一种偏光膜缺陷光学检测系统的制作方法

1.本实用新型涉及偏光膜缺陷检测，特别地是，一种偏光膜缺陷光学检测系统。


背景技术：

2.涂布工艺段的偏光膜在加工过程中易出现膜面局部翘曲缺陷（诸如，气纹部或凹凸部）。目前所使用的检测方法是质检人员通过肉眼直接观察偏光膜的膜面。缺点在于，效率低且误检率较高。


技术实现要素：

3.本实用新型要解决现有技术采用直接观察方法检测涂布工艺段的偏光膜的膜面局部翘曲缺陷引起的问题，提供一种新型的偏光膜缺陷光学检测系统。
4.为了实现这一目的，本实用新型的技术方案如下：一种偏光膜缺陷光学检测系统，用于检测涂布工艺段的偏光膜是否存在膜面局部翘曲缺陷，所述偏光膜缺陷光学检测系统包括：固定机架、面板光源及面阵相机，所述固定机架被固定于所述涂布工艺段，所述面板光源与所述面阵相机均位于所述偏光膜上方并且被固定于所述固定机架，所述面板光源位于所述偏光膜的入射侧，所述面板光源的法线方向与所述偏光膜的法线方向所形成的夹角为45
°
，所述面板光源的出光面覆盖有光栅条纹部，所述面阵相机位于所述偏光膜的出射侧，所述面阵相机的法线方向与所述偏光膜的法线方向所形成的夹角为45
°
，所述面阵相机用于采样所述面板光源在所述偏光膜的成像。
5.若所述面阵相机采样到的图像所呈现的是均匀的条纹，则表示所述偏光膜不存在所述膜面局部翘曲缺陷。若所述面阵相机采样到的图像所呈现的是扭曲的条纹，则表示所述偏光膜存在所述膜面局部翘曲缺陷。
6.作为一种偏光膜缺陷光学检测系统的优选方案，所述膜面局部翘曲缺陷包括：气纹部或凹凸部。
7.作为一种偏光膜缺陷光学检测系统的优选方案，所述光栅条纹部为等间距布置的斜向的条纹。进一步地，所述光栅条纹部的条纹宽度设置为0.5mm，条纹间隔设置为0.5mm，条纹斜向角度设置为45
°
。
8.与现有技术相比，本实用新型的有益效果至少在于：若面阵相机采样到的图像所呈现的是扭曲的条纹倒影，则表示偏光膜存在膜面局部翘曲缺陷。相对于直接观察，通过面阵相机采样到的图像能够较为容易地快速地发现膜面局部翘曲缺陷。
9.除了上面所描述的本实用新型解决的技术问题、构成技术方案的技术特征以及由这些技术方案的技术特征所带来的有益效果之外，本实用新型所能解决的其他技术问题、技术方案中包含的其他技术特征以及这些技术特征带来的有益效果，将连接附图作出进一步详细的说明。
附图说明
10.图1为本实用新型的结构主视图。
11.图2为本实用新型的结构侧视图。
12.图3为本实用新型中面板光源的结构主视图。
13.图4为本实用新型中面板光源的结构侧视图。
14.图5为本实用新型中光栅条纹部的结构示意图。
15.图6为本实用新型中面阵相机采样到的图像的示意图1。
16.图7为本实用新型中面阵相机采样到的图像的示意图2。
具体实施方式
17.下面通过具体的实施方式结合附图对本实用新型作进一步详细说明。在此需要说明的是，对于这些实施方式的说明用于帮助理解本实用新型，但不构成对本实用新型的限定。此外，下面所描述的本实用新型各个实施方式中所涉及到的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。
18.请参见图1至2，图中示出的是一种偏光膜缺陷光学检测系统，用于检测涂布工艺段的偏光膜100是否存在膜面局部翘曲缺陷。所述膜面局部翘曲缺陷包括但不限于气纹部、凹凸部。
19.所述偏光膜缺陷光学检测系统包括：固定机架1、面板光源2及面阵相机3。
20.所述固定机架1被固定于所述涂布工艺段。
21.所述面板光源2与所述面阵相机3均位于所述偏光膜100上方并且被固定于所述固定机架1。
22.请参见图3至4，图中示出的是所述面板光源2。所述面板光源2位于所述偏光膜100的入射侧。所述面板光源2的法线方向与所述偏光膜100的法线方向所形成的夹角为45
°
。所述面板光源2的出光面覆盖有光栅条纹部20。所述光栅条纹部20是印刷在所述面板光源2的出光面，或制备成膜结构贴附于所述面板光源2的出光面。
23.请参见图5，所述光栅条纹部20的条纹间隔部分是透光区，所述光栅条纹部20的条纹部分是非透光区。所述光栅条纹部20的条纹间隔根据需要检测缺陷的大小进行定制。一般地，所述光栅条纹部20的条纹间隔不大于需要检测缺陷的最小宽度。较佳地，所述光栅条纹部20为等间距布置的斜向的条纹。本实施例中，所述光栅条纹部20的条纹宽度设置为0.5mm，条纹间隔设置为0.5mm，条纹斜向角度设置为45
°
。
24.所述面阵相机3位于所述偏光膜100的出射侧。所述面阵相机3的法线方向与所述偏光膜100的法线方向所形成的夹角为45
°
。所述面阵相机3用于采样所述面板光源2在所述偏光膜100的成像。
25.工作原理：正常情形下，在所述面板光源2的打光作用下，所述偏光膜100表面形成有清晰的明暗间隔的条纹倒影。若所述面阵相机3采样到的图像所呈现的是扭曲的条纹倒影，如图4和5所示，则表示所述偏光膜存在所述膜面局部翘曲缺陷。
26.以上仅表达了本实用新型的实施方式，其描述较为具体和详细，但且不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的后提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保
护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。


