异物检测方法及装置与流程

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种异物检测方法及装置。

背景技术：

在显示面板的制造过程中，通常需要在玻璃基板上制造各个膜层。但是，当玻璃基板的表面存在异物时，若直接在该存在异物的表面上制造膜层，会影响制造得到的膜层的性能，且该异物还可能对用于制造膜层的装置造成损伤。因此，在玻璃基板的表面形成膜层之前，对该表面进行异物检测是十分必要的。

相关技术中，在对玻璃基板的表面进行异物检测时，通常将玻璃基板放置在承载基台上，然后向其表面照射激光，并获取被该表面反射的反射光，通过对该反射光进行检测，能够确定该表面是否存在异物。

但是，由于承载基台和该表面均会对激光产生反射，被承载基台反射的光会对该表面反射的光产生干扰，导致对该表面进行异物检测的准确度较低。

技术实现要素：

本发明提供了一种异物检测方法及装置，可以解决相关技术中对玻璃基板的表面进行异物检测的准确度较低的问题。所述技术方案如下：

第一方面，提供了一种异物检测方法，包括：

将待检测物体放置在承载基台上；

在所述承载基台上放置辅助检测块，所述辅助检测块的侧面与所述待检测物体的目标侧面贴合，所述辅助检测块的反射面与所述待检测物体的待检测表面的反射率差值小于或等于指定阈值，且所述反射面与所述待检测表面的朝向相同，所述指定阈值基于检测精度确定；

向所述待检测表面照射检测光；

基于所述检测光被所述待检测表面所反射的反射光的检测结果，确定所述待检测表面上是否存在异物。

可选地，所述反射面的反射率与所述待检测表面的反射率相同。

可选地，所述目标侧面被所述辅助检测块的侧面完全覆盖。

可选地，所述待检测物体的所有侧面均被所述辅助检测块的侧面完全覆盖。

可选地，所述反射面与所述待检测表面共面。

可选地，所述基于所述检测光被所述待检测表面所反射的反射光的检测结果，确定所述待检测表面上是否存在异物，包括：

当所述待检测表面的某一点的反射光的亮度小于或等于指定阈值时，确定所述某一点所处的位置处存在异物；

或者，当所有反射光的亮度均匀度未处于指定范围内时，确定所述待检测表面上存在异物。

可选地，所述在所述承载基台上放置辅助检测块，包括：

基于所述待检测物体的放置位置和所述辅助检测块的初始位置，确定将所述辅助检测块放置到所述承载基台上所需的位移量；

基于所述位移量，将所述辅助检测块放置到所述承载基台上。

第二方面，提供了一种异物检测装置，包括：

移动模块，用于将待检测物体放置在承载基台上；

所述移动模块，还用于在所述承载基台上放置辅助检测块，所述辅助检测块的侧面与所述待检测物体的目标侧面贴合，所述辅助检测块的反射面与所述待检测物体的待检测表面的反射率差值小于或等于指定阈值，且所述反射面与所述待检测表面的朝向相同，所述指定阈值基于检测精度确定；

光发射模块，用于向所述待检测表面照射检测光；

处理模块，用于所述检测光被所述待检测表面所反射的反射光的检测结果，确定所述待检测表面上是否存在异物。

可选地，所述反射面的反射率与所述待检测表面的反射率相同。

可选地，所述待检测物体的所有侧面均被所述辅助检测块的侧面完全覆盖。

本发明提供的技术方案带来的有益效果是：

本发明实施例提供的异物检测方法及装置，通过在承载基台上放置辅助检测块，由于该辅助检测块的侧面与该目标侧面贴合，且该辅助检测块的反射面与该待检测物体的待检测表面的反射率差值小于或等于指定阈值，当该反射面与该待检测表面的朝向相同时，待检测表面对检测光的反射作用与该反射面对检测光的反射作用基本相同，相较于相关技术，有效地减小了对待检测表面反射的检测光产生的干扰，提高了对待检测物体的表面进行异物检测的准确度。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种将待检测的玻璃基板放置在顶针式承载基台表面进行异物检测的示意图；

图2是本发明实施例提供的一种异物检测方法的流程图；

图3是本发明实施例提供的一种将被检测物体和辅助检测块放置在承载基台上后，对被检测物体进行异物检测的示意图；

图4是本发明实施例提供的另一种异物检测方法的流程图；

图5是本发明实施例提供的一种待检测表面上存在异物时，被待检测表面反射的反射光的示意图；

图6是本发明实施例提供的一种异物检测装置的结构示意图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。

异物为位于待检测物体表面，且影响该表面平整度的物体。异物检测是检测待检测物体的表面是否存在异物的过程。在显示面板制造领域，可以对玻璃基板表面进行异物检测，以保证玻璃基板表面的清洁度，避免由于玻璃基板表面上的异物对制造在该表面上的膜层及对用于形成膜层的制造装置产生影响。

