一种用于薄膜沉积实验的样品支架的制作方法

本实用新型涉及实验器械领域，尤其是一种用于薄膜沉积实验的样品支架。

背景技术：

在进行薄膜沉积实验时，常常需要设置实验组和对照组以研究温度、材料、时间等对镀膜的影响，为了使实验结果更准确，每组实验都需要设置尽可能多的样品。现有的镀膜设备的镀膜源一般从镀膜设备的镀膜腔室顶部向下溅射或喷射液态源，样品只能放置镀膜源下方，即只能放置在镀膜腔室底面上，由于现有的镀膜设备的镀膜腔室底面是一个平面结构，样品放置数量有限，因此，常常需要在同一条件下需要进行多次实验，从而导致实验耗时过长。鉴于此，有必要设计一种用于薄膜沉积实验的样品支架以增加样品放置数量。

技术实现要素：

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种能增加样品摆放数量，从而可减少实验次数和降低实验时长的用于薄膜沉积实验的样品支架。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种用于薄膜沉积实验的样品支架，包括架体，所述架体呈棱锥形且棱锥的斜立面上设有用于摆放样品的托板，所述托板上设有用于固定样品的固定结构。

进一步的，所述固定结构包括呈T形的卡条以及间隔设置在托板前端面的多个凹槽，所述卡条与凹槽卡接。

进一步的，所述架体呈三棱锥形。

进一步的，还包括温度控制仪；所述托板为包括热传导层和隔热层的双层结构，所述热传导层和隔热层之间安装有电热丝和温度传感器；所述温度控制仪与电热丝和温度传感器连接。

进一步的，所述温度传感器设置在托板的中心。

本实用新型的有益效果是：本实用新型的一种用于薄膜沉积实验的样品支架，架体呈棱锥形且棱锥的斜立面上设有用于摆放样品的托板，托板上设有用于固定样品的固定结构，因此样品可放置在架体的斜面上，从而增加了样品的摆放数量。样品支架还设有温度控制仪，托板上安装有电热丝和温度传感器，镀膜实验时可以实现不同温度条件下同时镀膜，从而可以减少实验次数，降低实验成本、能耗以及实验误差等。

附图说明

图1是本实用新型的立体示意图；

图2是本实用新型的托板的固定结构为卡条的示意图；

图3为本实用新型的托板固定结构为凸台的示意图；

图中所示：1.架体，2.托板，3.卡条，4.加热丝，5.温度传感器，6.温度控制仪，7. 镀膜腔室，22.热传导层，23.隔热层，221.凹槽，222.凸起。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

如图1、图2、图3所示，本实用新型的一种用于薄膜沉积实验的样品支架，包括架体1，所述架体1呈棱锥形且棱锥的斜立面上设有用于摆放样品的托板2，所述托板2上设有用于固定样品的固定结构。

架体1呈棱锥形可为三棱锥、四棱锥、五棱锥等，由于架体1呈棱锥状，其至少有三个斜立锥面，相较于镀膜设备的镀膜腔室底面平面，面积更大，从而可以摆放更多样品。由于镀膜设备的镀膜腔室空间有限，为了保证在有限的空间内支架的单个托板放置样品尽可能多，优选架体1呈三棱锥形。托板2上设有用于固定样品的固定结构，固定结构的作用是防止样品从托板上滑落。

固定结构可以为在托板前端面设置与样品适配的镶嵌槽，将样品放置在镶嵌槽中实现固定，也可以如图3所示，图中固定结构包括设置在托板前端面设置凸起222，通过凸起222 防止样品下滑。

当样品尺寸发生变化时，上述固定结构并不能调整，特别是不能放置尺寸较大的样品。优选的，如图2所述，固定结构包括呈T形的卡条3以及间隔设置在托板2前端面的多个凹槽221，卡条3与凹槽221卡接。卡条3与凹槽221卡接，凹槽221为多个且间隔设置，因此可根据不同的样品尺寸选择卡条卡接在不同的凹槽内以调整卡条间的间距。

薄膜沉积实验时需要研究温度对镀膜的影响，因此需要在其他条件相同下进行不同温度的镀膜对比，而镀膜设备的镀膜腔室一次只能进行一个温度下的镀膜，为了缩短实验时长，进一步的，还包括温度控制仪6；托板2为包括热传导层22和隔热层23的双层结构，热传导层22和隔热层23之间安装有电热丝4和温度传感器5；温度控制仪6与电热丝4和温度传感器5连接。温度控制仪6可设置在托板2内也可设置在托板2表面。通过温度控制仪6 可控制每个托板2对样品的加热温度，从而将支架放置在镀膜腔室里，可在同条件下同时进行不同温度的镀膜，可减少实验次数，从而缩短实验时长，同时可避免实验因不同时进行实验因素发生变化导致的实验偏差。

为了使温度传感器更准确的检测到托板的温度，优选的，温度传感器5设置在托板2的中心。

本实用新型的支架使用时，将样品支架放置在镀膜腔室内，根据实验条件设置温度控制仪的控制温度，根据样品大小选择卡条和凹槽，将卡条卡接在托板的凹槽内，将样品放置在托板上并由卡条固定。本实用新型的一种用于薄膜沉积实验的样品支架，支架摆放样品多，可同时进行不同温度下的镀膜实验，减少了实验次数，缩短了实验耗时。