一种水质化学需氧量检测装置的制作方法

本实用新型涉及环境水质在线检测技术领域，更具体地说，涉及一种水质化学需氧量检测装置。

背景技术：

水样在一定条件下，以氧化1升水样中还原性物质所消耗的氧化剂的量为指标，折算成每升水样全部被氧化后，需要的氧的毫克数，以mg/l表示。它反映了水中受还原性物质污染的程度。该指标也作为有机物相对含量的综合指标之一。化学需氧量表示在强酸性条件下重铬酸钾氧化一升污水中有机物所需的氧量，可大致表示污水中的有机物量。cod是指标水体有机污染的一项重要指标,能够反应出水体的污染程度。

参照专利公开号为cn204989168u的授权文件，其“公开了一种水质化学需氧量自动在线检测装置，包括通风柜和设于通风柜内部的反应室，通风柜的内壁上设有隔热层，反应室用于放置反应试剂和测试水样，所述反应室的外围设有半导体加热丝，内底部的中心设有温度传感器，半导体加热丝和温度传感器均与控制器电连接；半导体加热丝缠绕在反应室周围，与反应室外壁之间间隔有一定距离。具有结构简单，设计合理，使用灵活、方便，低碳节能，能保持装置内部温度恒定在设定目标温度，保证水质氨氮检测的可靠性与稳定性的功能与特点”。但上述援引的对比文件中在数次的试验之后反应室的内壁上尤其是内底部可能会粘附上或多或少的水垢，这些水垢的存在会影响该检测装置的正常检测活动，从而导致检测数据的不准确。

技术实现要素：

1.要解决的技术问题

针对现有技术中存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种水质化学需氧量检测装置，它可以实现对反应室内壁上水垢的有效清洁，从而保证该检测装置的正常检测活动，确保检测数据的准确性。

2.技术方案

为解决上述问题，本实用新型采用如下的技术方案。

一种水质化学需氧量检测装置，包括底座、控制器、反应室、半导体加热丝、屏蔽膜、温度传感器、通风柜和排气扇，所述控制器和通风柜依次安装在底座上，所述排气扇安装在通风柜的顶部居中位置处，所述反应室设置在通风柜内，所述半导体加热丝围设在反应室外，所述温度传感器设置在反应室的内底部，所述屏蔽膜围设在反应室外且安装在底座的上表面上，所述通风柜内通过对位机构连接有水垢清洁机构。这样可以首先通过对位机构将水垢清洁机构移至反应室正上方后再移至反应室内方便后续的对反应室内壁上水垢的清洁工作。

进一步的，所述对位机构包括横向设置在通风柜内的电动滑轨，所述电动滑轨的左右两端分别与通风柜内两相对的内侧壁固接，所述电动滑轨上滑动安装有电动滑块，所述电动滑块的底部安装有第一伸缩机构，且所述第一伸缩机构的输出端与水垢清洁机构相连接。通过电动滑块在电动滑轨上滑移至电动滑轨的中部之后第一伸缩机构输出端伸长促使水垢清洁机构被送至与反应室内部相贴合的位置处停止，方便后续对反应室内壁上水垢清洁工作顺利开展。

进一步的，所述水垢清洁机构包括通过电机安装座固定安装在第一伸缩机构输出端上的驱动电机，所述驱动电机的输出端上固定连接有转轴，所述转轴上通过支架对称安装有两个第一清洁部件，且两个所述第一清洁部件的下方均设置有第二清洁部件。通过设置第一、二清洁部件能实现对反应室内壁上水垢的多方位清洁，效果更佳。

进一步的，所述第一清洁部件包括安装在支架上的竖板，所述竖板远离转轴的一侧及其底部共同通过粘剂粘接有第一清洁刷。驱动电机带动转轴转动这样两个第一清洁部件可以在绕转轴轴心转动的过程中实现对反应室内侧壁上水垢的有效刮擦和清洁，针对性强。

进一步的，所述第二清洁部件包括通过销轴活动连接在竖板下端上的偏转板，所述偏转板的底部通过粘剂粘接有第二清洁刷，且所述竖板靠近转轴的一侧铰接有第二伸缩机构，所述第二伸缩机构的输出端与偏转板的背部相铰接。控制两个第二伸缩机构输出端同步伸长可以促使两个偏转板绕两个销轴的轴心相对转动，最终达到两个第二清洁刷与反应室内底部贴合的状态，并且两个第二清洁刷之间的缝隙可以为凸出的温度传感器留出足够的空间，避免第二清洁部件在对反应室内底部上的水垢刮擦清洁时造成温度传感器的意外损坏，实用性强，针对性也进一步获得提升。

进一步的，所述第一伸缩机构与第二伸缩机构均为电动伸缩杆。电动伸缩杆可以较为简单地实现对偏转板状态的调整，并且该伸缩机构相对来说简单易得，并且易于操作控制。

3.有益效果

相比于现有技术，本实用新型的优点在于：

(1)本方案可以首先通过对位机构将水垢清洁机构移至反应室正上方后再移至反应室内方便后续的对反应室内壁上水垢的清洁工作，之后便可以实现对反应室内壁上水垢的有效清洁，从而保证该检测装置的正常检测活动，确保检测数据的准确性。

