一种水质煅烧处理分析装置的制作方法

文档序号:15123698发布日期:2018-08-07 23:37阅读:183来源:国知局

本实用新型涉及一种分析装置,特别涉及一种水质煅烧处理分析装置。



背景技术:

现有技术中,如专利ZL201310240703.7公开了一种水质分析装置,包括主处理器、电极、放大器、信号调理单元、驱动单元和显示单元,其中开关的输出端和主处理器的的输入端相连接,电极的输出端和放大器的输入端相连接,放大器的输出端和信号调理单元的输入端相连接,信号调理单元的输出端与主处理器的输入端相连接,主处理器的输出端和驱动单元的输入端相连接,驱动单元的输出端和显示单元的输入端相连接。该水质分析装置不方便对水质进行煅烧,对水质进行观测操作效率低。



技术实现要素:

本实用新型的主要目的在于提供一种通过酒精灯对玻璃皿内的水进行煅烧处理,可以将玻璃皿内的水蒸发干净,通过观测玻璃皿的内底部留有的杂质,从而可以判断水质的纯度,方便对水质进行分析的水质煅烧处理分析装置。

为实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:

一种水质煅烧处理分析装置,包括底座,底座的上方设有玻璃皿,玻璃皿的内部设有储液腔,玻璃皿的顶部为开口结构;底座的一侧设有第一支撑架,底座的另一侧设有第二支撑架,玻璃皿安装在第一支撑架与第二支撑架的顶部上;底座的中部上设有固定座,固定座上设有酒精灯,酒精灯安装在玻璃皿的下方;第一支撑架的对内朝向面位置设有第一扣架,第二支撑架的对内朝向面位置设有第二扣架,固定座安装在第二扣架与第一扣架之间;玻璃皿的顶部一侧设有第一定位轴,第一定位轴的外周面套装有第一旋管,第一旋管的侧部位置设有放大镜,放大镜呈水平布置,放大镜安装在储液腔的上方。

进一步地,所述玻璃皿的顶部另一侧设有第二定位轴,第二定位轴的外周面套装有第二旋管,第二旋管的侧部位置设有锁架,锁架的外侧部锁接住放大镜的外侧部位置。

进一步地,所述第二定位轴的端部设有第二弯曲部。

进一步地,所述第一定位轴的顶部设有第一弯曲部。

进一步地,所述玻璃皿的横截面为U型形状。

与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:操作者可以将待处理的水倒入玻璃皿的储液腔内;底座通过第一支撑架与第二支撑架对玻璃皿进行支撑,再点燃酒精灯,通过酒精灯对玻璃皿内的水进行煅烧处理,可以将玻璃皿内的水蒸发干净,通过观测玻璃皿的内底部留有的杂质,从而可以判断水质的纯度,方便对水质进行分析。

【附图说明】

图1为本实用新型水质煅烧处理分析装置的结构示意图。

【具体实施方式】

为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本实用新型。

如图1所示,一种水质煅烧处理分析装置,包括底座1,底座1的上方设有玻璃皿2,玻璃皿2的内部设有储液腔3,玻璃皿2的顶部为开口结构;底座1的一侧设有第一支撑架4,底座1的另一侧设有第二支撑架5,玻璃皿2安装在第一支撑架4与第二支撑架5的顶部上;底座1的中部上设有固定座6,固定座6上设有酒精灯7,酒精灯7安装在玻璃皿2的下方;第一支撑架4的对内朝向面位置设有第一扣架8,第二支撑架5的对内朝向面位置设有第二扣架9,固定座6安装在第二扣架9与第一扣架8之间;玻璃皿2的顶部一侧设有第一定位轴10,第一定位轴10的外周面套装有第一旋管11,第一旋管11的侧部位置设有放大镜13,放大镜13呈水平布置,放大镜13安装在储液腔3的上方;玻璃皿2的顶部另一侧设有第二定位轴14,第二定位轴14的外周面套装有第二旋管15,第二旋管15的侧部位置设有锁架17,锁架17的外侧部锁接住放大镜13的外侧部位置;第二定位轴14的端部设有第二弯曲部16;第一定位轴10的顶部设有第一弯曲部12;玻璃皿2的横截面为U型形状。

本实用新型水质煅烧处理分析装置,操作者可以将待处理的水倒入玻璃皿2的储液腔3内;底座1通过第一支撑架4与第二支撑架5对玻璃皿2进行支撑,再点燃酒精灯7,通过酒精灯7对玻璃皿2内的水进行煅烧处理,可以将玻璃皿2内的水蒸发干净,通过观测玻璃皿2的内底部留有的杂质,从而可以判断水质的纯度,方便对水质进行分析。

其中,玻璃皿2的顶部另一侧设有第二定位轴14,第二定位轴14的外周面套装有第二旋管15,第二旋管15的侧部位置设有锁架17,锁架17的外侧部锁接住放大镜13的外侧部位置;第二定位轴14的端部设有第二弯曲部16;所以通过锁架17可以对放大镜13的外侧进行牢固锁接。

其中,第一定位轴10的顶部设有第一弯曲部12;所以通过第一弯曲部12可以对第一定位轴10的顶部进行限位控制。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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