移液点样工作站的制作方法

1.本技术涉及检测技术领域，尤其涉及移液点样工作站。


背景技术：

2.生物芯片技术又称微陈列技术，其将生化分析过程集成于芯片表面，从而实现对生物成分的高通量快速检测。生物芯片点样设备是将微量生物样品按照预定的方式转移到生物芯片的载体上形成微阵列的装置。
3.传统方案中，检测相机通常设置于框架结构的顶部，在液滴模块点样后，通过检测相机检测液滴的大小、分布，判断点样是否符合要求。其位置固定不变，例如针头在芯片上点样步骤结束后，检测相机才能拍照整体判断点样结果是否符合加工要求，效率低下。
4.另外，在生物芯片点样设备中，点样的稳定(例如变异系数控制在一定范围)、微量(例如纳升的量级)是行业内的一个重要发展趋势。点样方式分为接触式和非接触式两大类。现有的接触式点样方式主要是点样针尖端的液体与芯片直接接触，通过毛细作用形成阵列点。这样的点样方式的缺点是液滴的大小(出液量)不够均匀；点样针头单次可承载的试剂量很少，效率极低。现有的非接触式点样方式主要是借助注射泵和电磁阀的原理，先将样品从点样头吸进管道内或者整个系统液罐内充满液体样品，喷点时靠注射泵推，同时微小电磁阀打开，将设定的点样体积在瞬间从喷头喷出，形成所需要的阵列。该方式的点样直径偏大，操作较为复杂。
5.再者，对于皮升、纳升级别的点样设备来说，其针头在每次点样后都需要清洗。在例如cn217017686u公开的清洗设备中，针头需要插入设备内部的特定位置再进行清洗。对于对位的精度要求较高，且花费时间较长，不够方便。对于一些腐蚀性、易扩散的液体样本，插入清洗装置内部意味着这些样本要与清洗装置内部接触，为了避免交叉污染以及提高清洗设备的使用寿命，应尽量避免这种情况发生。


技术实现要素：

6.为了解决或改善背景技术提到的至少一个问题，本技术提供了移液点样工作站。
7.该移液点样工作站包括：
8.基板；
9.运动模块，所述运动模块安装于所述基板，所述运动模块包括导轨与滑块，所述滑块能够实现在相互垂直的x、y、z三个方向上移动；
10.液滴模块，所述液滴模块包括针头，所述针头连通于外界环境，所述液滴模块被设置成通过控制气压而控制所述针头吸入及喷出液体；以及
11.检测模块，所述检测模块与所述液滴模块连接于所述运动模块中的同一所述滑块而使得所述液滴模块与所述检测模块能够同步运动，所述检测模块包括检测相机和补光设备，所述检测相机能够对所述针头喷出的液体进行拍照，在水平方向中，所述针头位于所述检测相机和所述补光设备之间。
12.在至少一个实施方式中，所述针头包括流道壁和位于所述流道壁中的流路，在沿着所述针头的轴线的截面中，所述流道壁的腰线与所述轴线的夹角为α，满足：α≤30
°
，所述流路的横截面为圆形。
13.在至少一个实施方式中，α≤10
°
。
14.在至少一个实施方式中，所述流路的直径为r1，所述流道壁的端面的直径为r2，满足：
15.130μm≤r1≤250μm；
16.350μm≤r2≤700μm。
17.在至少一个实施方式中，所述液滴模块还包括：
18.壳体结构，所述壳体结构中设置有流道，所述流道的一端通断可控地连接于所述针头；以及
19.流道控制结构，所述流道控制结构包括密封塞，所述流道控制结构通过控制所述密封塞堵塞或不堵塞所述针头与所述流道的连接位置而控制所述流道与所述针头的通断。
20.在至少一个实施方式中，还包括清洗模块，所述清洗模块包括清洗区，
21.所述清洗区包括：
22.清洗槽，所述清洗槽的底部设置有用于排出液体的排出口；
23.清洗柱，所述清洗柱设置在所述清洗槽中，所述清洗柱中设置有一个或多个清洗孔，所述清洗孔中能够竖直向上地喷出清洗液，且所述清洗液的喷出高度大于所述清洗柱的最高点。
24.在至少一个实施方式中，所述清洗柱的顶面包括倾斜程度不同的两个面，所述倾斜程度不同的两个面之间为转折部，所述转折部穿过所述清洗孔的圆心。
25.在至少一个实施方式中，所述倾斜程度不同的两个面包括水平面和斜面。
26.在至少一个实施方式中，所述斜面的高度随着远离所述转折部而逐渐降低，在水平方向上，所述斜面比所述水平面更靠近所述排出口。