相关技术中，请参考图1，通常将待检测的玻璃基板01放置在顶针式承载基台02表面，并采用光发射器03向该玻璃基板01的待检测表面011照射激光，然后采用光接收器04接收被该待检测表面反射的激光，并根据该被反射的激光的亮度，确定该待检测表面上是否存在异物。

但是，请继续参考图1，由于该待检测表面011与承载基台02的表面之间存在段差，且该玻璃基板01的反射率和该承载基台02的反射率相差较大，导致该待检测表面011对激光的反射作用和该承载基台02对激光的反射作用存在较大差异，例如，被承载基台反射的激光j1会被反射至用于接收被待检测表面反射的激光j2的光接收区域中，使被承载基台反射的激光会对待检测表面反射的激光产生干扰，导致无法准确地检测该被检测表面是否存在异物。

为此，本发明实施例提供了一种异物检测方法，该方法用于检测待检测物体的表面上是否存在异物。如图2所示，该方法可以包括：

步骤101、将待检测物体放置在承载基台上。

步骤102、在承载基台上放置辅助检测块，辅助检测块的侧面与待检测物体的目标侧面贴合，且辅助检测块的反射面与待检测物体的待检测表面的反射率差值小于或等于指定阈值，反射面与待检测表面的朝向相同。

其中，指定阈值基于检测精度确定。

步骤103、向待检测物体的待检测表面照射检测光。

步骤104、基于检测光被待检测表面所反射的反射光的检测结果，确定待检测表面上是否存在异物。

图3为将被检测物体11和辅助检测块15放置在承载基台12上，向待检测表面111照射检测光后，检测光被待检测表面111反射的光路示意图。如图3所示，当反射面151的反射率与待检测表面111的反射率的差值小于或等于指定阈值，辅助检测块15的侧面与目标侧面贴合，且反射面151与待检测表面111的朝向相同时，被反射面151反射的反射光j3与被待检测表面111反射的反射光j2的光路基本相同，即反射面151对检测光的反射作用与该待检测物体11对检测光的反射作用基本相同。因此，通过设置该辅助检测块，可以尽量减小被辅助检测块反射的检测光对被待检测物体反射的检测光的干扰，及减少位于被检测物体侧面的承载基台对被检测物体反射的检测光的干扰，能够提高对待检测物体的表面进行异物检测的准确度。

综上所述，本发明实施例提供的异物检测方法，通过在承载基台上放置辅助检测块，由于该辅助检测块的侧面与该目标侧面贴合，且该辅助检测块的反射面与该待检测物体的待检测表面的反射率差值小于或等于指定阈值，当该反射面与该待检测表面的朝向相同时，待检测表面对检测光的反射作用与该反射面对检测光的反射作用基本相同，相较于相关技术，有效地减小了对待检测表面反射的检测光产生的干扰，提高了对待检测物体的表面进行异物检测的准确度。

图4是本发明实施例提供的另一种异物检测方法的流程图。如图4所示，该方法可以包括：

步骤201、将待检测物体放置在承载基台上。

可选地，该待检测物体可以玻璃基板或石英基板等需要对表面进行异物检测的物体。并且，可以通过机械手等自动化移动装置将该待检测物体放置在承载基台上，或者，也可以通过人工方式将该待检测物体放置在承载基台上，本发明实施例对此不作具体限定。

步骤202、在承载基台上放置辅助检测块，该辅助检测块的侧面与待检测物体的目标侧面贴合，该辅助检测块的反射面与待检测物体的待检测表面的反射率差值小于或等于指定阈值，且反射面与待检测表面的朝向相同。

可以先获取待检测物体的放置位置及辅助检测块的初始位置，然后，基于该放置位置和该初始位置，确定将辅助检测块放置到承载基台上所需的位移量，然后，基于该位移量，将辅助检测块放置到承载基台上，使得该辅助检测块的侧面与目标侧面贴合，且反射面与待检测表面的朝向相同。

其中，可以采用距离测量仪获取待检测物体的放置位置和辅助检测快的初始位置，并将该待检测物体的放置位置和辅助检测快的初始位置发送至处理单元。该处理单元可以根据其确定将辅助测量块放置到承载基台上所需的位移量，并将该位移量发送至机械手等自动化移动装置，使机械手等自动化移动装置按照该位移量将该辅助检测块放置在该承载基台上。

