一种检测液晶玻璃表面缺陷的双光路成像模组的制作方法

本实用新型涉及液晶玻璃外观检测模组，具体为一种检测液晶玻璃表面缺陷的双光路成像模组。

背景技术：

现有的线扫成像模组采用线扫相机、光源分体式结构成像，光源和相机分别固定，通过光源发射的光线经过产品反射进入相机镜头由线扫相机捕获成像，同时亮场和暗场需要两套独立的相机和光源，需要的硬件成本和空间成本较大，同时光源和线扫相机的独立安装使得两者在工业环境中不能保证相对位置的固定，使得机台抖动对光学系统的影响很大，拍摄图像产生的波动和抖动无法消除。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种占用空间尺寸较小、将亮场和暗场光路集中在同一位置成像的检测模组。

为实现上述目的，本实用新型采用如下方案：一种检测液晶玻璃表面缺陷的双光路成像模组，包括设置在产品上方的第一照射模块和第二照射模块，所述第一照射模块的反射光路上设有反射模块，所述反射模块的反射光路上设有检测模块。

进一步的，所述反射模块包括设置在第一照射模块反射光路上的第一反射镜，所述第一反射镜的反射光路上设有第二反射镜，所述第二反射镜的反射光路上设有检测模块，利用镜面反射成像光路，将检测模块角度调整转换成反射镜角度调整，简化角度调整机构，同时缩小整个光学模组的几何尺寸。

进一步的，所述第一照射模块和所述第二照射模块均为条形光源。

进一步的，所述检测模块为线扫描相机，所述线扫描相机上设有电动调节机构，能够定量精准的调节相机工作距离。

进一步的，所述产品下方设有滚轮，用于传送产品，实现在线检测，减少人工成本。

本实用新型的有益效果是：利用反射模块反射，使得光路能在较小的空间内实现复杂的光学系统，光学模组整体结构紧凑、方便调节、便于安装；利用一个线扫相机，完成亮场、暗场同时成像，降低硬件成本，并且不需要复杂的控制对位程序，将亮场、暗场图像在空间位置上精准对位，降低控制技术调节复杂度。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图。

图中标记为：1、第一光源，2、第二光源，3、产品，4、第一反射镜，5、第二反射镜，6、线扫描相机，7、电动调节机构，8、滚轮。

具体实施方式

下面将结合附图和具体实施例对本实用新型进一步详细说明。

参见图1，本实施例提供了一种检测液晶玻璃表面缺陷的双光路成像模组，包括设置在产品3上方的第一光源1和第二光源2，第一光源1的反射光路上设有第一反射镜4，第一反射镜4的反射光路上设有第二反射镜5，第二反射镜5的反射光路上设有线扫描相机6，线扫描相机6上设有电动调节机构7，产品3下方设有传送产品的滚轮8。

检测时，首先调整第一光源1和第二光源2的角度，使光源光斑置于模组中心，调整第一反射镜4和第二反射镜5的角度，使相机视野置于模组中心，再调整线扫描相机6工作距离，使其能够清晰成像，通过控制程序控制第一光源1和第二光源2分别亮，通过电动调节机构7实时调节，线扫描相机6依据光源亮的顺序依次拍图，计算出产品表面缺陷。

尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

技术特征：

1.一种检测液晶玻璃表面缺陷的双光路成像模组，其特征在于：包括设置在产品上方的第一照射模块和第二照射模块，所述第一照射模块的反射光路上设有反射模块，所述反射模块的反射光路上设有检测模块。

2.根据权利要求1所述的一种检测液晶玻璃表面缺陷的双光路成像模组，其特征在于：所述反射模块包括设置在第一照射模块反射光路上的第一反射镜，所述第一反射镜的反射光路上设有第二反射镜，所述第二反射镜的反射光路上设有检测模块。

3.根据权利要求1所述的一种检测液晶玻璃表面缺陷的双光路成像模组，其特征在于：所述第一照射模块和所述第二照射模块均为条形光源。

4.根据权利要求1所述的一种检测液晶玻璃表面缺陷的双光路成像模组，其特征在于：所述检测模块为线扫描相机。

5.根据权利要求4所述的一种检测液晶玻璃表面缺陷的双光路成像模组，其特征在于：所述线扫描相机上设有电动调节机构。

6.根据权利要求1所述的一种检测液晶玻璃表面缺陷的双光路成像模组，其特征在于：所述产品下方设有滚轮，用于传送产品。

技术总结
本实用新型公开了一种检测液晶玻璃表面缺陷的双光路成像模组，包括设置在产品上方的第一照射模块和第二照射模块，所述第一照射模块的反射光路上设有反射模块，所述反射模块的反射光路上设有检测模块。利用反射模块反射，使得光路能在较小的空间内实现复杂的光学系统，光学模组整体结构紧凑、方便调节、便于安装；利用一个线扫相机，完成亮场、暗场同时成像，降低硬件成本，并且不需要复杂的控制对位程序，将亮场、暗场图像在空间位置上精准对位，降低控制技术调节复杂度。

技术研发人员：戴锐;张强勇;刘锦云
受保护的技术使用者：南京颖图电子技术有限公司
技术研发日：2019.11.20
技术公布日：2020.07.28