27.在至少一个实施方式中，所述清洗模块包括干燥区，所述干燥区包括干燥块、底座和导轨，所述底座滑动安装于所述导轨，所述干燥块连接于所述底座，所述干燥块抵靠于所述清洗槽。
28.本技术通过设置使得检测模块和液滴模块能够同步运动，使点样与检测步骤可以连续进行。相比于现有技术中，检测模块位置固定，需要点样整体结束后才能拍照检测，本技术实施可以及时检测点样的合格与否，提高效率。
附图说明
29.图1示出了根据本技术实施方式的移液点样工作站的整体结构的示意图。
30.图2示出了根据本技术实施方式的移液点样工作站的部分结构的示意图。
31.图3示出了根据本技术实施方式的移液点样工作站的液滴模块的示意图。
32.图4示出了图3中的液滴模块的液滴模块主体的结构示意图。
33.图5示出了图4中的液滴模块主体的针头的结构示意图。
34.图6示出了根据本技术实施方式的移液点样工作站的点样工位模块和清洗模块的结构示意图。
35.图7示出了根据本技术实施方式的移液点样工作站的点样工位模块中的安装槽的俯视图。
36.图8示出了根据本技术实施方式的移液点样工作站的清洗模块的清洗区的轴测图。
37.图9示出了图8中的清洗区的俯视图。
38.图10示出了根据本技术实施方式的移液点样工作站的清洗模块的干燥区的导轨与底座的侧视图。
39.附图标记说明
40.1框架；11基板；
41.2运动模块；21第一滑块；22第二滑块；23第三滑块；
42.3液滴模块；31气源；32气源控制器；33液滴主体模块；331第一流道；332第二流道；333第三流道；3331第一端；3332第二端；3333端部开口；334针头；3341第一端；3342第二端；335壳体结构；336流道控制结构；3361密封塞；3362连接件；3363主体；3371第一挡板；3372第二挡板；
43.4检测模块；41检测相机；42补光设备；
44.5试剂模块；
45.6点样工位模块；61第一基座；611安装槽；612第一冗余空间；613第二冗余空间；614通孔；62基柱；63第二基座；
46.7清洗模块；71清洗区；711清洗槽；7111排出口；712清洗柱；7121清洗孔；7122转折部；7123水平面；7124斜面；7125弧形面；713连接块；72干燥区；721干燥块；722底座；723导轨；
47.l1腰线；l2轴线。
具体实施方式
48.下面参照附图描述本技术的示例性实施方式。应当理解，这些具体的说明仅用于示教本领域技术人员如何实施本技术，而不用于穷举本技术的所有可行的方式，也不用于限制本技术的范围。
49.本技术实施方式提供了移液点样工作站。参见图1、图2，移液点样工作站可以包括框架1、运动模块2、液滴模块3(图中未示出)、检测模块4、试剂模块5、点样工位模块6、清洗模块7。
50.参见图1、图2，框架1可以包括基板11、壳体和电气柜。上述运动模块2、试剂模块5、点样工位模块6、清洗模块7可以安装于基板11。基板11的底部可以设置电气柜。壳体可以设置例如透明玻璃、塑料等材料，起到一定密封作用的同时，方便对移液、点样过程进行观察。
51.参见图2，其中，x、y、z三个方向互相垂直。运动模块2可以安装于基板11。运动模块2可以为三轴运动平台，使得安装于运动模块2上的例如液滴模块3(图中未示出)、检测模块4可以实现在x、y、z三个方向的运动。
52.示例性地，运动模块2可以通过滑块、导轨、电机等结构组成。例如y方向并排设置两个导轨。当然，x方向、z方向也可以并排设置两个导轨，增加稳定性。其中的滑块可以包括在z向移动的第一滑块21、在x方向移动的第二滑块22和在y向移动的第三滑块23。滑块上可
以设置导轨而发挥导向作用，第二滑块22可以为或包括第一滑块21的导轨，第三滑块23可以为或包括第二滑块22的导轨。液滴模块3、检测模块4可以连接于第一滑块21，进而可以实现在x、y、z三个方向的运动。