技术特征：
1.一种偏光膜缺陷光学检测系统，用于检测涂布工艺段的偏光膜是否存在膜面局部翘曲缺陷，其特征在于，所述偏光膜缺陷光学检测系统包括：固定机架、面板光源及面阵相机，所述固定机架被固定于所述涂布工艺段，所述面板光源与所述面阵相机均位于所述偏光膜上方并且被固定于所述固定机架，所述面板光源位于所述偏光膜的入射侧，所述面板光源的法线方向与所述偏光膜的法线方向所形成的夹角为45
°
，所述面板光源的出光面覆盖有光栅条纹部，所述面阵相机位于所述偏光膜的出射侧，所述面阵相机的法线方向与所述偏光膜的法线方向所形成的夹角为45
°
，所述面阵相机用于采样所述面板光源在所述偏光膜的成像。2.根据权利要求1所述的一种偏光膜缺陷光学检测系统，其特征在于，所述膜面局部翘曲缺陷包括：气纹部或凹凸部。3.根据权利要求1所述的一种偏光膜缺陷光学检测系统，其特征在于，所述光栅条纹部为等间距布置的斜向的条纹。4.根据权利要求3所述的一种偏光膜缺陷光学检测系统，其特征在于，所述光栅条纹部的条纹宽度设置为0.5mm，条纹间隔设置为0.5mm，条纹斜向角度设置为45
°
。

技术总结
本实用新型公开一种偏光膜缺陷光学检测系统，所述偏光膜缺陷光学检测系统包括：固定机架、面板光源及面阵相机，所述固定机架被固定于所述涂布工艺段，所述面板光源与所述面阵相机均位于所述偏光膜上方并且被固定于所述固定机架，所述面板光源位于所述偏光膜的入射侧，所述面板光源的出光面覆盖有光栅条纹部，所述面阵相机位于所述偏光膜的出射侧，所述面阵相机用于采样所述面板光源在所述偏光膜的成像。本实用新型的有益效果在于：通过面阵相机采样到的图像能够较为容易地快速地发现膜面局部翘曲缺陷。面局部翘曲缺陷。面局部翘曲缺陷。


技术研发人员：朱兆杰 陈礼诚 金若安 曹海东 陈旺 孙浩益 吴小华
受保护的技术使用者：杭州利珀科技有限公司
技术研发日：2022.01.28
技术公布日：2022/8/2