本发明涉及一种集成电路制造装备,即离子注入机,特别地涉及一种用于离子注入机的一种双向聚焦质量分析器。
背景技术:
随着集成电路工艺技术的提高,对离子注入设备提出了更高的要求;对于离子注入的元素筛选精度要求更高,对于注入束流的电流强度要求也更大。质量分析器作为离子注入设备上的元素筛选设备,其性能对于离子注入工艺指标影响巨大。
一种体积小、分辨率高,且能在水平和竖直方向均有聚焦作用的质量分析装置,对于离子注入设备提高注入元素纯度,提高束流传输效率和降低重量与加工成本十分重要。
技术实现要素:
本发明公开了一种双向聚焦质量分析器,在离子注入机工作过程中,质量分析器的作用是通过加不同的电流,使离子束有不同的运动轨迹,加上分析光栏后即可对离子种类进行筛选。束流通过双向聚焦的质量分析器后,会在水平方向与竖直方向分别对束流产生聚焦作用,在水平方向产生一个焦点,配合分析光栏筛选离子;在竖直方向也有聚焦作用,减小束流竖直方向发散度,提高束流的传输效率。
本发明通过以下技术方案实现:
1、一种双向聚焦质量分析器,包括:磁轭(1)、磁极(2)、线圈(3)、磁屏蔽板(1)、真空盒(5)。质量分析器磁极半径r为400mm,偏转角度
2.如权利要求1所述的一种双向聚焦质量分析器,其特征在于采用扇形磁极,角度为34.84°,半径为400mm,磁极间距为50mm,束流垂直真空盒入射时,离子束的入射角度和出射角度均为27.58度,分析器对于离子束在水平与垂直方向均有聚焦作用。
3.如权利要求1所述的一种双向聚焦质量分析器,其特征双向聚焦作用的焦距为83mm。
4.如权利要求1所述的一种双向聚焦质量分析器,其特征在于在半径比较小的情况下,在出、入射束流尺寸小于1.8mm时,质量分辨率m/δm为125,即小体积,大分辨率。
5.如权利要求1所述的一种双向聚焦质量分析器,其特征在于在真空盒入口和出口处有磁屏蔽板,屏蔽板位置距离磁极边缘距离为d=50mm,可有效防止磁场泄漏引起的束流轨迹偏移。
本发明具有如下显著优点:
1.半径400mm,体积小,重量轻。
2.磁极为34.84°的扇形面,入射角和出射角均为27.58°,对离子束具有双向聚焦功能,减小束流传输损失,提高传输效率。
3.分辨率高。
4.具有磁屏蔽板,防止磁场泄露引起的束流轨迹偏移。
附图说明
图1双聚焦质量分析器总装图
图2质量分析器各部分组成示意图
图3扇形磁极角度示意图
图4双聚焦质量分析器束流水平聚焦数值仿真结果
图5双聚焦质量分析器束流竖直聚焦数值仿真结果
具体实施方式
下面结合附图1、附图2、附图3、附图4、附图5对本发明作进一步的介绍,但不作为对本发明的限定。
参见图1、图2、图3、图4、图5,一种双向聚焦质量分析器,包括:包括:磁轭(1)、磁极(2)、线圈(3)、磁屏蔽板(4)、真空盒(5)。质量分析器磁极半径r为400mm,偏转角度
在该实施方式中,采用扇形磁极,角度为34.84°,半径为400mm,磁极间距为50mm,束流垂直真空盒入射时,离子束的入射角度和出射角度均为27.58度,分析器对于离子束在水平与垂直方向均有聚焦作用。
在该实施方式中,双向聚焦作用的焦距为83mm。
在该实施方式中,半径比较小的情况下,在出、入射束流尺寸小于1.8mm时,质量分辨率m/δm为125,即小体积,大分辨率。
在该实施方式中,在真空盒入口和出口处有磁屏蔽板,屏蔽板位置距离磁极边缘距离为d=50mm,可有效防止磁场泄漏引起的束流轨迹偏移。
本发明专利的特定实施例已对本发明专利的内容做了详尽说明。对本领域一般技术人员而言,在不背离本发明专利精神的前提下对它所做的任何显而易见的改动,都构成对本发明专利的侵犯,将承担相应的法律责任。
1.一种双向聚焦质量分析器,包括:磁轭(1)、磁极(2)、线圈(3)、磁屏蔽板(4)、真空盒(5)。质量分析器磁极半径r为400mm,偏转角度
2.如权利要求1所述的一种双向聚焦质量分析器,其特征在于采用扇形磁极,角度为34.84°,半径为400mm,磁极间距为50mm,束流垂直真空盒入射时,离子束的入射角度和出射角度均为27.58度,分析器对于离子束在水平与垂直方向均有聚焦作用。
3.如权利要求1所述的一种双向聚焦质量分析器,其特征双向聚焦作用的焦距为83mm。
4.如权利要求1所述的一种双向聚焦质量分析器,其特征在于在半径比较小的情况下,在出、入射束流尺寸小于1.8mm时,质量分辨率m/δm为125,即小体积,大分辨率。
5.如权利要求1所述的一种双向聚焦质量分析器,其特征在于在真空盒入口和出口处有磁屏蔽板,屏蔽板位置距离磁极边缘距离为d=50mm,可有效防止磁场泄漏引起的束流轨迹偏移。