结构的示意性侧视图，该封装结构包括法布里-珀罗干涉仪、探测器和珀耳帖元件，
图7示出了根据本发明第七实施例的光学测量系统的壳体的一部分的示意性俯视图，
图8示出了根据本发明第八实施例的光学测量系统的壳体的一部分的示意性立体图，
图9示出了根据本发明第九实施例的光学测量系统的一部分的示意性主视图，
图10示出了根据本发明第十实施例的光学测量系统的示意性主视图，
图11示出了根据本发明第十一实施例的光学测量系统的示意性立体图，
图12示出了根据本发明第十二实施例的光学测量系统的示意图，以及
图13示出了根据本发明第十三实施例的用于分析对象的光谱的方法的流程图。
具体实施方式
在图1中示出了根据本发明的第一实施例的光学测量系统1的框架3的示意图。框架3包括第一纵向元件8和第二纵向元件9，第二纵向元件9通过第一横向元件4与第一纵向元件8间隔。在第一横向元件4的第一侧5上固定地连接有电调谐的珀耳帖元件11。电线18从珀耳帖元件11通过第一横向元件4引导到位于第一横向元件4的第二侧6上的电路板17。通过珀耳帖元件11，可以根据电流的方向将热量从第一横向4元件的一侧传递到另一侧，同时消耗电能。珀耳帖元件11可以用作加热或冷却的温度控制器。
用于探测来自测量区域25中的辐射源24的辐射的探测器23固定地附接到珀耳帖元件11上。此外，电调谐的法布里-珀罗干涉仪10放置在探测器23之前的辐射路径中。根据某些实施例，法布里-珀罗干涉仪10、探测器23和珀耳帖元件11可以布置在图1中未示出的封装结构36中。
此外，第二横向元件7通过螺钉和/或粘合剂14附接到框架3的第一纵向元件8和第二纵向元件9上。盖板24另外附接到第一和第二纵向元件8、9以及第一横向元件4上。第一纵向元件8、第二纵向元件9、第一横向元件4和盖板24可以例如由固体金属块铣削而成。
第一纵向元件8、第二纵向元件9、第一横向元件4、第二横向元件7以及盖板24形成具有向一侧敞开的腔体12的框架3。框架3构造成插入到测量系统1的壳体2中，该壳体2在图1中未示出。将包括通道15的插头20插入到第二横向元件7中以提供用于从腔体3外部到腔体3内的辐射的通道15。换句话说，产生了预定的辐射路径16。在通道15中布置有透镜22。
珀耳帖元件11、探测器23和干涉仪10布置在框架3的腔体12中。根据这些实施例，珀耳帖元件11构造成为控制干涉仪10的温度。根据某些实施例，珀耳帖元件11构造成控制探测器23的温度。根据其它某些实施例，珀耳帖元件11构造成控制腔体12中的温度。在这种情况下，珀耳帖元件11例如构造成为控制腔体12中的温度，以使温度基本保持恒定。
在图2中示出了根据本发明第二实施例的光学测量系统1的框架3的一部分的示意性立体图。在该图中未示出连接到第一纵向元件8和第二纵向元件9的第二横向元件7。第二横向元件7可以例如通过粘合剂附接到第一纵向元件8和第二纵向元件9上。根据某些实施例，还可以通过钻孔29中的螺钉将第二横向元件7附接到第一纵向元件8和第二纵向元件9上。根据某些其他实施例，第二横向元件7可以通过焊接(例如通过激光焊接)而附接到第一和第二纵向元件上。将第二横向元件附接到第一纵向元件8和第二纵向元件9上导致形成了腔体12。框架3的部分还包括穿过第一横向元件4的开口30，用于引导法布里-珀罗干涉仪10、探测器23和珀耳帖元件11的电线18从第一横向元件4的第一侧5到第一横向元件4的第二侧6。第一纵向元件8和第二纵向元件9还包括楔形部分40，用于使框架3的热传递接触表面的面积最大化。
在图3中示出了根据本发明第三实施例的光学测量系统1的框架3的第二横向元件7的示意性立体图。第二横向元件7包括用于插入插头20的开口31。第二横向元件7构造成为通过粘合剂和螺钉附接到第一纵向元件8和第二纵向元件9上。
在图4中示出了根据本发明第四实施例插入光学测量系统1的框架3中的插头20的示意性立体图。插头20包括插入第二横向元件7的通道15。插头20提供了用于从腔体3外部到腔体3内部的辐射的通道15。在通道15中布置有透镜22。插头20还包括用于附接光纤的螺纹21，该光纤被引导到测量区域26中的辐射源25。
