水模的制作方法

本实用新型公开了一种水模。

背景技术：

核磁共振设备中关键的设备永磁体在装配完成后，由于加工误差以及温度、环境等因素的影响，主磁场的均匀度往往与设计指标相差较大，在无源匀场完成后，一般需使用特斯拉计和匀场工装测量并记录，经计算得出成像均匀区域。

例如，可将磁体成像区分为13层，每层测量12个均匀分布的点，并将匀场工装固定在磁体两极，使用特斯拉计的探头逐点测量并记录，从而经计算得出成像均匀区域。

而要计算出成像均匀区域，首先得给永磁体匀场。目前，匀场工程师一般是凭借以往的经验试探性地确定用于补偿不均匀场的小磁片的片数及位置，此过程一般需要2个工程师调试3～4天才能完成，最后根据特斯拉计测量的数据经过计算才能得到成像均匀区域。

因此，现有技术一般需借助特斯拉计进行成像均匀区域的测试，且一般需要经过匀场才能计算出的成像均匀区域，而匀场的操作不仅繁杂而且需要花费较多时间。

技术实现要素：

有鉴于此，本实用新型的一目的在于提供一种水模，可在短时间内得出核磁共振设备的成像均匀区域，且在没有特斯拉计的条件下，也可得出成像均匀区域。

为了实现上述目的，本实用新型提供了一种水模，其特点在于，所述水模是用于核磁共振设备的成像，其包括：壳体；以及格栅，设置于所述壳体的内部，所述格栅由多个格体组成，且在所述水模置于所述核磁共振设备内时所述格栅是平行于或者垂直于所述核磁共振设备的磁体极面。

在本实用新型的一实施例中，所述多个格体排列成多行和多列，每一所述格体为正方形格体，所述壳体为圆柱形壳体。

在本实用新型的一实施例中，所述水模是置于所述核磁共振设备的磁体中心，且所述格栅的中心是与所述磁体中心相重叠。

在本实用新型的一实施例中，每一所述格体为15mm*15mm的方格，且相邻两个所述格体之间的间隔为1mm。

在本实用新型的一实施例中，所述水模为横置格栅水模，其中所述格栅是通过多个固定柱安装固定于所述壳体的内部，且所述格栅是沿平行于所述壳体的圆柱形截面的横向设置；或者，所述水模为纵置格栅水模，所述格栅是通过粘接固定于所述壳体的内部，且所述格栅是沿垂直于所述壳体的圆柱形截面的纵向设置。

在本实用新型的一实施例中，所述水模的所述壳体内注入有氯化钠和五水硫酸铜溶液。

本实用新型的水模是由壳体及其内部的格栅组成，在使用磁共振设备对其扫描成像后，通过得到的图像即可得出核磁共振设备的有效成像范围，比如成像均匀区域。相比于传统经过匀场才能得出成像均匀区域，本实用新型可在短时间内即可得出核磁共振设备的成像均匀区域，且在没有特斯拉计的条件下，也可得出成像均匀区域。

以下将以实施方式对上述的说明作详细的描述，并对本实用新型的技术方案提供更进一步的解释。

附图说明

为让本实用新型的上述和其他目的、特征、优点与实施例能更明显易懂，所附附图的说明如下：

图1为本实用新型的一较佳实施例的水模的结构示意图，其中所述水模为横置格栅水模，且格栅平行于磁极极面；

图2为本实用新型的另一较佳实施例的水模的结构示意图，其中所述水模为纵置格栅水模，且格栅垂直于磁极极面；

图3为本实用新型的核磁共振设备的成像均匀区域的测试方法的流程示意图；

图4为图1所示的横置格栅水模纵向放置的状态示意图，其中格栅垂直于磁极极面；

图5为本实用新型的格栅经扫描得到的扫描图像示意图；

图6为本实用新型的格栅的扫描图像中的部分图像示意图，其中示出了形变的边缘。

具体实施方式

为了使本实用新型的叙述更佳详尽与完备，可参照所附的附图及以下所述各种实施例，附图中相同的号码代表相同或相似的组件。另一方面，众所周知的组件与步骤并未描述于实施例中，以避免对本实用新型造成不必要的限制。此外，为简化附图起见，一些已知惯用的结构与元件在附图中将以简单示意的方式绘示。

本实用新型水模可用于核磁共振设备的成像，其可包括壳体以及格栅，其中所述格栅是设置于所述壳体的内部。并且，所述格栅可由多个格体组成，且在所述水模置于核磁共振设备内时所述格栅是平行于或者垂直于所述核磁共振设备的磁体极面。