该指定阈值可以基于检测精度确定。可选地，可以在异物检测的检测精度所允许的误差范围内，将由对光反射作用的差异不会影响检测结果准确性时的最大反射率差值确定为该指定阈值。且该最大反射率差值可以根据多次实验确定。

在一种可实现方式中，该反射面的反射率可以与待检测表面的反射率相同。此时，该反射面和该待检测物体可以由同种材料制成，例如，均由玻璃制成。或者，该反射面和该待检测物体可以由反射率相同不同材料制成。

为了进一步减小反射面与待检测表面对检测光的反射作用差异，该反射面与待检测表面可以共面。并且，目标侧面可以被辅助检测块的侧面完全覆盖。示例地，如图3所示，该辅助检测块在x方向上的长可以根据实际需要确定，该辅助检测块在y方向上的宽可以与待检测表面在该y方向上的宽相同，该辅助检测块在z方向上的高可以与待检测物体在z方向上的高相同。其中，在确定辅助检测块的长时，该长可以为使被承载基台反射的光无法对被检测表面反射的光产生干扰对应的长度。例如，该长可以为15毫米。

进一步地，在放置辅助检测块时，可以使辅助检测块与待检测物体的至少一个侧面中每个侧面均贴合。且该待检测物体的所有侧面均被辅助检测块的侧面完全覆盖。当辅助检测块与待检测物体的每个侧面均贴合时，能够减少每个侧面位置处承载基台所反射的光对被检测表面反射的光的干扰，能够进一步提高异物检测的准确度。

步骤203、向待检测物体的待检测表面照射检测光。

该检测光可以为激光或者扩散光等。可选地，可以采用光发射器向该待检测表面照射检测光。且该检测光的入射角可以小于或等于90。当该入射角等于90度时，检测光在该待检测表面可的反射作用最明显，能够更容易地根据检测光在待检测表面的反射作用确定该待检测表面是否存在异物。并且，可以向该待检测表面的整个表面同时照射检测光，或者，可以分时地向该待检测表面照射检测光。

步骤204、接收检测光被待检测表面所反射的反射光。

可选地，可以采用光接收器接收该反射光。该光接收器可以为即电荷耦合器件(chargecoupleddevice，ccd)相机或光电探测器。该ccd相机的光采集面或该光电探测器的探测面用作该光接收器的光接收面。且该光接收面的光接收范围至少覆盖整个待检测表面，以保证能够有效接收到被该待检测表面各个位置处反射的反射光。

步骤205、根据该反射光的亮度，确定待检测表面上是否存在异物。

根据不同的检测需求，该步骤205的实现方式至少可以包括以下两种情况：

在一种情况中，当所有反射光的亮度均匀度未处于指定范围内时，确定待检测表面上存在异物。其中，该指定范围可以根据检测精度确定。

该亮度均匀度可以为所有反射光的亮度中，最小亮度值与平均亮度值的比值。当该比值越接近1时，该亮度均匀度越好，当该比值越远离1时，确定该亮度均匀度越差。因此，当所有反射光的亮度均匀度未处于指定范围内时，确定待检测表面上存在异物。

在另一种情况中，当待检测表面的某一点对应的反射光的亮度小于或等于指定阈值时，确定该某一点所处的位置处存在异物。此时，不仅能够确定该待检测表面是否存在异物，当还能够确定该异物在待检测表面上的位置。其中，该指定阈值可以根据检测精度确定。

请参考图5，当待检测表面111上存在异物y时，由光发射器13发出的照射在该异物y上的检测光会发生漫反射，使得仅有少量或没有反射光反射至光接收器14，使得对应该异物所在位置处的反射光的亮度降低。因此，当反射光的亮度小于或等于指定阈值时，可以确定位置处存在异物。

综上所述，本发明实施例提供的异物检测方法，通过在承载基台上放置辅助检测块，由于该辅助检测块的侧面与该目标侧面贴合，且该辅助检测块的反射面与该待检测物体的待检测表面的反射率差值小于或等于指定阈值，当该反射面与该待检测表面的朝向相同时，待检测表面对检测光的反射作用与该反射面对检测光的反射作用基本相同，相较于相关技术，有效地减小了对待检测表面反射的检测光产生的干扰，提高了对待检测物体的表面进行异物检测的准确度。

需要说明的是，本发明实施例提供的异物检测方法步骤的先后顺序可以进行适当调整，步骤也可以根据情况进行相应增减，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到变化的方法，都应涵盖在本申请的保护范围之内，因此不再赘述。