在图5中示出了根据本发明的第五实施例包括光学测量系统1的球面透镜22的插头20的示意性横截面图。插头20在插入第二横向元件7的一侧包括凹槽39。在辐射路径16中布置透镜22。透镜22可以是例如球面透镜、椭圆形透镜或具有任何其它合适透镜形式的透镜。
在图6中示出了根据本发明的第六实施例的插入光学测量系统1中的框架3的封装结构36的示意性侧视图，该封装结构包括法布里-珀罗干涉仪10、探测器23和单相珀耳帖元件11。
辐射可以通过孔32进入所示的气密密封的封装结构36中，该孔32中布置有滤波器33。滤波器33配置成为以使只有一定带宽的波长λ可以通过该滤波器。波长λ的带宽可以是例如法布里-珀罗干涉仪10的主带宽。波长范围可以例如在λ＝1[μm]和λ＝2[μm]之间。根据某些其他实施例，波长范围可以是例如λ＝1[μm]和λ＝5[μm]之间或λ＝1[μm]和λ＝10[μm]之间。根据一些实施例，将滤波器33调谐到固定的波长。
随后，辐射通过法布里-珀罗干涉仪10，并且然后通过探测器23来探测。电调谐的法布里-珀罗干涉仪10包括第一半透明反射镜和第二半透明反射镜，将第一半透明反射镜和第二半透明反射镜布置成为以形成干涉仪的光学共振腔。根据某些实施例，在光学测量系统1的操作期间，间隙的宽度的最大变化小于0.2[nm/℃]、小于0.1[nm/℃]或小于0.05[nm/℃]。法布里-珀罗干涉仪可以提供窄的透射峰，该透射峰具有可调节的光谱位置，并且该透射峰可用于光谱分析。可以通过改变反射镜之间的距离来改变透射峰的光谱位置。法布里-珀罗干涉仪10可以具有可调节的反射镜间隙。可以根据控制信号来改变透射峰的光谱位置。控制信号可以是例如电压信号，其被施加到法布里-珀罗干涉仪10的压电驱动器上，以改变法布里-珀罗干涉仪的反射镜间隙。控制信号可以是例如电压信号，其被施加到静电驱动器的电极上，以改变法布里-珀罗干涉仪10的反射镜间隙。
探测器23(例如红外探测器)可以包括间隔物以将探测器23布置在离法布里-珀罗干涉仪10特定的距离处。根据某些实施例，在封装结构36中使用的或者彼此相邻的部件的材料具有相同的热膨胀系数或至少相同级别的系数。间隔物可以例如由基于陶瓷材料的硅制成。通常，探测器23配置成为探测滤波后的波长。根据某些实施例，探测器23配置成至少探测法布里-珀罗干涉仪10的波长的带宽。由于红外探测器的噪声级别随着温度的升高而增加，根据某些实施例，探测器的温度稳定在小于0.5[℃]、小于0.3[℃]、小于0.1[℃]或小于0.05[℃]的精度。
此外，在探测器23和珀耳帖元件11之间布置有基板34。基板34可以例如由陶瓷材料制成。
珀耳帖元件构造成为控制干涉仪10的温度t2。根据某一实施例，珀耳帖元件控制成以使干涉仪10的温度t2保持基本恒定。根据本发明的基本上恒定的温度意味着温度不会改变超过1[℃]，优选不超过0.5[℃]，甚至更优选不超过0.1[℃]，或大于0.05[℃]。在这种情况下，干涉仪10的温度t2可以是例如t2＝20[℃]、t2＝22[℃]、t2＝24[℃]、t2＝38[℃]、t2＝40[℃]、t2＝42[℃]或任何其它预定温度。根据某些其他实施例，干涉仪10的温度可以在特定范围内变化，例如在t2＝22.8[℃]和t2＝23.2[℃]之间变化或在t2＝39.95[℃]和t2＝40.05[℃]之间变化。在某一实施例中，珀耳帖元件构造成控制封装结构36中的腔体38的温度。
封装结构36可以通过使用粘合剂固定地附接到框架3的第一横向元件4上并且同时对准，粘合剂例如为导热粘合剂(例如环氧树脂)。从封装结构的腔体38内部到腔体38的外部的热交换是有效的，而不会由于温度变化而导致封装结构36的变形。根据某些实施例，使用的粘合剂可以是柔性的。在其他情况下，封装结构36可以焊接到框架3上。通常，只有封装结构36的位于孔32相对侧的表面连接到框架3上以避免热量回流到封装结构36中。另外，法布里-珀罗干涉仪10、探测器23和珀耳帖元件11连接到电线18，电线18可以通过开口30从第一横向元件4的第一侧5引导到第一横向元件4的第二侧6。根据某些实施例，一个或多个热敏电阻布置在封装结构36中用于监测封装结构36中的温度梯度。例如，两个热敏电阻的布置提高了稳定干涉仪10的温度t2的能力。