如图1所示，其示出了一种横置格栅水模10的结构。其中，壳体11为圆柱形壳体，格栅12是由多个格体121组成，这些格体121排列成多行和多列。并且，所述格栅12是通过多个固定柱13安装固定于所述壳体11的内部，且所述格栅12是沿平行于所述壳体11的圆柱形截面111的横向设置，即沿图中x方向设置。并且，所述格栅12是平行于所述核磁共振设备的磁体极面m。

如图2所示，其示出了一种纵置格栅水模20的结构。其中，壳体21为圆柱形壳体，所述格栅22是由多个格体221组成，这些格体121排列成多行和多列。并且，所述格栅22是通过粘接固定于所述壳体21的内部，且所述格栅22是沿垂直于所述壳体21的圆柱形截面211的纵向设置。即沿图中x方向设置。并且，所述格栅22是垂直于所述核磁共振设备的磁体极面m。

在图1、图2所示的实施例中，所述格栅12、22的每一格体121、221可为正方形格体，例如可为15mm*15mm的方格，且相邻两个格体之间的间隔为1mm。

在本实用新型中，所述横置格栅水模10、纵置格栅水模20可置于核磁共振设备的磁体中心，且所述格栅的中心是与所述磁体中心相重叠。并且，所述横置格栅水模10、纵置格栅水模20的壳体11、21内可注入有氯化钠和五水硫酸铜溶液，以供核磁共振设备进行扫描成像。

如图3所示，本实用新型的核磁共振设备的成像均匀区域的测试方法包括：

步骤s1：利用所述核磁共振设备对置于其内的水模的格栅进行扫描，以获得所述格栅的矢状位、横断位和冠状位中至少一扫描方位的扫描图像；

步骤s2：根据所述扫描图像，计算出所述格栅未发生形变的区域，以得到所述核磁共振设备的成像均匀区域。

在步骤s1中，可将水模注入氯化钠和五水硫酸铜溶液，随后将水模置于磁体中心，保证水模内部的格栅方向平行于磁体极面，或者垂直于磁体极面。例如，可通过如图1和图2所示的两种水模配合，扫描出冠状位(coronalsection)、矢状位(mediansagittalsection)以及横断位(transversesection)三个扫描方位的扫描图像。

具体地，如图1所示，通过使横置格栅水模10的格栅12平行于所述核磁共振设备的磁体极面m进行扫描，能够获得所述格栅12的矢状位扫描图像。如图4所示，通过使横置格栅水模10的格栅12垂直于所述核磁共振设备的磁体极面m，能够获得所述格栅12的横断位扫描图像。如图2所示，通过使纵置格栅水模20的格栅22垂直于所述核磁共振设备的磁体极面m，且使所述格栅处于水平方向，能够获得所述格栅22的冠状位扫描图像。

在步骤s2中，是根据所述扫描图像，例如包括矢状位扫描图像、横断位扫描图像以及冠状位扫描图像，计算所述格栅12、22的每一格体所对应的各边缘的形变率。其中，所述形变率小于等于一预定值所对应的格体的区域为成像均匀区域，所述形变率大于所述预定值所对应的格体的区域为非均匀成像区域。

其中，所述形变率是满足：

形变率＝△x/格体边长*100％；

其中，△x为格体的边缘的形变量(如图6所示)。

如图5和图6所示，通过扫描图像可以看出，图像里格栅在某一范围内，其边缘仍保持水平或垂直的直线，在超过这一范围，图像里格栅的边缘发生不规则的形变，在形变率小于等于10％，可认为是成像均匀区域a1；当形变率大于10％，则为非均匀成像区域。通过扫描软件，可计算出格栅未发生形变的区域，即可得出所述核磁共振设备的成像均匀区域，如图5所示，所述成像均匀区域a1例如可为一个圆形或者椭圆形的区域，其中o为所述成像均匀区域a1的中心。

当然，可以理解的是，在其他实施例中，也可以仅通过所述三个扫描方位的扫描图像中的一个或两个来确定所述核磁共振设备的有效成像范围，并且，所述形变率的预定值也可以采用其他数值，这些并不作为对本实用新型的限制。

相比传统需经过匀场才能得出成像均匀区域，本实用新型可在短时间内经过扫描软件即可计算得出核磁共振设备的成像均匀区域，且在没有特斯拉计的条件下，也可得出成像均匀区域。

虽然本实用新型已以实施方式揭露如上，然其并非用以限定本实用新型，任何熟悉此技艺者，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰，因此本实用新型的保护范围当视所附的权利要求书所界定的范围为准。