本发明实施例提供了一种异物检测装置，该异物检测装置可以为部署在显示面板中的集成电路或处理器等。如图6所示，该装置600可以包括：

移动模块601，用于将待检测物体放置在承载基台上。

移动模块601，还用于在承载基台上放置辅助检测块，辅助检测块的侧面与目标侧面贴合，辅助检测块的反射面与待检测物体的待检测表面的反射率差值小于或等于指定阈值，且反射面与待检测表面的朝向相同，指定阈值基于检测精度确定。

光发射模块602，用于向待检测表面照射检测光。

处理模块603，用于基于检测光被待检测表面所反射的反射光的检测结果，确定待检测表面上是否存在异物。

综上所述，本发明实施例提供的异物检测方法，通过移动模块在承载基台上放置辅助检测块，由于该辅助检测块的侧面与该目标侧面贴合，且该辅助检测块的反射面与该待检测物体的待检测表面的反射率差值小于或等于指定阈值，当该反射面与该待检测表面的朝向相同时，待检测表面对检测光的反射作用与该反射面对检测光的反射作用基本相同，相较于相关技术，有效地减小了对待检测表面反射的检测光产生的干扰，提高了对待检测物体的表面进行异物检测的准确度。

可选地，反射面的反射率与待检测表面的反射率相同。

可选地，目标侧面被辅助检测块的侧面完全覆盖。

可选地，待检测物体的所有侧面均被辅助检测块的侧面完全覆盖。

可选地，反射面与待检测表面共面。

可选地，处理模块603，用于：

当待检测表面的某一点的反射光的亮度小于或等于指定阈值时，确定某一点所处的位置处存在异物。

或者，当所有反射光的亮度均匀度未处于指定范围内时，确定待检测表面上存在异物。

可选地，移动模块601，用于：基于待检测物体的放置位置和辅助检测块的初始位置，确定将辅助检测块放置到承载基台上所需的位移量。基于该位移量，将辅助检测块放置到承载基台上。

可选地，待检测物体为玻璃。

综上所述，本发明实施例提供的异物检测方法，通过移动模块在承载基台上放置辅助检测块，由于该辅助检测块的侧面与该目标侧面贴合，且该辅助检测块的反射面与该待检测物体的待检测表面的反射率差值小于或等于指定阈值，当该反射面与该待检测表面的朝向相同时，待检测表面对检测光的反射作用与该反射面对检测光的反射作用基本相同，相较于相关技术，有效地减小了对待检测表面反射的检测光产生的干扰，提高了对待检测物体的表面进行异物检测的准确度。

所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为描述的方便和简洁，上述描述的装置和模块的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。

本发明实施例提供了一种异物检测系统，该系统包括：承载基台、移动组件、位置测量组件、光发射器、光接收器、辅助检测块和处理组件。

该移动组件用于将待检测物体和辅助检测块放置在承载基台上，使辅助检测块的侧面与目标侧面贴合，且反射面与待检测表面的朝向相同。示例地，该移动组件可以为机械手等自动化移动装置。

该位置测量组件用于获取待检测物体在承载基台上的放置位置，以及，辅助检测块的初始位置，并将该放置位置和该初始位置发送至处理组件。示例地，该位置测量组件可以为红外距离检测装置、激光距离检测装置或电子距离检测等。

该处理组件用于根据待检测物体的放置位置和辅助检测块的初始位置，确定将辅助测量块放置到承载基台上所需的位移量，并将该位移量发送至机移动组件，使移动组件按照该位移量将该辅助检测块放置在承载基台上。示例地，该处理组件包括以下至少一种：中央处理器(centralprocessingunit，cpu)、一个或多个微处理器、图像处理器、微控制器(microcontrollerunit，mcu)、人工智能处理器，fpga(field－programmablegatearray，现场可编程门阵列)、pla(programmablelogicarray，可编程逻辑阵列)、或者用于实现逻辑运算的集成电路。

该光发射器用于向待检测表面照射检测光。示例地，该光发生器可以为激光发射器，该激光发射器用于向待检测物体的待检测表面发射激光。

该光接收器用于接收检测光被待检测表面所反射的反射光。示例地，该光接收器可以为ccd相机或光电探测器。

且该处理组件还用于基于检测光在待检测表面的检测结果，确定待检测表面上是否存在异物。示例地，该处理组件可以判断反射光的亮度是否小于或等于指定阈值，当反射光的亮度小于或等于指定阈值时，确定用于反射该反射光的位置处存在异物。

本发明实施例还提供了一种存储介质，该存储介质可以为非易失性计算机可读存储介质，当存储介质中的指令由终端的处理器执行时，使得终端能够执行本发明实施例提供的异物检测方法。

本发明实施例还提供了一种包含指令的计算机程序产品，当计算机程序产品在计算机上运行时，使得计算机执行本发明实施例提供的异物检测方法。

以上仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。