53.参见图3，液滴模块3可以包括依次连接的气源31、气源控制器32、液滴模块主体33。液滴模块3可以实现吸液及喷出液体的功能。其中的气源31可以包括储气罐等。气源控制器32可以为阀门、气压传感器等，液滴模块主体33可以为喷嘴，通过控制液滴模块主体33的气压，例如通过为液滴模块主体33提供负压、正压，实现液体的吸入及喷出。
54.参见图4，液滴模块主体33可以包括流道，流道可以包括第一流道331、第二流道332、第三流道333、针头334、壳体结构335、流道控制结构336。其中，第一流道331、第二流道332和第三流道333可以设置于壳体结构335内部。
55.第一流道331可以为圆柱状流道，其连通于气源控制器32和第二流道332。
56.第二流道332的横截面可以为圆环。第二流道332连通于第一流道331和第三流道333。当然，第二流道332的横截面也可以不都是圆环，第二流道332连接于第三流道333的位置的横截面为圆环即可。
57.第三流道333的第一端3331连通于第二流道332。第一端3331的结构可以为空心圆柱，其截面可以为圆环，第三流道333的第二端3332的截面可以为圆环。可以理解，截面为圆环的第三流道333和第二流道333尽可能地扩大了可容纳液体的体积，扩大了单次能够喷出液体的量，在能够实现皮升、纳升点样的同时，也能进行微升、毫升量级的点样。
58.第三流道333的第二端3332可以沿径向内侧偏折，且使第二端3332的端部开口3333靠近针头334。进一步地，第二端3332的端部开口3333可以朝向径向内侧。
59.针头334可以为圆柱状流道，其可以设置于壳体结构335的外侧。针头334的第一端3341连通于壳体结构335的内部，针头334的第二端3342直接连通于外界环境。
60.流道控制结构336可以包括密封塞3361和密封塞移位装置。密封塞移位装置可以控制密封塞3361位移，以控制第三流道333和针头334之间的通断。例如，密封塞3361移动而阻挡针头334的第一端3341，或者密封塞3361移开阻挡位置，使得第三流道333和针头334连通。
61.示例性地，密封塞移位装置可以包括连接件3362、主体3363。连接件3362的端部可以设置密封塞3361。可以利用电磁力等方式实现连接件3362的轴向移动，促使密封塞3361压住或离开针头334的第一端3341，实现阻挡或解除阻挡。连接件3362可以为推杆，也可以为弹簧等。
62.本技术通过密封塞控制流道通断，通过气源控制器实现压力的调节，相比于没有物理通断控制，仅靠气压控制液体喷出与否，本技术实施方式物理地控制了流道通断，使喷液量更精确。
63.可以理解，将密封塞移位装置设置在轴线位置能够起到节省空间。但是，在本技术的其他实施方式中，可以不将密封塞移位装置设置在轴线上。例如，可以调整流道的结构，将密封塞移位装置设置在侧面。当然，密封塞移位装置还可以为其他起到使密封塞3361能够阻挡针头334的结构，本技术不限制其具体结构。
64.壳体结构335中还可以设置挡板结构。例如，挡板结构可以包括第一挡板3371和第二挡板3372。
65.第一挡板3371可以位于第三流道333的偏折的第二端3332。密封塞3361的直径可以大于连接件3362的直径，在密封塞3361远离针头334运动后，第一挡板3371可以限制密封塞3361的轴向移动范围。
66.另外，液滴模块3吸液时，可能发生针头334中的液体没有被及时吸附入第三流道333，而滞留于壳体结构335内的情况。第一挡板3371能阻挡这些滞留液体，从而使液体尽可能进入第三流道333，提高液体控制的灵敏程度，提高精度。
67.更具体地，即使吸液时，液体不完全进入第三流道333，液体也至多溢出到连接件3362、密封塞3361、第三流道333的偏折的第二端3332和第一挡板3371围成的小的空间中。
68.优选地，第三流道333的偏折的第二端3332穿过第一挡板3371的位置被密封。优选地，第一挡板3371和连接件3362之间形成密封。例如，第一挡板3371和连接件3362之间可以设置有密封件，或者第一挡板3371可以由橡胶、硅胶、聚四氟乙烯(ptfe)等易于与连接件3362形成密封的材料制成，或者包括这些材料。