(2)通过电动滑块在电动滑轨上滑移至电动滑轨的中部之后第一伸缩机构输出端伸长促使水垢清洁机构被送至与反应室内部相贴合的位置处停止，方便后续对反应室内壁上水垢清洁工作顺利开展。

(3)通过设置第一、二清洁部件能实现对反应室内壁上水垢的多方位清洁，效果更佳。

(4)驱动电机带动转轴转动这样两个第一清洁部件可以在绕转轴轴心转动的过程中实现对反应室内侧壁上水垢的有效刮擦和清洁，针对性强。

(5)控制两个第二伸缩机构输出端同步伸长可以促使两个偏转板绕两个销轴的轴心相对转动，最终达到两个第二清洁刷与反应室内底部贴合的状态，并且两个第二清洁刷之间的缝隙可以为凸出的温度传感器留出足够的空间，避免第二清洁部件在对反应室内底部上的水垢刮擦清洁时造成温度传感器的意外损坏，实用性强，针对性也进一步获得提升。

(6)电动伸缩杆可以较为简单地实现对偏转板状态的调整，并且该伸缩机构相对来说简单易得，并且易于操作控制。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型中转轴上第一、二清洁部件的结构放大图。

图中标号说明：

1底座、2控制器、3反应室、4半导体加热丝、5屏蔽膜、6温度传感器、7通风柜、8排气扇、9电动滑轨、10电动滑块、11第一伸缩机构、12驱动电机、13转轴、14支架、15竖板、16第一清洁刷、17第二伸缩机构、18偏转板、19第二清洁刷。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述；显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”、“顶/底端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“套设/接”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

请参阅图1-2，一种水质化学需氧量检测装置，包括底座1、控制器2、反应室3、半导体加热丝4、屏蔽膜5、温度传感器6、通风柜7和排气扇8，控制器2和通风柜7依次安装在底座1上，排气扇8安装在通风柜7的顶部居中位置处，反应室3设置在通风柜7内，半导体加热丝4围设在反应室3外，温度传感器6设置在反应室3的内底部，屏蔽膜5围设在反应室3外且安装在底座1的上表面上，通风柜7内通过对位机构连接有水垢清洁机构；对位机构包括横向设置在通风柜7内的电动滑轨9，电动滑轨9的左右两端分别与通风柜7内两相对的内侧壁固接，电动滑轨9上滑动安装有电动滑块10，电动滑块10的底部安装有第一伸缩机构11，且第一伸缩机构11的输出端与水垢清洁机构相连接；

水垢清洁机构包括通过电机安装座固定安装在第一伸缩机构11输出端上的驱动电机12，驱动电机12的输出端上固定连接有转轴13，转轴13上通过支架14对称安装有两个第一清洁部件，且两个第一清洁部件的下方均设置有第二清洁部件，通过设置第一、二清洁部件能实现对反应室3内壁上水垢的多方位清洁，效果更佳；第一清洁部件包括安装在支架14上的竖板15，竖板15远离转轴13的一侧及其底部共同通过粘剂粘接有第一清洁刷16，两个第一清洁部件可以在绕转轴13轴心转动的过程中实现对反应室3内侧壁上水垢的有效刮擦和清洁，具有很强的针对性；第二清洁部件包括通过销轴活动连接在竖板15下端上的偏转板18，偏转板18的底部通过粘剂粘接有第二清洁刷19，且竖板15靠近转轴13的一侧铰接有第二伸缩机构17，第二伸缩机构17的输出端与偏转板18的背部相铰接，当两个第二清洁刷19达到与反应室3内底部贴合的状态时，第二清洁部件就可以实现对反应室3内底部上水垢的有效刮擦清洁了，针对性获得了进一步的提升。

第一伸缩机构11与第二伸缩机构17均为电动伸缩杆。这里的电动伸缩杆为现有技术，其控制方式、电路设置、具体型号等在此不再过多阐述。

工作原理：通过电动滑块10在电动滑轨9上滑移至电动滑轨9的中部之后第一伸缩机构11输出端伸长促使水垢清洁机构被送至与反应室3内部相贴合的位置处停止，之后驱动电机12带动转轴13转动这样两个第一清洁部件可以在绕转轴13轴心转动的过程中实现对反应室3内侧壁上水垢的有效刮擦和清洁，同时通过控制两个第二伸缩机构17输出端同步伸长可以促使两个偏转板18绕两个销轴的轴心相对转动，最终达到两个第二清洁刷19与反应室3内底部贴合的状态，并以此来实现对反应室3内侧壁上水垢的有效刮擦和清洁。

综上所述，通过设置第一、二清洁部件能实现对反应室3内壁上水垢的多方位清洁，实用性更强，针对性也大大地获得提升，更进一步地保证了该检测装置正常检测活动的开展，最大程度上确保检测数据的准确性。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式；但本实用新型的保护范围并不局限于此。任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其改进构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。