1.一种低散射支架，其特征在于：
其具有一低散射的外表面，该外表面采用吸波材料技术，该采用吸波材料技术处理过的外表面上涂覆超疏水涂层（5）。
2.如权利要求1所述的低散射支架，其特征在于：
采用吸波贴片（4）对所述低散射支架的外表面进行贴敷处理。
3.如权利要求2所述的低散射支架，其特征在于：
所述超疏水涂层（5）为一层具有疏水功能的透波表漆。
4.如权利要求1或2或3所述的低散射支架，其特征在于：
所述低散射支架采用支架轴线竖直的立式空间结构，支架外表面背向入射电磁波的部位为锯齿形结构（2）。
5.如权利要求4所述的低散射支架，其特征在于：
所述低散射支架外形为沿支架轴线方向连续设置的多个周期结构（1），每个周期结构（1）的外形横截面为一改进的菱形形状，该菱形形状的侧向两边包含倒角（3），后端夹角部位为所述的锯齿形结构（2）。
6.如权利要求5所述的低散射支架，其特征在于：
每个所述的周期结构（1）包含一组上下对称的拓扑结构，其中部段截面尺寸和底部段截面尺寸之比为1:0.6~1:0.8。
7.如权利要求1所述的低散射支架，其特征在于：
采用平面单元来构筑所述低散射支架的外表面。
8.如权利要求1所述的低散射支架的制作方法，其特征在于，包含以下步骤：
S1、粗糙化处理制作好的支架表面；
S2、用有机溶剂对表面进行清洗；
S3、在支架表面贴敷一层吸波材料；
S4、在吸波材料表面涂覆超疏水涂层（5）。
9.如权利要求8所述的低散射支架，其特征在于，所述步骤S3中：
所述吸波材料采用压模成型工艺进行成型，其厚度为1mm~2mm，内部填充球形羰基铁、片性羰基铁或铁氧体，填充颗粒的粒径为3μm~5μm，且所述吸波材料的吸波频率为8GHz~18GHz，吸波颗粒的体积添加分数为20%~50%。
10.如权利要求9所述的低散射支架，其特征在于，所述的步骤S4中：
所述的超疏水涂层（5）采用的是表面喷涂有疏水白炭黑与稀释剂混合物的快速固化的聚氨酯表漆。