69.第一挡板3371可以设置镂空的孔，实现与第三流道333的拼接，第一挡板3371可以为位于第三通道333内外两侧的分体结构；或者还可以通过3d打印的方式一体化制造挡板与流道。
70.同理，第二挡板3372可以设置镂空的孔，实现与第三流道333的拼接，第二挡板3372可以为位于第三流道333内外两侧的分体结构。第二挡板3372可以用于固定密封塞移位装置的主体3363的位置，例如可以用胶粘等方式将主体3363固定于第二挡板3372。
71.参见图5，针头334可以包括流道壁3343和位于流道壁3343中的流路3344。流道壁3343的端部(例如图4的下端部)可以设置斜面或不设置斜面，使其端部为圆台形或圆柱形。在沿着针头334轴线的截面图中，流道壁3343的腰线l1(或称母线)与轴线l2的夹角为α，α满足：α≤30
°
。流路3344的横截面可以为圆形。
72.其中，流路3344的直径为r1，流道壁3343的端面的直径为r2，其具有如下面的表格所示的实验结果。
73.表1：
74.75.[0076][0077]
表2：
[0078]
[0079][0080]
表3：
[0081]
[0082][0083]
表4：
[0084]
[0085][0086]
表5：
[0087][0088]
表6：
[0089]
[0090][0091]
由表1至表4可知，当其他参数不变，流道壁3343的腰线l1与轴线l2的夹角α越小，出液量的变异系数越小，代表针头334的出液量越稳定。当夹角α≤30
°
，具有使变异系数不超过15％的技术效果。优选地，当夹角α≤10
°
，具有使变异系数不超过10％的技术效果。
[0092]
由表1至表4中的任一表可知，当其他参数不变，气压越小，针头334的出液量(液滴体积)越小。即可以通过控制气源控制器32而控制气压，实现微量点样。
[0093]
由表5可知，当其他参数不变，流路3344的直径r1越小，出液量的变异系数越小，代表针头334的出液量越稳定。
[0094]
由表6可知，当其他参数不变，流道壁3343的端面的直径r2越小，出液量的变异系数越小，代表针头334的出液量越稳定。
[0095]
本技术的流路3344的直径r1可以满足：130μm≤r1≤250μm。流道壁3343的端面的直径r2可以满足：350μm≤r2≤700μm。
[0096]
可以理解，本技术的点样类型为非接触式点样。相比于传统的接触式点样，液滴出液量稳定，变异系数小，针头能够承载的试剂量相对较多。相比于传统的注射泵，气压控制使出液量可以更小，满足更多的使用场景。
[0097]
参见图2，检测模块4可以包括检测相机41、补光设备42。检测相机41可以倾斜并对准针头334。补光设备42可以为补光灯等，为检测相机41提供充足的光源。补光设备42可以设置在检测相机41的对侧，即水平方向中，针头334(图2中未示出)设置在检测相机41和补光设备42的中间位置。
[0098]
检测模块4与液滴模块3可以连接在一起，实现同步运动。
[0099]
传统方案中，检测相机通常设置于框架结构的顶部，在液滴模块3点样后，通过检测相机检测液滴的大小、分布，判断点样是否符合要求。其位置固定不变，例如针头在芯片上点样步骤结束后，检测相机才能拍照整体判断点样结果是否符合加工要求，其效率低下。例如有10处点样操作，第5处点样不合格，但在第10处点样结束后才能判断是否合格，浪费时间和材料，工作效率不高。
[0100]
而本技术中的检测相机41可以与液滴模块3同步运动，其焦距可以固定，可以实现点样与检测的连续进行，效率较高。例如，整体有10处点样操作，第5处点样不合格，在第5处点样后即可通过检测模块4发现其不合格，配合相应程序即能够提醒操作人员或控制其他机械臂舍弃点样不合格的芯片，提高效率，节约材料。
[0101]
其中，检测相机41可以广义地理解为能够识别影像的装置。
[0102]