在图7中示出了根据本发明第七实施例的光学测量系统1的壳体2的一部分的示意性俯视图。壳体2包括散热片19以便增加壳体2的表面积，使热传递最佳。散热片19从壳体2延伸出来以增加对环境或来自环境的传热速率。可以将散热片19看作是在光学测量系统1中出现的热传递问题的经济解决方案。除了附接到框架3上的珀耳帖元件11之外(图6中未示出)，可以通过散热片19来减小光学测量系统1的尺寸并提供简单和紧凑的结构。壳体2还包括盖子，以在壳体内部形成封闭的腔体，在图6中也未示出该盖子。
根据某些实施例，主电路板35被附接到壳体2上。主电路板35通过电线连接到附接在框架3上的电路板17上。连接到珀耳帖元件11、探测器23以及法布里-珀罗干涉仪10上的主电路板35、电路板17和电线18形成了用于控制珀耳帖元件11、干涉仪10和检测器23的控制电子电路。
在图8中示出了根据本发明第八实施例的光学测量系统1的壳体2的一部分的示意性立体图。壳体2构造成以使框架3将被插入到壳体2中。壳体2包括楔形部分37，并且待插入壳体2中的相应的框架3也包括与壳体2的楔形部分37吻合的楔形部分40。形状配合的框架3的楔形部分40和壳体2的楔形部分37提供了具有最小功率消耗的大约为所需测量温度的最大温度范围。壳体2的楔形部分37和框架3的楔形部分40的布置增加了壳体2和框架3之间的接触表面的面积，以获得最佳的热传递。根据某些实施例，壳体2还构造成使得主电路板35将被附接到壳体2上。
在图9中示出了根据本发明的第九实施例的光学测量系统1的示意性主视图。框架3被插入到壳体2中。在主电路板35和框架3之间设置间隙以避免由于与框架3的物理接触或由于发热而损坏主电路板。在光学测量系统1的操作期间，壳体由壳体2的附加的盖子来封闭，在图8中未示出该盖子。围绕壳体2的环境温度t1关于干涉仪10的尺寸的变化可以特别地通过布置在腔体12中的珀耳帖元件11进行补偿。位于壳体2中的腔体12和/或位于封装结构36中的腔体38和环境之间的最佳热传递可以通过散热片19以及壳体2的楔形部分37和框架3的楔形部分40来完成。
在图10中示出了根据本发明第十实施例的光学测量系统1的示意性主视图。壳体2通过盖子27来封闭，从而在壳体2内形成腔体。干涉仪的温度t2可以根据环境温度t1由珀耳帖元件11和散热片19控制。
在图11中示出了根据本发明第十一实施例的光学测量系统1的示意性立体图。光学测量系统1的功率通常小于1[w]。根据某些实施例，光学测量系统的功率为1[w]或大于1[w]。
在图12中示出了根据本发明的第十二实施例的光学测量系统的示意图。光学测量系统1用于分析环境中的辐射源25的特性或材料含量。环境的温度t1可以例如是t1＝26[℃]，干涉仪10的温度t2可以例如是t2＝22[℃]，即温度差为□t＝t1-t2＝4[℃]。由于珀耳帖元件11、散热片19和壳体2的楔形部分37以及框架3的楔形部分40，环境温度t1不影响干涉仪10的温度t2，因此当干涉仪10的反射镜的尺寸不变时提供了精确的测量结果。热量从干涉仪10所在的腔体12的内部转移到腔体12的外部。根据某些实施例，例如，操作温度范围(即环境的温度范围)可以在t1＝-10[℃]和t1＝+70[℃]之间。根据某些其他实施例，例如，操作温度范围可以在t1＝+10[℃]和t1＝+30[℃]之间或在t1＝-20[℃]和t1＝+40[℃]之间。根据某一实施例，在65[℃]至70[℃]之间的范围内的环境温度可以通过珀耳帖元件进行补偿。在这种情况下，珀耳帖元件的温度可以是例如40[℃]±0.05[℃]。珀耳帖元件的温度可以通过软件根据环境的温度或环境的温度范围进行调整。该软件通常包括环境的某些温度范围的校准值，以允许在预设程序之间自动进行更改。根据实施例，该软件在光学测量系统1中实施。
