1.一种不同埋深水合物藏的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
s1.水合物体系a的制备，包括以下具体步骤:
s1.1.在已清洗过且干燥的已知容积v的反应釜内填满密度已知的沉积物并压实，记录填入沉积物的重量m，盖上釜盖，利用甲烷气进行数次吹扫后，再持续注入纯甲烷气，通过气体流量计控制进入反应釜的甲烷气含量为vch4，系统内注入的甲烷气体物质量nch4＝vch4/22.4，关闭注入系统，将系统温度设定为室温，并待系统稳定，其中vch4的单位为ml，nch4的单位为mol；
s1.2.再次打开注入系统，向反应釜内注入去离子水，去离子水的注入量为vw1，关闭注入系统并待系统稳定后，将反应釜的温度降至0.5℃，待水合物合成和系统最终稳定后，记录此时系统的平均温度thd1与压力phd1，其中vw1的单位为ml，thd1的单位为℃，phd1的单位为mpa；
去离子水注入量vw1为
ln(pe)＝a0+a1t+a2t2+a3t3+a4t4+a5t5,(1)
其中，t＝thd1+273.15，t的单位k，a0～a5取值条件如下：
s1.3.通过公式(1),反向求得系统稳定压力phd1条件下对应的平衡温度te1，以1/4～2℃/小时的速率将系统温度缓慢升温至(te1-tt)，其中，tt为指定值，且tt<te1，此时形成的水合物体系a的最终平均温度为tend1＝te1-tt，压力为phd1；
s2.水合物体系b的制备，包括以下具体步骤:
s2.1.重复s1.1，沉积物注入量和甲烷气注入量与s1.1中的注入量完全相同；
s2.2.重复s1.2，平稳注入的去离子水量为vw2，vw2>vw1，将反应釜的温度降温至0.5℃，待水合物合成和系统最终稳定后，记录系统的平均温度thd2与压力phd2；
s2.3.利用公式(1)与phd2值，计算出水合物体系b在系统稳定压力phd2下对应的平衡温度te2，利用温控系统以1/4～2℃/小时的速率将系统温度缓慢升温至(te2-tt)，其tt值与步骤s1.3中的tt值相同，此时形成水合物体系b的最终平均温度为tend2＝te2-tt，压力为phd2；
s3.重复上述步骤，根据注入的去离子水量的不同，依次形成一系列温度压力不同、但其他储藏特征相近的系列水合物藏，从而形成了埋深不同、但与水合物相平衡曲线平行的水合物藏。
2.根据权利要求1所述的不同埋深水合物藏的制备方法，其特征在于，所述用于该制备方法的不同埋深水合物藏制备系统包括注入系统、水合物合成系统和温控系统，注入系统包括甲烷注入装置和去离子水注入装置，甲烷注入装置包括气体流量计，水合物合成系统包括反应釜。
3.根据权利要求1所述的不同埋深水合物藏的制备方法，其特征在于，在注入去离子水的过程中，若第一次注入的去离子水量vwi不满足