参见图2，试剂模块5可以为保存盛放试剂的结构。液体模块3可以从试剂模块5处吸收液体，并移动至点样工位模块6等，实现后续工序。
[0103]
参见图2、图6、图7，点样工位模块6可以包括第一基座61、基柱62和第二基座63。第二基座63安装于框架1的基板11。并且，第二基座63通过基柱62支撑第一基座61。
[0104]
第一基座61中设置有安装槽611。示例性地，以待点样的产品为矩形的芯片为例，安装槽611可以大致为矩形。安装槽611的四角的至少一角可以设置第一冗余空间612，安装槽611的两组对边中的至少一组对边可以设置第二冗余空间613。示例性地，第一冗余空间612和第二冗余空间613可以为超出安装槽611的矩形边的空间。如图7所示，第一冗余空间
612和第二冗余空间613的边线可以为弧形。第一冗余空间612可以为3/4圆，第二冗余空间613可以为半圆。
[0105]
第一冗余空间612避免了例如矩形的产品的直角与安装槽611的直角贴合，避免了放置和拿取产品的时候产品与安装槽611之间的作用力破坏产品。第二冗余空间613为产品的放置和拿取提供了操作空间。例如可以将镊子、夹爪伸入第二冗余空间613，进行夹持等操作。基于冗余空间发挥的作用，第二冗余空间613的面积可以大于第一冗余空间612的面积，更利于夹持操作。
[0106]
传统方案中，在安装槽611光滑或安装槽611中有水等液体的情况发生时，产品安装于安装槽611后，会发生难以拿取的问题。本技术的实施方式中，安装槽611中可以设置在高度方向上贯穿第一基座61的通孔614。通孔614一方面可以减少真空吸附的压力，另一方面可以提供施力位点，例如可以使用相关工具从第一基座61的底部的通孔614位置往上顶产品，再配合镊子、夹爪等工具从上方夹取产品，从而方便产品的拿取。防止直接从上方拿取的时候由于接触面积小、夹取力度大而造成产品的损坏。
[0107]
当然，本技术不限制点样工位模块6中设置的安装槽611的数量。例如可以设置多个安装槽611，使得能够对于多个产品同时点样。基柱62可以通过例如螺纹连接于第一基座61和第二基座63。可以理解，本技术中基座和基柱之间可拆卸的连接方式增加了灵活性，可以根据需要点样产品的不同，更换具有相应安装槽611的第一基座61。
[0108]
参见图6、图8、图9、图10，清洗模块7可以包括清洗区71和干燥区72。
[0109]
清洗区71可以包括清洗槽711、清洗柱712和连接块713。清洗槽711可以连接于连接块713，并通过连接块713安装于框架1的基板11。
[0110]
清洗柱712设置在清洗槽711之中。清洗柱712可以受控地喷出液体，例如液滴模块3的针头334在一次点样结束后，可以移至此处进行清洗，以进行下一轮的取液、点样、清洗操作。
[0111]
示例性地，清洗柱712中可以设置清洗孔7121，清洗孔7121中能够竖直地喷出清洗液，且清洗液的喷出高度高于清洗柱712的最高点。清洗孔7121的数量可以为一个或多个，例如图8中设置有三个清洗孔7121，可以实现三个针头的同时清洗。当然，本技术不限制清洗孔7121的数量。
[0112]
清洗柱712的顶面可以设置转折部7122，转折部7122的两侧包括倾斜程度不同的面，例如包括水平面7123和斜面7124。水平面7123可以平行于基板11，斜面7124可以倾斜于基板11。并且，斜面7124的高度随着远离转折部7122而逐渐降低。该转折部7122可以穿过清洗孔7121的圆心。
[0113]
斜面7124可以减少清洗液在清洗柱712顶面的滞留，并导引清洗液的流向。参见图9，可以在斜面7124那侧的清洗槽711的槽底位置(即，清洗槽的底部)设置排出口7111，使清洗液可以顺利排出。参见图6，斜面7124可以朝向远离点样工位模块6的一侧，尽量避免清洗液飞溅至点样工位模块6。
[0114]
水平面7123可以维持清洗孔7121中液体的冲出高度。例如，同样压力下，若将清洗柱712设置成整体斜面，其溶液的喷出高度会相当有限。为了保证能够清洗针头334，针头334需要一定程度伸入清洗孔7121，例如针头334要低于清洗孔7121的最高点。而点样过后的针头334很可能残留腐蚀性、扩散性的物质，若针头334伸入清洗孔7121，则其腐蚀性、扩