根据某些其他实施例，光学测量系统1还包括连接到主电路板18上的计算机化设备28，例如个人计算机或移动计算设备。计算设备28包括计算机可读介质，在计算机可读介质上存储有一组计算机可执行的指令，该指令能够使处理器与光学测量系统相连以分析测量区域26中的辐射源25的特性或材料含量。
在图13中示出了根据本发明的第十三实施例的用于分析对象的光谱的方法的示意性流程图。第一，将电调谐的法布里-珀罗干涉仪放置在由测量区域中的辐射源发射的辐射路径中。第二，通过探测器对辐射进行探测。随后，对与探测器和/或干涉仪热连接的电调谐的珀耳帖元件进行控制。
根据某一实施例，通过珀耳帖元件补偿环境温度变化对干涉仪机械尺寸的影响。根据另外某个实施例，将珀耳帖元件控制成使得探测器和/或干涉仪的温度基本保持恒定。
当然，可以在将电调谐的法布里-珀罗干涉仪放置在测量区域中的辐射源发射的辐射路径中之前，或者在通过探测器对辐射进行探测之前，对电调谐的珀耳帖元件进行控制。
尽管出于说明的目的已经详细描述了本发明，但是可以在权利要求的范围内进行各种改变和修改。此外，应当理解为，本公开旨在尽可能地将任何实施例的一个或多个特征与任何其它实施例的一个或多个特征组合。
应当理解为，所公开的本发明的实施例不限于本文公开的特定的结构、工艺步骤或材料，而是扩展到如相关领域的普通技术人员所认识到的其等同物。还应当理解的是，本文采用的术语仅用于描述特定实施例的目的，而不旨在限制性的。
在整个说明书中对于一个实施例或实施例的参考意味着结合实施例描述的特定特征、结构或特性包括在本发明的至少一个实施例中。因此，贯穿本说明书的各个地方的短语“在一个实施例中”或“在实施例中”的出现不一定都指代相同的实施例。当使用诸如、例如、大约或基本上的术语对数值进行参考时，还公开了确切的数值。
如本文所使用的，为方便起见，可以在常见的列表中呈现多个项目、结构元件、组成元件和/或材料。然而，这些列表应该解释成为似乎将列表中的每个组成单独地标识为独立且唯一的组成。因此，基于它们在一个共同组中的呈现而没有相反的指示，这种列表的个别组成都不应仅被视为与同一列表中任何其他组成的事实上的等同物。另外，在此可以参考本发明的各种实施例和示例及其各种部件的替代方案。应当理解，这样的实施例、示例和替代方案不应被解释为彼此的事实上的等同物，而是认为是本发明的单独和自主的表示。
此外，所描述的特点、结构或特征可以以任何合适的方式组合在一个或多个实施例中。在下面的描述中，提供了许多具体细节以便透彻地理解本发明的实施例，例如提供了长度、宽度、形状等的示例。然而，相关领域的技术人员将认识到，本发明可以在没有一个或多个具体细节的情况下实施，或者在其他方法、部件、材料等下实施。在其他情况下，未示出或详细描述公知的结构、材料或操作以避免使本发明的方面模糊。
虽然前述实例在一个或多个特定应用中说明了本发明的原理，但是对于本领域的普通技术人员来说显而易见的是，在不需要发明创造力的情况下，以及不脱离本发明的原理和概念的情况下，可以对实施的形式、用途和细节方面进行许多修改。因此，除了下面所提出的权利要求之外，并不意图限制本发明。
在本文中使用的动词“包括”和“包含”作为开放的限制，既不排除也不需要存在未引用的特征。除非另有明确说明，所附权利要求中记载的特征是可互相组合的。此外，应当理解的是，贯穿本文使用的“一”或“一个”(即单数形式)不排除多个。
参考标记列表：
1光学测量系统
2壳体
3框架
4第一横向元件
5第一横向元件的第一侧
6第一横向元件的第二侧
7第二横向元件
8第一纵向元件
9第二纵向元件
10法布里-珀罗干涉仪
11珀耳帖元件
12腔体
13附件区域
14粘合剂
15通道
16辐射路径
17电路板
18电线
19散热片
20插头
21螺纹
22透镜
23探测器
24盖板
25辐射源
26测量区域
27盖子
28计算机化设备
29用于螺钉的钻孔
30电线的开口
31插头的开口
32孔
33滤波器
34基板
35主电路板
36封装结构
37壳体的楔形部分
38封装结构中的腔体
39凹槽
40框架的楔形部分
t1环境的温度
t2干涉仪的温度
□t温度差
λ波长