检测系统的制作方法

本公开涉及一种检测系统，特别涉及一种检测涂布不均的检测系统。

背景技术：

1、在自动化工艺的技术中，会由传输装置传送批量的基板通过各个工艺，例如，清洗、光刻胶涂布、烘烤、显影等设备进行产品制造。

2、在这样的情形下，若光刻胶涂布工艺下的瑕疵未能被准确识别且实时的检验出，会导致同一批工艺的基板发生瑕疵的风险扩大，造成机台生产无效以及生产成本提高。因此，如何提供一种检测系统以提升上述瑕疵的识别度为本领域中重要的议题。

技术实现思路

1、本公开文件提供一种检测系统，检测系统包含壳体、影像感测装置、光源以及影像处理主机。壳体设置于传输装置之上。传输装置用以传送基板。基板的上表面具有涂布层。影像感测装置设置于壳体内，并且悬置于传输装置之上。影像感测装置用以在传输装置传送基板通过影像感测装置的视野期间，获取多个连续画面。光源设置于壳体内，并且悬置于传输装置之上。光源具有峰值波长，并且峰值波长关联于基板的涂布层的吸光度。影像处理主机用以依据该些连续画面判断基板的涂布层是否具有垂直线瑕疵以输出检测结果。

2、综上所述，本公开的检测系统采用与基板上涂布层的吸光度关联的光源，可大幅提高基板的涂布层上的瑕疵的可见度，从而提升涂布层上的瑕疵的检测精度。

技术特征：

1.一种检测系统，包含：

2.如权利要求1所述的检测系统，其中在该峰值波长内，该涂布层的吸光度小于一临界值。

3.如权利要求2所述的检测系统，其中该临界值是0.1l/(g·cm)。

4.如权利要求1所述的检测系统，其中该影像感测装置设置在相对于该光源的出光方向的暗处。

5.如权利要求1所述的检测系统，其中该光源是钠灯。

6.如权利要求1所述的检测系统，其中该光源的该峰值峰值波长于545～615纳米的范围内。

7.如权利要求1所述的检测系统，其中该影像感测装置是面阵cmos扫描相机。

8.如权利要求1所述的检测系统，还包含：

9.如权利要求1所述的检测系统，还包含：

10.如权利要求9所述的检测系统，其中该影像处理主机更用以于该差分影像中的一拦检区域检测一灰阶变化，以判断该基板上的该涂布层是否具有该垂直线瑕疵。

技术总结
检测系统包含壳体、影像感测装置、光源以及影像处理主机。壳体设置于传输装置之上。传输装置用以传送基板。基板的上表面具有涂布层。影像感测装置设置于壳体内，并且悬置于传输装置之上。影像感测装置用以在传输装置传送基板通过影像感测装置的视野期间，获取多个连续画面。光源设置于壳体内，并且悬置于传输装置之上。光源具有峰值波长，并且峰值波长关联于基板上的涂布层的吸光度。影像处理主机用以依据该些连续画面判断基板的涂布层是否具有垂直线瑕疵以输出检测结果。

技术研发人员：陈建宏,陈东义,张宝鸿,朱宗伯,赖庆峰
受保护的技术使用者：友达光电股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13