散性的物质容易顺着清洗孔7121扩散至清洗液的供应源，造成交叉污染。本技术中的水平面7123可以维持清洗液的冲出高度，针头334可以位于水平面7123(或称清洗柱712的最高点)的上方，而受到喷出的水柱的清洗，尽可能地避免了交叉污染的问题。
[0115]
清洗模块7包括清洗液供应源，该清洗液供应源连接于清洗孔7121。清洗液供应源与清洗孔7121之间可以设置止回阀(图中未示出)，防止交叉污染。
[0116]
清洗柱712的远离排出口7111的一侧可以设置弧形面7125，清洗槽711的底部可以设置倾斜的面，且使排出口7111为清洗槽711的底面的最低点，使得废液能够及时回收。
[0117]
参见图6、图10，干燥区72可以包括干燥块721、底座722和导轨723。干燥区72可以设置在清洗槽711和点样工位模块6之间。其中，干燥块721可以为无尘棉等。
[0118]
使点样工位模块6与清洗槽711之间具有一定距离，可以尽量避免清洗过程中液体飞溅至点样工位模块6。而在点样工位模块6与清洗槽711之间设置干燥区72，既使得模块整体紧凑，又可以一定程度吸收飞溅的液体，减少污染的可能性。在清洗针头334后，针头334可以伸入干燥块721，尽量干燥针头334。
[0119]
可以在基板11上设置导轨723，底座722滑动安装于导轨723，干燥块721连接于底座722。使得底座便于抽拉，从而使干燥块721易于更换。干燥块721可以包括外壳和芯，外壳可以设置磁体，以吸附固定于清洗槽711或点样工位模块6，减少晃动。
[0120]
以上所述是本技术的优选实施方式，应当指出，对于本领域技术人员来说，在不脱离本技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。
[0121]
另外，本技术中上述液体应作广义理解，例如液体可以包括溶液、悬浊液、乳浊液、分散液、熔融物、水等。
[0122]
本技术的实施方式公开了如下方案。
[0123]
该移液点样工作站包括：
[0124]
基板；
[0125]
运动模块，所述运动模块安装于所述基板，所述运动模块包括导轨与滑块，所述滑块能够实现在相互垂直的x、y、z三个方向上移动；
[0126]
液滴模块，所述液滴模块包括针头，所述针头连通于外界环境，所述液滴模块被设置成通过控制气压而控制所述针头吸入及喷出液体；以及
[0127]
检测模块，所述检测模块与所述液滴模块连接于所述运动模块中的同一所述滑块而使得所述液滴模块与所述检测模块能够同步运动，所述检测模块包括检测相机和补光设备，所述检测相机能够对所述针头喷出的液体进行拍照，在水平方向中，所述针头位于所述检测相机和所述补光设备之间。
[0128]
在至少一个实施方式中，所述针头包括流道壁和位于所述流道壁中的流路，在沿着所述针头的轴线的截面中，所述流道壁的腰线与所述轴线的夹角为α，满足：α≤30
°
，所述流路的横截面为圆形。
[0129]
在至少一个实施方式中，α≤10
°
。
[0130]
在至少一个实施方式中，所述流路的直径为r1，所述流道壁的端面的直径为r2，满足：
[0131]
130μm≤r1≤250μm；
[0132]
350μm≤r2≤700μm。
[0133]
在至少一个实施方式中，所述液滴模块还包括：
[0134]
壳体结构，所述壳体结构中设置有流道，所述流道的一端通断可控地连接于所述针头；以及
[0135]
流道控制结构，所述流道控制结构包括密封塞，所述流道控制结构通过控制所述密封塞堵塞或不堵塞所述针头与所述流道的连接位置而控制所述流道与所述针头的通断。
[0136]
在至少一个实施方式中，还包括清洗模块，所述清洗模块包括清洗区，
[0137]
所述清洗区包括：
[0138]
清洗槽，所述清洗槽的底部设置有用于排出液体的排出口；
[0139]
清洗柱，所述清洗柱设置在所述清洗槽中，所述清洗柱中设置有一个或多个清洗孔，所述清洗孔中能够竖直向上地喷出清洗液，且所述清洗液的喷出高度大于所述清洗柱的最高点。
[0140]
在至少一个实施方式中，所述清洗柱的顶面包括倾斜程度不同的两个面，所述倾斜程度不同的两个面之间为转折部，所述转折部穿过所述清洗孔的圆心。
[0141]
在至少一个实施方式中，所述倾斜程度不同的两个面包括水平面和斜面。
[0142]
在至少一个实施方式中，所述斜面的高度随着远离所述转折部而逐渐降低，在水平方向上，所述斜面比所述水平面更靠近所述排出口。
[0143]
该针头用清洗模块包括清洗区，所述清洗区包括：
[0144]
清洗槽，所述清洗槽的底部设置有用于排出液体的排出口；
[0145]
清洗柱，所述清洗柱设置在所述清洗槽中，所述清洗柱中设置有一个或多个清洗孔，所述清洗孔中能够竖直向上地喷出清洗液，且所述清洗液的喷出高度大于所述清洗柱的最高点，
[0146]
所述清洗柱的顶面包括倾斜程度不同的两个面，所述倾斜程度不同的两个面之间为转折部，所述转折部穿过所述清洗孔的圆心。
[0147]
在至少一个实施方式中，所述倾斜程度不同的两个面包括水平面和斜面。
[0148]
在至少一个实施方式中，所述斜面的高度随着远离所述转折部而逐渐降低。
[0149]
在至少一个实施方式中，在水平方向上，所述斜面比所述水平面更靠近所述排出口。
[0150]
在至少一个实施方式中，所述清洗柱的远离所述排出口的一侧设置有弧形面。
[0151]
在至少一个实施方式中，所述清洗槽的底部内面为倾斜的面，并且所述排出口位于所述清洗槽的底部内面的最低点。
[0152]
在至少一个实施方式中，所述针头用清洗模块包括清洗液供应源，所述清洗液供应源连接于所述清洗孔，所述清洗液供应源与所述清洗孔之间设置有止回阀。
[0153]
在至少一个实施方式中，所述针头用清洗模块还包括干燥区，所述干燥区包括干燥块、底座和导轨，
[0154]
所述底座滑动安装于所述导轨，所述干燥块连接于所述底座，所述干燥块抵靠于所述清洗槽。
[0155]
本技术提供的移液点样工作站包括如上所述的清洗模块；以及
[0156]
液滴模块，所述液滴模块能够吸取及喷出液体，所述液滴模块包括针头，
[0157]
在所述针头移动到所述清洗孔而被清洗时，所述针头位于所述清洗柱的最高点的上方。
[0158]
在至少一个实施方式中，移液点样工作站包括如上所述的清洗模块；以及
[0159]
点样工位模块，所述干燥区位于所述点样工位模块与所述清洗区之间。
[0160]
该液滴模块用于吸入及喷出液体，所述液滴模块包括气源控制器和液滴模块主体，所述液滴模块主体通过所述气源控制器连接于气源，
[0161]
所述液滴模块主体包括针头，所述针头连通于外界环境，所述液滴模块被设置成通过控制气压而控制所述针头吸入及喷出液体，
[0162]
所述针头包括流道壁和位于所述流道壁中的流路，在沿着所述针头的轴线的截面中，所述流道壁的腰线与所述轴线的夹角为α，α满足：α≤30
°
。
[0163]
在至少一个实施方式中，所述液滴模块还包括：
[0164]
壳体结构，所述壳体结构中设置有流道，所述流道的一端连接于所述气源控制器，所述流道的另一端通断可控地连接于所述针头；以及
[0165]
流道控制结构，所述流道控制结构包括密封塞，所述流道控制结构通过控制所述密封塞堵塞或不堵塞所述针头与所述流道的连接位置而控制所述流道的另一端与所述针头的通断。
[0166]
在至少一个实施方式中，所述流道包括：
[0167]
第一流道，所述第一流道的一端连接于所述气源控制器；
[0168]
第二流道，所述第二流道的横截面为圆环，所述第二流道的一端连接于所述第一流道的另一端；
[0169]
第三流道，所述第三流道的第一端的结构为空心圆柱，所述第三流道的所述第一端连接于所述第二流道的另一端，所述第三流道的第二端沿其径向向内偏折，所述第三流道的所述第二端的横截面为圆环，在所述密封塞不堵塞时，液体能够流经所述第二端和所述针头。
[0170]
在至少一个实施方式中，所述流道控制结构还包括密封塞移位装置，所述密封塞移位装置包括连接件和主体，所述密封塞设置于所述连接件的端部，所述连接件可移动地连接于所述主体，所述主体被设置成能够使所述连接件进行轴向运动，
[0171]
所述密封塞移位装置和所述密封塞设置于所述第三流道的中心空腔中，所述密封塞被所述连接件推动抵靠于所述针头时，所述密封塞阻挡所述第三流道与所述针头的连通。
[0172]
在至少一个实施方式中，所述壳体结构中设置有挡板结构，所述挡板结构包括第一挡板，所述第一挡板中设置有供所述第三流道和所述连接件穿过的孔，所述密封塞的直径大于所述连接件的直径，
[0173]
在所述密封塞远离所述针头运动后，所述密封塞抵靠于所述第一挡板，所述第一挡板与所述针头之间形成密封空间。
[0174]
在至少一个实施方式中，所述壳体结构中设置有挡板结构，所述挡板结构包括第二挡板，所述第二挡板设置于所述第二流道和所述第三流道的连接处，所述密封塞移位装置的所述主体连接于所述第二挡板。
[0175]
在至少一个实施方式中，α≤10
°
。
[0176]
在至少一个实施方式中，所述流路的直径为r1，所述流道壁的端面的直径为r2，满足：
[0177]
130μm≤r1≤250μm；
[0178]
350μm≤r2≤700μm。
[0179]
本技术提供的移液点样工作站包括：
[0180]
如上所述的液滴模块；以及
[0181]
清洗模块，所述清洗模块包括清洗区，
[0182]
所述清洗区包括：
[0183]
清洗槽，所述清洗槽的底部设置有用于排出液体的排出口；
[0184]
清洗柱，所述清洗柱设置在所述清洗槽中，所述清洗柱中设置有一个或多个清洗孔，所述清洗孔中能够竖直向上地喷出清洗液，且所述清洗液的喷出高度大于所述清洗柱的最高点。
[0185]
在至少一个实施方式中，所述清洗柱的顶面包括倾斜程度不同的两个面，所述倾斜程度不同的两个面之间为转折部，所述转折部穿过所述清洗孔的圆心。
[0186]
该点样工位模块包括第一基座，所述第一基座中设置有安装槽，所述安装槽中设置有在所述第一基座的厚度方向上贯穿所述第一基座的通孔，所述安装槽为矩形，所述安装槽的四角中的至少一角设置有第一冗余空间。
[0187]
在至少一个实施方式中，所述安装槽的两组对边中的至少一组对边分别设置有第二冗余空间。
[0188]
在至少一个实施方式中，所述点样工位模块还包括基柱和第二基座，所述第一基座通过所述基柱能拆卸地连接于所述第二基座。
[0189]
本技术提供的移液点样工作站包括：如上所述的点样工位模块；
[0190]
液滴模块，所述液滴模块包括能够受控吸取及喷出液体的针头；以及
[0191]
清洗模块，所述清洗模块能够清洗所述液滴模块的所述针头。
[0192]
在至少一个实施方式中，所述清洗模块包括清洗区，所述清洗区包括：
[0193]
清洗槽，所述清洗槽中设置有用于排出液体的排出口；
[0194]
清洗柱，所述清洗柱设置在所述清洗槽中，所述清洗柱中设置有一个或多个清洗孔，所述清洗孔中能够竖直向上地喷出清洗液，且所述清洗液的喷出高度大于所述清洗柱的最高点。
[0195]
在至少一个实施方式中，所述清洗柱的顶面包括倾斜程度不同的两个面，所述倾斜程度不同的两个面之间为转折部，所述转折部穿过所述清洗孔的圆心。
[0196]
在至少一个实施方式中，所述倾斜程度不同的两个面包括水平面和斜面。
[0197]
在至少一个实施方式中，所述斜面的高度随着远离所述转折部而逐渐降低。
[0198]
在至少一个实施方式中，所述斜面比所述水平面更远离所述点样工位模块。
[0199]
在至少一个实施方式中，所述针头包括流道壁和位于所述流道壁中的流路，在沿着所述针头的轴线的截面中，所述流道壁的腰线与所述轴线的夹角为α，α满足：α≤30
°
，所述流路的横截面为圆形。
[0200]
在至少一个实施方式中，所述清洗模块包括干燥区，所述干燥区包括干燥块、底座和导轨，所述底座滑动安装于所述导轨，所述干燥块连接于所述底座，所述干燥块抵靠于所
述清洗槽。